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- [发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN202180069770.X在审
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井口敦智;斋藤泰彦;前田清司
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东京毅力科创株式会社
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2021-10-05
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2023-07-11
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H05H1/46
- 基板处理方法是基板处理装置中的基板处理方法,包括以下工序:工序a),向配置有载置台的处理容器供给特定条件的工艺气体,该载置用于载置具有被蚀刻膜和以及被蚀刻膜上的掩模的被处理体;工序b),通过在第一等离子体生成条件下生成的工艺气体的第一等离子体来对被处理体进行等离子体处理;工序c),通过在第二等离子体生成条件下生成的工艺气体的第二等离子体来对被处理体进行等离子体处理,该第二等离子体生成条件是与第一等离子体生成条件中的高频电力的条件及处理时间不同而其它条件相同的等离子体生成条件;以及工序d),重复进行工序b)和工序c)。
- 处理方法装置
- [发明专利]水处理装置-CN201911329106.5在审
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丹下智阳;善万泰朋;斋藤泰彦
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三浦工业株式会社
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2019-12-20
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2020-07-24
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B01D33/35
- 提供一种液体处理装置,其可抑制清洗性的下降。一种在外壳1内部具备过滤器2的液体处理装置,其具备排出手段4,其中,排出手段4具备嘴部41,42和排出管44,嘴部41,42以朝向过滤器2开口的方式配置,排出管44以将由嘴部41,42导入的水排出至外壳1外部的方式配置,嘴部41,42的侧面和排出管44中至少一方形成有第1贯通孔41h(42h)。
- 水处理装置
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