专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有非常规发色团的化合物及其制备和应用-CN202210816458.9在审
  • 丁明明;杨丹琦;周业强;刘洋;许倩茹;刘聪聪;李子芬;彭川 - 四川大学
  • 2022-07-12 - 2022-11-08 - C07C275/16
  • 本发明涉及生物医用材料领域,公开一种具有非常规发色团的小分子化合物及其衍生物及其制备方法和应用。本发明提供一种具有非常规发色团的脂肪族小分子化合物及其衍生物,化合物的结构式如式I所示:式I中,中,Y、Z=NH、CH2、O或S;R=X=O或S;R1,R2,R3,R4分别独立地选自:脂肪族基团、脂环族基团,或只包含孤立芳环的基团;所述小分子化合物的衍生物包括:式I所示的小分子化合物的寡聚体衍生物,或含式I所示的小分子结构单元的聚合物衍生物。所得发光材料的结构中完全无芳族或只包含有短程电子离域的小的孤立芳族体系,合成工艺简单,结构可调性好,具有非经典荧光特性,良好的生物相容性,环境友好。
  • 具有常规发色团化合物及其制备应用
  • [发明专利]一种光还原降解组合物及其制备方法和应用-CN202110074802.7有效
  • 丁明明;王昭丁;段芳红;陈浩东;李子芬;谭鸿;傅强 - 四川大学
  • 2021-01-20 - 2021-11-23 - C08L75/04
  • 本发明涉及智能材料技术领域,具体涉及一种光还原降解组合物及其制备方法和应用。本发明提供一种光还原降解组合物,其特征在于,所述光还原降解组合物包括还原敏感高分子和改性还原剂,所述改性还原剂为还原剂与含光敏感基团的物质反应得到的物质;所述光还原降解组合物在外部光刺激的作用下由于光敏感基团的脱除原位产生还原剂,该还原剂进一步与还原敏感高分子发生反应使得所述还原敏感高分子实现了还原降解。所得光还原降解组合物在正常还原性生理环境中能够响应细胞内水平的GSH实现还原敏感高分子的还原降解;而在缺乏还原剂的情况下,该光还原降解组合物可以在光照条件原位产生还原剂分子,同样能够实现还原敏感高分子的还原降解。
  • 一种光还原降解组合及其制备方法应用

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