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- [发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202310315528.7在审
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平野整;柳泽博隆;影山明久
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精工爱普生株式会社
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2023-03-28
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2023-10-17
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G03B21/14
- 本发明提供投射光学系统和投影仪，即使广角化也能够抑制倍率色差的产生。投射光学系统从放大侧朝向缩小侧按顺序具有：具有屈光力的第1透镜组；孔径光阑；以及具有屈光力的第2透镜组。第1透镜组具有：第1透镜，其配置于最靠放大侧；第2透镜，其配置于第1透镜的缩小侧；以及多个正透镜，它们配置于比第2透镜靠缩小侧，具有正的屈光力。比第2透镜组的最靠缩小侧的缩小侧透镜靠缩小侧是远心的。在将第1透镜和第2透镜中的一个透镜的部分色散比设为LnθgF、整个透镜系统的最大半视场角设为ω时，满足以下的条件式(1)和(2)：LnθgF≥0.6(1)ω＞40°(2)。
- 投射光学系统投影仪
- [发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202310321315.5在审
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平野整;峯藤延孝;柳泽博隆;影山明久
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精工爱普生株式会社
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2023-03-28
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2023-10-17
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G03B21/14
- 本发明提供投射光学系统和投影仪，投射光学系统能够实现广角化和小型化。投射光学系统从放大侧朝向缩小侧按顺序具备具有正的屈光力的第1透镜组、孔径光阑、和具有正的屈光力的第2透镜组。比第2透镜组的最靠缩小侧的缩小侧透镜靠缩小侧是远心的。在将整个透镜系统的最大半视场角设为ω、从光轴到由图像形成元件形成的投射图像的最大像高为止的距离设为YIM、在通过第1透镜组的最靠放大侧的放大侧透镜的放大侧透镜面顶点并且与光轴垂直的假想平面上从光轴到最大像高的主光线为止的距离设为YL1时，满足以下的条件式(1)和(2)：ω＞40°(1)YL1/YIM＜6.0(2)。
- 投射光学系统投影仪
- [发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202310313263.7在审
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平野整;柳泽博隆;影山明久
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精工爱普生株式会社
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2023-03-28
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2023-10-17
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G03B21/14
- 投射光学系统和投影仪，即使广角化也能够抑制倍率色差的产生。投射光学系统具有第1透镜组、孔径光阑和第2透镜组。比第2透镜组靠缩小侧是远心的。第1透镜组具备具有负的屈光力的第1子透镜组和具有正的屈光力的第2子透镜组。在第1子透镜组的最靠缩小侧的透镜与第2子透镜组的最靠放大侧的透镜之间，设置有比其他相邻的透镜彼此的空气间隔宽的空气间隔。在第1透镜组中最靠缩小侧的透镜是正透镜。第2透镜组的接合透镜从放大侧朝向缩小侧按顺序由具有负的屈光力的第1透镜、具有正的屈光力的第2透镜、以及具有负的屈光力的第3透镜构成。在将整个透镜系统的最大半视场角设为ω时，满足以下的条件式(1)：ω＞40°(1)。
- 投射光学系统投影仪
- [发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202310078135.9在审
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柳泽博隆;峯藤延孝;平野整
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精工爱普生株式会社
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2023-01-17
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2023-07-21
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G03B21/28
- 投射光学系统和投影仪，是与以往相比能够小型化的短焦点的投射光学系统。投射光学系统从缩小侧朝向放大侧按顺序具有第1和第2光学系统。第2光学系统从缩小侧朝向放大侧按顺序具有：光学元件，其具有凹形状的反射面；第1透镜，其具有负的屈光力。在设第1透镜的最大半径为LL、反射面的最大半径为MR、从光轴到图像形成元件的最大像高的第1距离为imy、从光轴到放大像的最大像高的第2距离除以第1距离而得的投射倍率为M、投射距离除以第2距离而得的投射比为TR、图像形成元件的数值孔径为NA时，满足以下的条件式(1)和(2)：3.5≤(LL+MR)/imy×TR×(1/NA)≤6.0···(1)TR≤0.2···(2)。
- 投射光学系统投影仪
- [发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202310071694.7在审
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柳泽博隆
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精工爱普生株式会社
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2023-01-17
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2023-07-21
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G03B21/28
- 投射光学系统和投影仪，投射光学系统是与以往相比能够小型化的短焦点的投射光学系统。投射光学系统从缩小侧朝向放大侧按顺序具有第1和第2光学系统。第2光学系统从缩小侧朝向放大侧按顺序具有：光学元件，其具有凹形状的反射面；第1透镜，其具有负的屈光力。在设从图像形成元件到反射面的轴上面间隔为OAL、从光轴到图像形成元件的最大像高的第1距离为imy、第1透镜的最大半径为LL、投射距离除以从光轴到放大像的最大像高的第2距离而得到的投射比为TR、图像形成元件的数值孔径为NA时，满足以下的条件式(1)和(2)的全部。TR≤0.3(1)35≤(OAL/imy)×(LL/imy)×TR×(1/NA)≤60(2)。
- 投射光学系统投影仪
- [发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202110087257.5有效
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柳泽博隆
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精工爱普生株式会社
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2021-01-22
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2023-02-28
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G03B21/14
- 投射光学系统和投影仪，能够缩短投射距离。投射光学系统具有：第1光学系统；第2光学系统，其具有第1光学元件和第2光学元件，配置于第1光学系统的放大侧；以及配置机构，其选择性地将第1光学元件和第2光学元件中的一方配置于第1光学系统的第1光轴上。第1光学元件具有第1入射面、配置于第1入射面的放大侧的第1反射面、以及配置于第1反射面的放大侧的第1射出面。第2光学元件具有第2入射面、配置于第2入射面的放大侧的第2反射面、以及配置于第2反射面的放大侧的第2射出面。
- 投射光学系统投影仪
- [发明专利]附属光学系统以及投影显示系统-CN202210315918.X在审
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柳泽博隆
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精工爱普生株式会社
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2022-03-29
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2022-10-04
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G02B15/10
- 附属光学系统以及投影显示系统。能够使朝向屏幕的投射光到达投射显示装置的投射光学系统的光轴的延长线上。附属光学系统可装卸地安装在投影显示装置具备的投影光学系统的放大侧，将从投影光学系统射出的投影光投影到与投影光学系统的放大侧成像面不同的成像面上。附属光学系统具有光学元件，该光学元件具有配置在投影光学系统的第1光轴的延长线上的第2光轴。光学元件具有：配置在第2光轴上的入射面；反射从入射面射出的光的第1反射面；反射由第1反射面反射的光的第2反射面；使由第2反射面反射的光透过的出射面。第1反射面和出射面在光通过第2光轴和第1光轴的轴上区域内连续。
- 附属光学系统以及投影显示系统
- [发明专利]附属光学系统以及投影显示系统-CN202210316353.7在审
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柳泽博隆
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精工爱普生株式会社
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2022-03-29
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2022-10-04
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G02B15/10
- 附属光学系统以及投影显示系统。附属光学系统可装卸地安装在投影显示装置具备的投影光学系统的放大侧，将从投影光学系统射出的投影光投影到与投影光学系统的放大侧成像面不同的成像面上。附属光学系统具备具有配置在投影光学系统的第1光轴的延长线上的第2光轴的光学元件。光学元件具有：配置在第2光轴上的入射面；反射从入射面射出的光的第1反射面；反射由第1反射面反射的光的第2反射面；使由第2反射面反射的光透过的出射面。第1反射面和出射面在光通过第2光轴和第1光轴的轴上区域内连续。附属光学系统的成像面与投影光学系统的缩小侧成像面大致平行，投影显示装置具备的光调制元件在缩小侧成像面上形成投影图像。
- 附属光学系统以及投影显示系统
- [发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202110080755.7在审
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柳泽博隆
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精工爱普生株式会社
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2021-01-21
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2021-07-23
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G03B21/14
- 投射光学系统和投影仪。提供能够缩短投射距离的投射光学系统。投射光学系统具有：第1光学系统，其具有第1透镜；以及第2光学系统，其具有光学元件，配置于第1光学系统的放大侧。第1透镜在第1光学系统中配置于最靠放大侧。光学元件具有第1透过面、配置于第1透过面的放大侧的第1反射面、配置于第1反射面的放大侧的第2反射面、以及配置于第2反射面的放大侧的第2透过面。第2反射面在沿着第1光学系统的第1光轴的方向上配置于第1透镜的放大侧的第1面与第1反射面之间。第2透过面在沿着第1光轴的方向上相对于第2反射面配置于与第1光学系统所在的一侧相反的一侧。
- 投射光学系统投影仪
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