专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种InAsGaSbII类超晶格探测器及制备方法-CN202310601725.5在审
  • 崔爱梁 - 中航凯迈(上海)红外科技有限公司
  • 2023-05-26 - 2023-07-07 - H01L31/0352
  • 一种InAs/GaSbII类超晶格探测器及制备方法,采用分子数外延技术在衬底上依次沉积重掺杂N型接触层、势垒层、吸收层、P型接触层、盖帽层和金电极,衬底、N型接触层、势垒层、吸收层和P型接触层的裸露处沉积可调节钝化层,通过紫外光刻技术和电感耦合等离子体刻蚀技术刻蚀像元隔离沟槽,形成pn结基础探测芯片结构;编写原子层沉积反应的工艺过程;基础探测芯片结构在原子层沉积设备中完成原子层沉积反应的工艺,完成钝化层生长循环后,将芯片从反应腔中转移至快速退火炉中进行退火;解决了现有的InAs/GaSb II类超晶格探测器的薄膜生长不均匀、超晶格表面悬挂键和原生氧化层影响器件暗电流水平和探测效率的问题。
  • 一种inasgasbii晶格探测器制备方法

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