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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]烧结体-CN202180086145.6在审
发明人：松仓贤人;田崎義昭;团未那美 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C04B35/505 文献下载
摘要：本发明的烧结体在X射线衍射测定中以钙钛矿型YAlO3(YAP)作为主相，维氏硬度为11GPa以上。此外，本发明的烧结体在包含除YAlO3以外的组合物的情况下，该组合物优选为实质上由Y3Al5O12和Y4Al2O9构成的组合物，绝对密度还优选为5.1g/cm3以上。开气孔率还优选为1％以下，晶粒的平均粒径还优选为10μm以下。
烧结

[发明专利]冷喷涂用材料-CN201980064308.3有效
发明人：佐藤龙一;深川直树;松仓贤人;三小田修树;森内诚治;重吉勇二;福本昌宏;山田基宏 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23C24/04 文献下载
摘要：本发明的冷喷涂用材料包含利用BET一点法获得的比表面积为30m2/g以上的稀土类元素化合物的粉末。还优选利用气体吸附法获得的细孔直径为3nm以上且20nm以下的细孔容积为0.08cm3/g以上。还优选所述粉末的晶粒直径为25nm以下。还优选休止角为10°以上且60°以下。还优选L*a*b*系表色系色坐标的L值为85以上、a值为‑0.7以上且0.7以下、b值为‑1以上且2.5以下。
喷涂用材

[发明专利]成膜用或烧结用粉末-CN202180029179.1在审
发明人：松仓贤人;楯冈秀一;小川宽央 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2021-03-18 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： C01F17/34 文献下载
摘要：本发明的成膜用或烧结用粉末在X射线衍射测定中观察到正交晶YAlO3的峰。在X射线衍射测定中观察到的峰中，正交晶YAlO3的(112)峰为显示出最大峰强度的峰。在使用了CuKα射线的X射线衍射测定中，在将正交晶YAlO3的(112)峰强度设定为S1，将三方晶Al2O3的(104)峰强度设定为S2时，S2相对于S1之比即S2/S1的值优选为低于1。
成膜用烧结粉末

[发明专利]成膜用或烧结用粉末-CN201980095558.3在审
发明人：松仓贤人;森内诚治 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2019-07-24 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C01F17/34 文献下载
摘要：本发明的成膜用或烧结用粉末在X射线衍射测定中观察到立方晶Y3Al5O12的峰和斜方晶YAlO3的峰，斜方晶YAlO3的(112)峰相对于立方晶Y3Al5O12的(420)峰的强度比为0.01以上且低于1。或者，本发明的成膜用或烧结用粉末具有钇及铝的复合氧化物，0.1μm～1μm的细孔容积为0.16mL/g以上。在使用了CuKα射线的2θ＝20°～60°的扫描范围的X射线衍射测定中，来源于立方晶Y3Al5O12的峰优选为显示出最大峰强度的峰。
成膜用烧结粉末

[发明专利]成膜用材料及皮膜-CN201780062561.6有效
发明人：深川直树;佐藤龙一 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2017-08-07 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明的成膜用材料包含钇的氧氟化物，且费氏径为1.0μm～10μm，振实法表观堆密度TD与静置法表观堆密度AD的比率即TD/AD为1.6～3.5。成膜用材料通过水银压入法测定的直径为100μm以下的细孔的容积优选为1.0cm3/g以下。另外，本发明的皮膜包含钇的氧氟化物，且维氏硬度为200HV0.01以上。皮膜的断裂韧性优选为1.0×102Pa·m1/2以上。
用材料及皮膜

[发明专利]烧结体-CN202080017562.0在审
发明人：山口靖英;深川直树 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2020-01-30 - 公布日： 2021-10-19 - 主分类号： C04B35/50 文献下载
摘要：本发明提供一种烧结体，其是具有至少含有稀土类元素和氟的化合物的相的烧结体，在L*a*b*色度表示中，L*值为70以上。晶粒的平均粒径优选为10μm以下。还优选相对密度为95％以上。还优选三点弯曲强度为100MPa以上。还优选不含氧、或者在包含氧的情况下氧含量为13质量％以下。还优选上述化合物为稀土类元素的氟化物或氟氧化物。
烧结

[发明专利]成膜用材料-CN201680071239.5有效
发明人：佐藤龙一;深川直树;重吉勇二;松仓贤人 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2016-12-15 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： C23C30/00 文献下载
摘要：本发明的成膜用材料含有YOxFY(X及Y是满足0＜X且X＜Y的数)所示的钇的氧氟化物及YF3，XRD测定中的YF3(020)面的峰高I2与YOxFY的主峰峰高I1之比即I2/I1值为0.005以上且100以下。优选作为XRD测定中的Y2O3的主峰峰高I4与所述YOxFY的主峰峰高I1之比即I4/I1值为0.01以下。
用材

[发明专利]成膜用粉末以及成膜用材料-CN201680004418.7有效
发明人：佐藤龙一;深川直树;重吉勇二;松仓贤人 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2016-02-02 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： C23C4/04 文献下载
摘要：本发明的成膜用粉末是含有稀土类元素的氧氟化物Ln‑O‑F的成膜用粉末，其中，粉末的平均粒径D₅₀为0.1μm以上且10μm以下，利用汞压入法测定的直径为10μm以下的细孔的容积为0.1cm³/g以上且0.5cm³/g以下，并且，在粉末的使用Cu‑Kα线或Cu‑Kα₁线的X射线衍射测定中，2θ＝20度～40度的范围内观察到的稀土类元素的氧化物Ln_xO_y的最大峰的强度S0与该范围内观察到的稀土类元素的氧氟化物Ln‑O‑F的最大峰强度S1之比S0/S1为1.0以下。
成膜用粉末以及用材

[发明专利]烧结用材料以及用于制造烧结用材料的粉末-CN201680010498.7有效
发明人：深川直树;重吉勇二 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： C04B35/50 文献下载
摘要：本发明的烧结用材料由颗粒构成，其振实法表观密度为1.0g/cm3以上且2.5g/cm3以下，在超声波分散处理前测定的利用激光衍射‑散射式粒度分布测定法获得的累积体积50容量％下的累积体积粒径为10μm以上且100μm以下，在300W、15分钟的超声波分散处理后测定的利用激光衍射‑散射式粒度分布测定法获得的累积体积50容量％下的累积体积粒径为0.1μm以上且1.5μm以下，在使用了Cu‑Kα射线或Cu‑Kα1射线的X射线衍射测定中，在2θ＝20度～40度内观察到的最大峰为LnOF形态的稀土类元素的氧氟化物的峰。
烧结用材以及用于制造粉末

[发明专利]烧结体-CN201580050549.4有效
发明人：矢野豊彦;吉田克己;津之浦彻;重吉勇二 -专利权人： 日本钇股份有限公司
申请日： 2015-11-18 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： C04B35/553 文献下载
摘要：本发明涉及一种烧结体，其含有钇氟氧化物。钇氟氧化物优选为YOF和/或Y5O4F7。本发明的烧结体优选含有50质量％以上的钇氟氧化物。本发明的烧结体优选相对密度为70％以上，而且优选开口气孔率为10％以下。另外，本发明的烧结体还优选3点弯曲强度为10MPa～300MPa。 1
烧结体优选氟氧化物开口气孔

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共 10 条

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