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[发明专利]研磨装置及研磨方法-CN202080060537.0在审
发明人：高桥信行;木下将毅 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明关于一种一边通过分析来自研磨垫上的基板的反射光来检测基板的膜厚，一边研磨该基板的研磨装置及研磨方法。研磨装置具备：研磨台(3)，其支承具有通孔(61)的研磨垫(2)；垫高度测定装置(32)，其测定研磨面(2a)的高度；纯水供给管线(63)及纯水吸引管线(64)，其连结于通孔(61)；流量调节装置(71)，其连接于纯水供给管线(63)；及动作控制部(35)，其控制流量调节装置(71)的动作。动作控制部(35)根据相关数据决定与研磨面(2a)的高度的测定值对应的纯水的流量，并以控制流量调节装置(71)的动作，以使纯水以决定的流量在纯水供给管线(63)中流动。
研磨装置方法

[发明专利]泵装置-CN202080060005.7在审
发明人：川崎裕之;宫本考之;秀仓美和;金会川;山崎贤;范新帅 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-06-10 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： F04D13/06 文献下载
摘要：本发明涉及用于移送液体的泵装置。泵装置包括：泵(1)，其具有叶轮(5)；电动机(7)，其用于使叶轮(5)旋转；以及逆变器(10)，其用于对电动机(7)进行可变速驱动。叶轮(5)在预先设定的排出流量范围(R)内具有非极限负荷特性。逆变器(10)构成为，在预先设定的目标运转点(TO)，以比与商用电源的电力频率相当的旋转速度高的旋转速度来驱动电动机(7)。
装置

[发明专利]镀覆装置、气泡除去方法、以及存储介质-CN202111142362.0在审
发明人：辻一仁;下山正 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： C25D17/02 文献下载
摘要：本发明涉及镀覆装置、气泡除去方法、以及存储介质，本发明抑制在向镀覆槽加液时气泡停滞在电阻体的背面。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(410)；基板保持件(440)，用于将基板(Wf)保持为被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的状态；升降机构(442)，用于使基板保持件(440)升降；阳极(430)，配置在镀覆槽(410)内，以便与由基板保持件(440)保持的基板(Wf)对置；电阻体(450)，配置在阳极(430)与基板(Wf)之间；供给配管(460)，用于将储存于贮槽的处理液从比电阻体(450)靠下方的位置供给到镀覆槽(410)；以及旁通配管(462)，用于将经由供给配管(460)供给至镀覆槽(410)的处理液从比电阻体(450)靠下方的位置排出到贮槽。
镀覆装置气泡除去方法以及存储介质

[发明专利]气体溶解液供给装置及由气体溶解液供给装置执行的方法-CN202111158227.5在审
发明人：小泽卓;荒木裕二;渡边敏史;中川洋一;木村梨沙;徐涛 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： B01F23/20 文献下载
摘要：本发明提供一种能够实现气体溶解液的高浓度化，能够抑制气体溶解液的送出压力的变动的气体溶解液供给装置及由气体溶解液供给装置执行的方法。气体溶解液供给装置(1)具备：积存气体溶解液的第一气液分离器(8)、设置于第一气液分离器的后段并积存向使用点供给的气体溶解液的第二气液分离器(16)、设置于第一气液分离器和第二气液分离器之间的中间线路(17)、设置于中间线路并使从第一气液分离器向第二气液分离器供给的气体溶解液的压力上升的升压泵(18)、供给成为气体溶解液的原料的气体的气体供给线路(2)、设置于中间线路并使从气体供给线路供给的气体溶解于从第一气液分离器供给的气体溶解液的气体溶解部(20)。
气体溶解供给装置执行方法

[发明专利]基板清洗方法及基板清洗装置-CN202080057950.1在审
发明人：小寺健治;内山圭介;山本晓;山野边北斗 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-07-13 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明关于一种清洗晶片等的基板的基板清洗方法及基板清洗装置。在基板清洗方法中，由多个保持辊(6)保持基板(W)的周缘部，通过使多个保持辊(6)以各自轴心为中心旋转，从而使基板(W)以其轴心为中心旋转，一边使双流体喷流喷嘴(2)在基板(W)的半径方向移动，一边将由第一液体与气体的混合物构成的双流体喷流从双流体喷流喷嘴(2)导入基板(W)的表面，在将双流体喷流导入基板(W)的表面时，将由第二液体构成的扇状喷流从喷雾喷嘴(3)导入基板(W)的表面，在基板(W)的表面上形成第二液体的液流。扇状喷流从双流体喷流离开。
清洗方法装置

[发明专利]泵装置-CN202080059738.9在审
发明人：驹井正和;平本和也;八木薫;山田诚一郎 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-08-26 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： F04D13/06 文献下载
摘要：提出能够谋求节省空间化、并且操作性优异的泵装置。泵装置(10)具备：配管状的壳体(20)，其具有配置成同一直线状的吸入口(26)和排出口(27)，并划定将所述吸入口和所述排出口连接的流路；马达，其配置于所述壳体的内部，具有沿着从所述吸入口朝向所述排出口的流路方向的旋转轴(31)、与所述旋转轴一体地旋转的转子(32)、设置于所述转子的外周侧的定子(33)、和将供所述转子配置的转子室与供所述定子配置的定子室隔离的屏蔽套(36)；以及变频器(51)，其配置于所述壳体的内部，用于变速控制所述马达。
装置

[发明专利]镀覆装置-CN202111141657.6在审
发明人：辻一仁 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C25D17/02 文献下载
摘要：本发明涉及镀覆装置。本发明提供一种能够抑制气泡滞留在电场遮蔽板的下表面的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)；基板保持件(30)；以及电场遮蔽板(60)，配置于镀覆槽的内部的阳极(50)与基板(Wf)之间的部分，遮蔽在阳极与基板之间形成的电场的一部分，在俯视观察电场遮蔽板时，在镀覆槽的内部设置有未被电场遮蔽板遮蔽的非遮蔽区域(70)，在电场遮蔽板的下表面(61a)设置有倾斜面，该倾斜面相对于水平方向倾斜，并且构成为将存在于该下表面的气泡释放到非遮蔽区域。
镀覆装置

[发明专利]镀覆装置的气泡除去方法以及镀覆装置-CN202111142354.6在审
发明人：辻一仁;张绍华;下山正 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明涉及镀覆装置的气泡除去方法以及镀覆装置。本发明提供一种能够抑制因滞留在隔膜的下表面的气泡而导致基板的镀覆品质变差的技术。镀覆装置的气泡除去方法是将具备镀覆槽(10)和基板保持件(30)的镀覆装置(1000)中的阳极室(13)的气泡除去的气泡除去方法，其包括：从设置于阳极室的外周部(12)的至少一个供给口(70)向阳极室供给镀覆液(Ps)，使以与供给口对置的方式设置于阳极室的外周部的至少一个排出口(71)吸入该供给的镀覆液，由此在阳极室中的隔膜(61)的下表面(61a)形成沿着该下表面的镀覆液的剪切流(Sf)。
镀覆装置气泡除去方法以及

[发明专利]基板清洗装置-CN201810258200.5有效
发明人：樱井武史;平井英治;滨浦薰;宫崎充;丸山浩二 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2014-07-18 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明要求保护基板清洗装置。基板清洗机(1)具有：对基板进行保持的基板保持装置(10)；第1清洗装置(11)，其具有第1清洗部件(11a)，使该第1清洗部件与由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；第2清洗装置(12)，其具有第2清洗部件(12a)，使该第2清洗部件与基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；以及控制装置(50)，其将第1、2清洗装置(11、12)控制成，当第1清洗部件(11a)及第2清洗部件(12a)中的一方对由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)进行清洗时，使另一方处于离开基板(W)的位置。采用本发明，能用清洁的清洗部件进行清洗并能提高处理量。
清洗装置

[发明专利]镀覆装置以及镀覆方法-CN201811183566.7有效
发明人：张绍华;平尾智则 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2018-10-11 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： C25D21/10 文献下载
摘要：提供一种对基板进行镀覆的镀覆装置，降低由叶片的动作产生的镀覆液的液面的摆动。该镀覆装置具有：镀覆槽，该镀覆槽构成为收容镀覆液；叶片，该叶片配置于所述镀覆槽内，且构成为对所述镀覆液进行搅拌；以及液面摆动降低部件，该液面摆动降低部件配置于所述镀覆槽内，且具有供所述镀覆液通过的流路，该液面摆动降低部件使通过所述流路的所述镀覆液的流速上升而使所述镀覆液所形成的波的能量衰减。
镀覆装置以及方法

[发明专利]基板保持架、镀覆装置、以及基板保持架的制造方法-CN202210014651.0在审
发明人：宫本松太郎;向山佳孝 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2017-09-07 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明的基板保持架具备夹持基板的第一保持部件及第二保持部件，所述第一保持部件具有：第一保持部件主体；一端部除去了被覆的至少一条线缆；以能够与所述基板电接触的方式构成的至少一个第一导电部件；和夹持部件，其设于所述第一保持部件主体上，构成为将所述线缆的所述一端部、同所述第一导电部件或与所述第一导电部件电导通的第二导电部件一起夹持。
保持镀覆装置以及制造方法

[发明专利]涡电流传感器的校准方法和研磨装置控制部-CN201810385500.X有效
发明人：中村显 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： B24B49/10 文献下载
摘要：提供一种不剥离研磨垫就能够进行校准的涡电流传感器的校准方法。当将研磨对象物向研磨面按压而进行研磨时，为了利用涡电流传感器来对研磨对象物的膜厚进行测定而求出研磨对象物的膜厚与涡电流传感器的测定值之间的对应关系的涡电流传感器。该方法在第一步骤中，在使膜厚已知的研磨对象物与研磨面接触了的状态下，对涡电流传感器的输出进行测定，从而求出与该膜厚对应的涡电流传感器的测定值。在第二步骤中，当将研磨对象物向研磨面按压而进行研磨时，对涡电流传感器的输出进行测定，从而求出与研磨时的膜厚对应的涡电流传感器的测定值。根据第一步骤的测定值和第二步骤的测定值而求出研磨对象物的膜厚与涡电流传感器的测定值之间的对应关系。
电流传感器校准方法研磨装置控制

[发明专利]基板清洗装置和基板处理装置-CN201710081701.6有效
发明人：今村听;宫崎充;国泽淳次;松泽俊介 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2017-02-15 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：基板清洗装置具有：清洗部件(11、21)，其与基板(W)抵接而进行该基板(W)的清洗；部件旋转部(15、25)，其使所述清洗部件(11、21)旋转；按压驱动部(19、29)，其将所述清洗部件(11、21)向所述基板(W)按压；转矩检测部(16、26)，其对施加给所述部件旋转部(15、25)的转矩进行检测；以及控制部(50)，其根据来自所述转矩检测部(16、26)的检测结果来控制所述按压力。
清洗装置处理

[发明专利]泵装置、电动机组装体及确定电动机组装体异常振动的方法-CN202111548805.6在审
发明人：西村和马 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2018-12-26 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： F04D15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够更准确地确定异常振动发生的泵装置。泵装置(200)包括：泵(50)；驱动泵(50)的电动机(3)；作为电动机(3)的变速机构的变频器(22)；检测泵(50)的振动、电动机(3)的振动及变频器(20)的振动中的至少一个振动的振动检测器；以及对泵(50)进行控制的控制装置(23)。控制装置(23)具有存储利用振动检测器测定的计测振动值的存储部(60)。存储部(60)具有存储使泵(50)的转速分段上升至规定转速的各阶段的计测振动值的存储表。
装置电动机组装确定异常振动方法

[发明专利]泵装置-CN202080054953.X在审
发明人：平本和也;矶野美帆;小川孝彦 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-08-28 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： F04D15/00 文献下载
摘要：本发明涉及汲取液体的泵装置，尤其涉及用于在叶轮咬入液体中含有的异物时除去该异物的技术。泵装置具有叶轮(1)、使叶轮(1)旋转的电动机(7)、驱动电动机(7)的变频器(14)、测量向电动机(7)供给的电流的电流测量器(15)、以及向变频器(14)给予指令以使叶轮执行异物除去动作的动作控制部(17)。异物除去动作包括使叶轮(1)正向间歇性旋转的间歇运行、以及使叶轮(1)交替重复反向旋转及正向旋转的正反微动运行中的至少两种。
装置