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[发明专利]光计算设备和计算方法-CN202210349340.X在审
发明人： 杨佳苗;李静伟;邵荣君;董晓文;丁春旭 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2022-04-01 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G06E3/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种光计算设备和计算方法，属于光计算技术领域。其中，光计算设备包括控制模块、光场调控模块、光计算模块和光场探测模块。控制模块可以将输入数据中的各个元素转换为复数形式，采用光场映射信息表征各个元素对应的复数，得到各个元素的光场映射信息，将各个元素的光场映射信息进行组合，得到输入数据的复振幅光场映射信息。光场调控模块基于通过上述转换过程得到的复振幅光场映射信息输出的光信号，可以对输入数据进行高精度表征。采用高精度表征输入数据的光信号与参数矩阵进行乘法运算，可以提高计算过程的抗干扰能力和计算精度，得到更准确的计算结果。
计算设备计算方法

[实用新型]一种补偿色散DMD投影装置-CN202320915077.6有效
发明人： 杨佳苗;沈阳;邵荣君;王冬梅;何巧芝;曲元 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H04N9/31 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种补偿色散DMD投影装置，包括投影光源、色散棱镜、DMD、投影物镜和投影像面：色散棱镜的一端正对投影光源的输出端，另一端正对DMD的入射端，DMD的出射端正对投影物镜，投影物镜的投影端正对投影像面，色散棱镜的色散角度分布曲线与DMD对光束的衍射角度分布曲线相匹配。与现有技术相比，本实用新型首次提出补偿色散技术，采用色散棱镜使投影光束产生的色散与DMD因衍射效应引起的色散相抵消，具有出光效率更高，投影色彩还原度高、光谱信息完整、图案更清晰的优点。
一种补偿色散 dmd 投影装置

[发明专利]一种补偿色散DMD投影方法-CN202310435279.5在审
发明人： 杨佳苗;沈阳;邵荣君;王冬梅;何巧芝;曲元 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H04N9/31 文献下载
摘要：本发明涉及一种补偿色散DMD投影方法，包括以下步骤：将投影光源出射的包含有不同波长的光束投射到色散棱镜上，使不同波长的光束以不同的入射角度照射在DMD上；根据所需投射的图案对DMD上的各个微镜状态进行控制；由DMD对投射到DMD表面的不同波长的光束进行反射，不同入射角度的不同波长的光束经过DMD反射后以相同的出射角度出射；由DMD反射的不同入射角度的不同波长的光束经投影物镜后在投影面位置上形成所需投射的多波长图案。与现有技术相比，本发明首次提出补偿色散技术，采用色散棱镜使投影光束产生的色散与DMD因衍射效应引起的色散相抵消，具有出光效率更高，投影色彩还原度高、光谱信息完整、图案更清晰的优点。
一种补偿色散 dmd 投影方法

[发明专利]基于相位掩模增强的散射介质传输矩阵测量方法和装置-CN202310851440.7在审
发明人： 杨佳苗;何巧芝;李秋苑;刘林仙;邵荣君;曲元 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2023-07-12 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G01N21/47 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于相位掩模增强的散射介质传输矩阵测量方法和装置，方法包括：生成准直光束并分隔为多个子光束，对各个子光束施加所需相位延迟量，然后合并为一束光，来施加相位掩模因子；改变光束的振幅分布，分别输入多个调控图案，得到多个调控光场；将各个调控光场依次输入散射介质，形成多个散斑图案，并获取振幅分布；调整相位掩模因子，重复执行上述步骤；根据获取的振幅分布，迭代解算散射介质传输矩阵。与现有技术相比，本发明提出通过外植入相位掩模控制模块，增加对相位的约束条件，克服了传统振幅型空间光调制器的非干涉散射介质传输矩阵测量方法难以准确测量传输矩阵相位维度信息的难题，具有测量精度高、测量速度快等优点。
基于相位增强散射介质传输矩阵测量方法装置

[发明专利]一种兼顾动态范围和精度的干涉形貌测量方法-CN202310699835.X在审
发明人： 杨佳苗;邵荣君;沈阳;刘林仙;丁春旭 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2023-06-13 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种兼顾动态范围和精度的干涉形貌测量方法，包括：将激光分为测量光和参考光，测量光照射被测样品表面，并经过被测样品表面调制后形成待测光；将该待测光与参考光干涉，形成干涉图案；改变测量光的角度，使得测量光以不同的入射角照射被测样品，将原本处于高频区域无法探测的被测表面频谱信息依次移动至低频区域并记录在相应干涉图像中；利用频谱拼接算法融合各干涉图像所记录待测光中具有不同频谱偏移的低频信息，恢复被测表面高分辨频谱；利用形貌矫正技术对高分辨频谱解析出三维形貌进行优化，矫正测量和拼接过程中的系统偏差，进而获得被测表面高精度形貌测量结果。与现有技术相比，本发明具有动态范围大、测量精度高、通用性强等优点。
一种兼顾动态范围精度干涉形貌测量方法

[实用新型]散射光场全息三维位移测量装置-CN202122627767.5有效
发明人：闫浩;陈梁友;杨佳苗;马伯乐 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种散射光场全息三维位移测量装置，属于光学精密测量技术领域。本实用新型装置主要由激光器、扩束准直单元、第一分光镜、第二分光镜、第三分光镜、平面镜和相机组成，实现高散射物体三维矢量位移的高速同步测量。
散射全息三维位移测量装置

[实用新型]散射光场全息范围三维位移紧凑型测量装置-CN202122629567.3有效
发明人：闫浩;杨佳苗;马伯乐;陈梁友 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种散射光场全息范围三维位移紧凑型测量装置，包括第一激光器、第二激光器、第一分光镜、第二分光镜、会聚透镜、针孔、第一平面镜、第二平面镜、第三分光镜和相机组成。本实用新型测量装置采用双波长，实现光路复用，结构节凑，适合集成化，简单和实用，且位移测量范围相比于单波长而言更大。
散射全息范围三维位移紧凑型测量装置

[实用新型]散射光场全息范围三维位移测量装置-CN202122629574.3有效
发明人：闫浩;马伯乐;杨佳苗;陈梁友 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种散射光场全息范围三维位移测量装置，本实用新型装置主要由第一激光器、第二激光器、第一分光镜、扩束准直单元、第二分光镜、第三分光镜、第四分光镜、平面镜和相机组成，通过结合散射光场的全息测量和数字图像相关等技术，实现高散射物体三维矢量位移的动态测量。本实用新型测量装置采用双波长，实现光路复用，比现有的基于散射光场的三维位移与位移测量技术更简单和实用，且位移测量范围相比于单波长而言更大。
散射全息范围三维位移测量装置

[发明专利]基于立体视觉引导的目标位置三维形貌高精度快速测量方法和装置-CN202011335835.4在审
发明人： 杨佳苗;沈阳;刘林仙;童强;何巧芝;邵荣君;陈成;邹高宇;马奎 -专利权人：绍兴钜光光电科技有限公司
申请日： 2020-11-25 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明属于光学精密测量技术领域，涉及一种基于立体视觉引导的目标位置三维形貌高精度快速测量方法和装置。本发明提出对被测样品表面先采用立体视觉形貌测量方法进行大范围的三维形貌快速测量；基于该测量数据，得到需高精度测量的局部区域的位置信息；并引导显微三维形貌测量技术对需高精度测量的局部区域表面的形貌进行高精度的测量；最后将两组测量结果进行数据融合，得到被测样品表面的整体全局测量结果和局部高精度测量结果。本发明首次将立体视觉三维形貌测量技术和显微三维形貌测量技术进行融合，具有测量精度高、测量速度快、抗环境干扰能力强等优点，可用于需要对局部区域进行高精度检测的样品的三维形貌测量。
基于立体视觉引导目标位置三维形貌高精度快速测量方法装置

[发明专利]基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法与装置-CN202011312066.6在审
发明人： 杨佳苗;何巧芝;刘林仙;沈阳;龚雷;邹高宇 -专利权人：绍兴钜光光电科技有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明属于散射介质光场调控技术领域，涉及一种基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法与装置。本发明首次提出对入射散射介质内的光场进行具有振幅、相位、偏振等全部光场信息的全光场调控，通过两套光场调控装置对两束不同偏振方向的光束进行调控来不断优化两个复振幅光场，同时调控其相位和振幅信息，通过合束装置将两个复振幅光场合束后生成目标全光场，进而优化经过散射介质扰乱后形成的散斑分布，得到所需形成的聚焦光束。本发明将全光场调控技术运用到散射介质光场光束聚焦中，增加了光场的调控维度，大幅提升散射介质光场调控的质量，解决了目前振幅、相位或偏振单一维度调制方式导致的散射介质内光场调控精度难以显著提高的难题。
基于全光场调控散射介质聚焦方法装置

[发明专利]基于复振幅光场调控的散射介质光场聚焦方法与装置-CN202011315091.X在审
发明人： 杨佳苗;何巧芝;刘林仙;沈阳;龚雷;邹高宇 -专利权人：绍兴钜光光电科技有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明属于散射介质光场调控技术领域，涉及一种基于复振幅光场调控的散射介质光场聚焦方法与装置。本发明首次提出对入射散射介质内的光场进行复振幅调控，通过对相位和振幅同时调控来不断优化目标复振幅光场，进而优化光经过散射介质扰乱后形成的散斑分布，得到所需形成的聚焦光束。同时，本发明还提出利用自然进化策略显著提高了散射介质入射光场波阵面的优化速度，可有效克服散射介质动态变化对光学聚焦造成的影响。本发明将复振幅光场调控技术运用到散射介质光场光束聚焦中，增加了光场调控的维度，大幅提升了散射介质内光场调控的质量，解决了目前振幅或相位单一维度调制方式导致的散射介质内光场调控精度难以显著提高的难题。
基于振幅调控散射介质聚焦方法装置

[发明专利]基于复振幅光场调控技术的三维光束扫描方法与装置-CN202011315092.4在审
发明人： 杨佳苗;刘林仙;邹高宇;龚雷;何巧芝;沈阳;杨程灿 -专利权人：绍兴钜光光电科技有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：本发明属于光场调控与高速扫描技术领域，涉及一种基于复振幅光场调控技术的三维光束扫描方法与装置。本发明首次提出通过使用光场调控技术精确调控光场表达式中含有离焦因子和方向因子的光束，进而实现对光束的高速三维扫描。相较于现有的扫描技术，本发明可生成多个扫描光束对被测样品进行扫描，并且可以在不改变装置的情况下灵活地切换扫描光束的数量。同时，本发明选取数字微镜阵列进行光场调控，很好的保证了扫描的速度。此外，本发明所生成的扫描光束可以进行任意非连续的扫描，产生的扫描角度可以是非连续改变的，并且切换速度非常快，不存在扫描空程问题。
基于振幅调控技术三维光束扫描方法装置

[发明专利]基于复振幅光场调控技术的光束扫描方法与装置-CN202011315093.9在审
发明人： 杨佳苗;邹高宇;武文彬;刘林仙;龚雷;何巧芝;沈阳 -专利权人：绍兴钜光光电科技有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：本发明属于光场调控与高速扫描技术领域，涉及一种基于复振幅光场调控技术的光束扫描方法与装置。本发明首次提出通过使用光场调控技术精确调控光场表达式中含有方向因子的光束，进而实现对光束的高速二维扫描。相较于现有的扫描技术，本发明可生成多个扫描光束对被测样品进行扫描，并且可以在不改变装置的情况下灵活地切换扫描光束的数量。同时，本发明选取数字微镜阵列进行光场调控，很好的保证了扫描的速度。此外，本发明所生成的扫描光束可以进行任意非连续的扫描，产生的扫描角度可以是非连续改变的，并且切换速度非常快，不存在扫描空程问题。
基于振幅调控技术光束扫描方法装置

[发明专利]多波长线共焦显微探测方法与装置-CN202111264040.3在审
发明人： 杨佳苗;陈成;沈阳;邵荣君 -专利权人：绍兴钜光光电科技有限公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明属于线共焦位移测量领域，利用多波长线共焦测量技术，结合物镜的色散特性和多波长分光探测与差分处理技术，实现样品表面位移信息的快速测量。本发明首次提出用波长分光装置将物镜收集的经样品反射的测量光束根据波长分离至不同探测区域，通过对不同波长下的探测线共焦响应强度信息进行相邻波长的线共焦响应强度信息的差分处理，进而得到被测样品表面沿测量光束光轴方向的位移信息。本发明将多波长线共焦技术、透镜的色散、多波长分光探测与差分处理等技术相结合，快速获取被测样品表面位移信息，为实现样品表面轮廓、形貌、形位公差等信息的快速测量提供了一种新思路。
波长线共焦显微探测方法装置

[发明专利]多波长单光纤共焦显微探测方法与装置-CN202111264046.0在审
发明人： 杨佳苗;沈阳;陈成 -专利权人：绍兴钜光光电科技有限公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明属于光学成像与检测领域，可用于微纳精密样品表面形貌的快速测量。本发明结合多波长共焦和物镜的轴向色散，通过公共端光纤提供点光源照明并过滤经样品反射的测量光束，使用波长分光装置分离测量光束中不同波长的光，得到不同波长下共焦响应强度值，进而获取被测样品表面沿测量光束光轴方向的位移信息。采用公共端光纤同时当作照明针孔和探测针孔，无需复杂的共焦光路调整，实现光学系统的自对齐共焦功能；同时在信号处理过程中利用斜率较大的线性区域来替代传统共焦中斜率为零的顶点区域，显著提升探测灵敏度和精度。因此，本发明为微纳样品表面轮廓、形貌等高速高精度测量提供了一种可行途径，将在芯片制造等领域具有重要应用前景。
波长光纤显微探测方法装置

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