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[实用新型]一种晶圆快速干燥装置-CN202320986750.5有效
发明人：孙雪峰;肖凌峰;黎恩源 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及的晶圆快速干燥装置，其包括具有晶圆定位腔的定位槽、抽气泵、气液分离单元，气液分离单元包括具有分离腔的分离罐、连通分离腔和定位腔的输送管道、排液管道、排气管道，其中排液管道与分离腔的底部连通，排气管道具有自下而上插入分离腔内的内置管、位于分离腔外的外置管，内置管上套设有阻隔件，且阻隔件与分离罐的内壁之间形成环形气流通过区、与内置管的外壁之间形成阻碍液滴向上流动的环形阻隔区；输送管道的一端部自分离罐的侧壁插入分离腔，且一端部位于阻隔区的下方。本实用新型能够阻拦随气流向上流动的液滴，从而防止液滴混入气体中排出，有效提升气液分离效果，并提高设备运行的安全性。
一种快速干燥装置

[实用新型]阴阳极分区的晶圆电镀装置-CN202320987207.7有效
发明人：孙雪峰;肖凌峰;黎恩源 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C25D17/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及的阴阳极分区的晶圆电镀装置，其包括具有腔体的电镀池，电镀装置还包括阴极槽、阳极槽，阴极槽设置在腔体内并形成有阴极腔，阴极槽的底部形成进液口、顶部敞开设置，阴极和阳极均插在阴极腔内；阳极槽包括形成有用于盛放药液的阳极腔的辅助槽、分别连通阳极腔和腔体的第一管道和第二管道、连通阳极腔和阴极腔的第三管道，其中第一管道的出液口靠近腔体底部的一侧设置，第二管道插入腔体内并形成溢流口。本实用新型一方面实现药液在整个电镀过程中保持流动性，保持药液中的药剂分布均匀，有利于电镀过程的实施并提升电镀质量；另一方面实现阴极槽内的药液能够始终得到及时补充并保持新鲜，有效避免电镀废液对电镀过程产生的干扰。
阴阳分区电镀装置

[发明专利]阴阳极独立的晶圆电镀设备-CN202310628393.X在审
发明人：孙雪峰;肖凌峰;黎恩源 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明公开了阴阳极独立的晶圆电镀设备，其包括盛放有电镀液的电镀池、形成有电镀腔的电镀槽、分隔组件以及阳极组件，其中电镀槽自顶部形成敞开口；分隔组件插装在电镀腔内并将电镀腔分隔为自周向密封的阳极腔、与敞开口相连通的阴极腔，且分隔组件包括离子膜、分别设置在离子膜相对两侧的第一格栅板和第二格栅板，其中第一格栅板和第二格栅板上对应形成有多个第一格栅孔和多个第二格栅孔；阳极组件包括与阳极腔相连通的循环管道、插在阳极腔内并与电源正极相导通的导电柱。本发明能够维持整个阳极腔内金属离子的含量，从而保证在整个电镀过程中金属离子稳定供应，有效提升电镀质量；同时能够节约阳极板的消耗量，有效降低生产成本。
阴阳独立电镀设备

[实用新型]一种晶圆电镀用的装载卸载装置-CN202221260037.4有效
发明人：孙文杰;孙雪峰;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-05-23 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及的晶圆电镀用的装载卸载装置，其包括载具和驱动单元，电镀挂具形成有电镀区，其中载具具有竖直状态、水平状态，驱动单元包括翻转座、第一驱动部件、及第二驱动部件，其中翻转座转动连接在电镀挂具上，载具转动连接在翻转座上，第一驱动部件驱动翻转座翻转，第二驱动部件驱动载具翻转；装载卸载装置还包括锁定单元，其中锁定单元包括设置在电镀挂具上的第一锁定部件、设置在载具上的第二锁定部件。本实用新型通过两次翻转运动实现晶圆在电镀挂具上的装载和卸载，所需的活动空间小，有效减小设备体积，且载具行程短，装载和卸载效率高；同时通过两个锁定部件的配合锁定，有效提高装载密封性，保证晶圆表面的电镀质量。
一种电镀装载卸载装置

[发明专利]适用于导电环的自动清洁设备及清洁方法-CN202211161274.X有效
发明人：孙文杰;孙雪峰;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-09-23 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本发明公开了适用于导电环的自动清洁设备及清洁方法，该自动清洁设备包括：清洁槽，其形成有清洁腔，其中清洁腔具有载架插装口和排废口；清洁件供应单元，其包括与清洁腔相连通的供应通道、清洁件；清洁单元，其包括位于清洁腔内并与供应通道相连通的衔接通道、与排废口相连通的排废通道、具有取放端部且绕着水平方向转动的清洁臂、驱动件。本发明通一方面实现清洁件自动进料、自动清洁导电环以及完成清洁后自动排出，自动化程度高；另一方面由清洁臂带动清洁件完成对导电环的多道清洁，操作简单，有效降低工人的劳动强度，清洁效率高，同时能够保证导电环在清洁过程中受力稳定，有效避免导电环损坏，延长零件使用寿命，降低报废率和生产成本。
适用于导电自动清洁设备方法

[实用新型]一种晶圆载体的夹送装置-CN202221251578.0有效
发明人：孙文杰;孙雪峰;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-05-23 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型涉及的晶圆载体的夹送装置，其包括夹头，夹头包括夹持本体、夹爪、及驱动件，夹爪至少有两个，驱动件驱动两个或多个夹爪同步张开或收紧运动；夹送装置还包括辅助部件，其中辅助部件包括辅助座、调节器、及气流隔离件，气流隔离件与辅助座之间构成隔离腔,辅助座上形成有辅助轨道，辅助轨道位于隔离腔内，夹持本体滑动设置在辅助轨道上，调节器沿着辅助轨道长度方向驱动夹持本体运动。本实用新型实现快速夹持和释放晶圆载体，结构简单，有效提高生产效率；同时通过驱动夹头在隔离腔内的运动，使得晶圆载体进入或脱离隔离腔，这样一来，有效避免晶圆载体传输时受外界气流影响而产生的晃动问题，保证晶圆载体装夹稳固，提高生产安全性。
一种载体装置

[实用新型]一种适用于晶圆的取放和翻转装置-CN202221250644.2有效
发明人：孙雪峰;孙文杰;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-05-23 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型涉及的适用于晶圆的取放和翻转装置，其包括取放部件、及翻转驱动部件，取放部件上至少具有两个吸附端面，每个吸附端面上形成有排气口、及多个导流槽，其中多个导流槽自排气口向外呈发散状延伸；取放和翻转装置还包括供气部件，其中晶圆平放在对应的吸附端面上，供气部件自对应的排气口向晶圆与对应的吸附端面之间排气，气流沿着每个导流槽流动并在晶圆的对应侧面上形成负压。本实用新型一次可拾取或/和放置至少两个晶圆，有效提高生产效率，满足大批量生产的需求；同时根据伯努利原理，能够在晶圆的对应侧面上形成负压，且所形成的负压区域大，有效提高对晶圆的吸附稳定性，防止晶圆脱落。
一种适用于翻转装置

[实用新型]晶圆镀镍用的辅助装置以及晶圆镀镍设备-CN202223059731.2有效
发明人：孙文杰;孙雪峰;谭笑;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及的晶圆镀镍用的辅助装置以及晶圆镀镍设备，该辅助装置包括辅助槽、进液管路、出液管路、镀镍液处理单元，其中镀镍液处理单元包括阳极、阴极、电源，镀镍液在进液管路、出液管路、辅助槽、镀镍槽之间循环流动，阳极和阴极同步浸没在位于辅助槽内的镀镍液中，且镀镍液中析出的杂质能够吸附于阴极上。本实用新型通过辅助槽和镀镍液处理单元构成一个独立的电解槽，将镀镍槽中的镀镍液引入辅助槽中实施电解反应以将有机污染物吸附于阴极上，这样一来，有效去除镀镍液中的杂质，优化晶圆表层镀镍质量；同时能够保持长期连续进行晶圆镀镍，从而降低停机更换和补充镀镍液的频率，简化操作，提高生产效率。
晶圆镀镍用辅助装置以及晶圆镀镍设备

[发明专利]晶圆的扫描式预润湿系统及预润湿方法-CN202211177800.1有效
发明人：孙文杰;孙雪峰;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-02-21 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明公开了晶圆的扫描式预润湿系统及预润湿方法，该预润湿系统包括润湿槽、晶圆载架、润湿单元，其中润湿槽形成有润湿腔，润湿腔形成有插装口和排液口；润湿单元包括喷淋座、多个喷淋头、驱动部件、供液部件，其中每个喷淋头具有第一通道和第二通道，自第一通道喷出的润湿液经过第二通道的拦截和疏导后形成扇形润湿区，每相邻两个扇形润湿区部分重合设置，多个扇形润湿区形成扫描基准区。本发明通过多个扇形润湿区部分重合所形成的以竖直设置的晶圆径向延伸的扫描基准区，在直线往复运动中实现以晶圆为基准的扫描式喷淋预润湿，有效提升晶圆预润湿效果；同时能够有效突破晶圆表面润湿空隙的阻力屏障，确保晶圆表面充分润湿。
扫描润湿系统方法

[实用新型]一种振荡式导电环清洁装置-CN202223343634.6有效
发明人：孙文杰;谭笑 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-12-14 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本实用新型属于清洁设备领域，具体涉及一种振荡式导电环清洁装置，其包括定位架、刷扫单元、清洁液供应单元、排污单元。本实用新型通过设置刷扫单元和清洁液供应单元，利用刷头的振荡运动，实现对导电环表面高频次反复刷扫，确保导电环表面杂质全部清除，有效提升导电环表面的清洁效果；同时通过设置排污单元，将刷除的杂质随着废液及时排出，避免对导电环造成二次污染。
一种振荡导电清洁装置

[实用新型]一种晶圆夹持装置-CN202223034742.5有效
发明人：孙文杰;肖凌峰;孙雪峰;谭笑 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体器件领域，具体涉及了一种晶圆夹持装置，其包括底板、气囊组件和夹持组件，其中底板具有夹取端部，夹取端部上形成有定位孔、夹槽；气囊组件包括气囊、气管；夹持组件包括内环片、外环片、锁定部件。本实用新型通过夹持组件和气囊组件的联动配合，在气囊的放气过程中实现将晶圆夹紧在底板上，形成对晶圆正向的夹紧力以保证晶圆与底板相贴紧，有效提升密封性；同时通过底板端部定位孔和夹槽的配合，保证机械手每次夹取底板时能够提升夹爪夹取的精准度，保证在悬挂或传输过程中机械手对底板的抓取牢固性。
一种夹持装置

[实用新型]晶圆电镀系统的晶圆传输设备-CN202223047207.3有效
发明人：孙文杰;谭笑;肖凌峰;孙雪峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体技术领域，具体涉及了晶圆电镀系统的晶圆传输设备，其包括机械手、夹持装置、驱动装置、辅助装置。本实用新型一方面通过设置隔离腔，并通过机械手和夹持装置的配合，能够将完成电镀的晶圆收入隔离腔中进行传输，有效降低外界空气对晶圆镀层的影响，保证镀层质量；另一方面通过夹持组件和气囊组件的联动配合，在气囊的放气过程中实现将晶圆夹紧在底板上，形成对晶圆正向的夹紧力以保证晶圆与底板相贴紧，有效提升密封性；同时通过底板端部定位孔和夹槽的配合，保证机械手每次夹取底板时能够提升夹爪夹取的精准度，保证在悬挂或传输过程中机械手对底板的抓取牢固性。
电镀系统传输设备

[发明专利]一体式晶圆电镀设备及电镀方法-CN202211161273.5有效
发明人：孙文杰;孙雪峰;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-09-23 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明公开了一体式晶圆电镀设备及电镀方法，该电镀设备包括电镀池、电镀系统，其中电镀系统包括具有相互连通的阳极腔和阴极腔的电镀槽体、电镀单元，电镀单元包括阳极板载架和阳极板，晶圆通过晶圆载架插入阴极腔且构成阴极板，电镀槽体和电镀单元一体设置，电镀单元还包括具有导电性的弹性件、气泡排出组件，其中阳极板与弹性件保持弹性接触导通；气泡排出组件包括架板，架板靠近阴极板。本发明一方面无需多次插装，从而方便实施单个或多个晶圆在电镀池进行电镀处理；另一方面使得阳极板在电镀消耗过程中始终保持稳定通电，确保电镀过程正常进行，同时有效避免气泡对晶圆表面金属离子沉积的影响，保证电镀质量。
体式电镀设备方法

[实用新型]一种风机过滤系统-CN202221391472.0有效
发明人：孙雪峰;孙文杰;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-06-06 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： B01D46/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及的一种风机过滤系统，其设置在生产设备所形成的洁净腔的顶部，洁净腔划分为左腔体和右腔体，其中生产设备中产生有害气体和杂质的部分罩设于左腔体内，且左腔体的顶部形成有左进风口；右腔体的顶部形成有右进风口，且右腔体和左腔体两者中的一个上还形成有与左腔体相连通的排风口；风机过滤系统包括对应设置在右进风口处的右进风组件、对应设置在左进风口处的左进风组件、对应设置在排风口处的排风收集组件。本实用新型能够在生产设备内实现快速形成符合要求的洁净气流，提高净化效率，降低能耗；同时能够有效排出并收集设备产生的有害气体和杂质，避免进入室内影响人员健康。
一种风机过滤系统

[实用新型]一种适用于晶圆载体的快速清洁装置-CN202221246121.0有效
发明人：孙雪峰;孙文杰;肖凌峰 -专利权人： 晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-05-23 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及的适用于晶圆载体的快速清洁装置，其包括清洁单元和排液单元，清洁单元包括清洗槽、进液管路、及进气管路，其中清洗槽内形成有清洗腔，进液管路和进气管路分别与清洗腔相连通设置；排液单元包括排液槽、排液阀、及排液管路，其中排液槽设置在清洗槽的下方并形成有排液腔，排液阀连通在清洗腔与排液腔之间并具有打开状态和闭合状态，排液管路与排液腔相连通设置。本实用新型一方面通过与晶圆载体相匹配的清洗腔，便于清洗液快速填充，同时清洗后的废液能够自上而下排出，从而加快进液速度和排液速度，有效提高清洁速度；另一方面通过进气管路和进液管路的配合，有效提升清洁效果，保证晶圆载体实现高洁净度。
一种适用于载体快速清洁装置

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