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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]RF能量辐射装置-CN202280013527.0在审
发明人：高野伸司;夘野高史;福井干男;细川周子 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：本公开的RF能量辐射装置具备振荡器、功率放大器、辐射元件、检测器以及控制部。振荡器振荡出RF信号。功率放大器将RF信号放大而输出RF电力。辐射元件辐射出RF电力。检测器对行波电力进行检测。控制部通过利用闭环来设定RF电力的输出设定值的闭环控制和利用开环来设定RF电力的输出设定值的开环控制，进行RF电力的输出控制。控制部在交替切换输出RF电力的期间和停止RF电力的期间的突发动作中的RF电力的输出停止过程中满足了规定的切换条件的情况下，将RF电力的输出控制从闭环控制切换为开环控制。
rf 能量辐射装置

[发明专利]微波处理装置-CN202280011627.X在审
发明人：细川大介;大森义治;中村秀树;前田和树;夘野高史 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：本公开的微波处理装置具备加热室、微波产生部、放大部、供电部、检测部、控制部以及存储部。微波产生部产生具有规定的频带中的任意频率的微波。放大部对微波的输出电平进行放大。供电部将由放大部放大后的微波作为入射电力向加热室辐射。检测部对入射电力中的从加热室返回供电部的反射电力进行检测。控制部对微波产生部和放大部进行控制。存储部将反射电力的值与微波的频率以及从加热开始起的经过时间一起存储。控制部基于通过参照反射电力的运算而得到的运算值，对微波产生部以及放大部进行控制。
微波处理装置

[发明专利]高频加热装置-CN202280012601.7在审
发明人：细川周子;细川大介;福井干男;夘野高史;高野伸司 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2022-02-04 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H05B6/54 文献下载
摘要：本公开的高频加热装置具备加热室、第一电极、第二电极、高频电源以及控制部。第一电极是配置在加热室内的电极。第二电极是配置在加热室内并与第一电极相对的电极。高频电源产生高频电力。控制部对高频电源进行控制。控制部使高频电源向第一电极和第二电极之间施加高频电力，对载置在第一电极与第二电极之间的被加热物的加热进行控制。控制部以选择性地进行针对被加热物整体的普通模式下的加热和抑制被加热物的局部过加热的保护模式下的加热的方式，对高频电源进行控制。
高频加热装置

[发明专利]高频加热装置-CN201980050098.2有效
发明人： 夘野高史;细川大介;小笠原史太佳;福井干男;吉野浩二;大森义治 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-08-01 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H05B6/54 文献下载
摘要：高频加热装置(1A)具有平板状的第1电极(11)、平板状的多个第2电极(12)、高频电源(20)、匹配部(30)、控制部(40)和电场调整部(50)。多个第2电极(12)与第1电极(11)相对配置。高频电源(20)对第1电极(11)施加高频电压。匹配部(30)配置在第1电极(11)和高频电源(20)之间，取得与高频电源(20)的阻抗匹配。控制部(40)控制高频电源(20)。电场调整部(50)对第1电极(11)与多个第2电极(12)之间形成的多个区域中的电场强度分别独立地进行调整。根据本方式，能够降低加热不均。
高频加热装置

[发明专利]高频加热装置-CN201980077893.0有效
发明人：细川大介;夘野高史;小笠原史太佳;吉野浩二 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-10-25 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H05B6/50 文献下载
摘要：本发明的一个方式所涉及的高频加热装置具备加热室、电极、高频电源、至少一个匹配元件以及控制部。加热室收容加热对象物。高频电源对电极施加高频电压。匹配器包含具有可变匹配常数的至少一个匹配元件。控制部基于至少一个匹配元件的匹配常数的时间变化，使高频电源停止而结束加热。根据本方式，能够高效地对加热对象物进行加热。
高频加热装置

[发明专利]微波处理装置-CN202280008052.6在审
发明人：大森义治;细川大介;夘野高史 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2022-01-07 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： F24C7/02 文献下载
摘要：在本发明的微波处理装置中，控制部选择规定频带中的多个频率，使微波产生部产生所选择的频率的所述微波。控制部通过使放大部变更微波的输出电平，向加热室供给多个输出电平中的任意的输出电平的微波。控制部基于辐射电力以及反射电力来测定反射波频率特性。控制部基于反射波频率特性来计算加热室消耗的损耗电力的线性成分和非线性成分。控制部基于将线性成分和非线性成分合成而得到的损耗电力来推定被加热物的吸收电力量。
微波处理装置

[发明专利]高频加热装置-CN201980077787.2有效
发明人： 夘野高史;细川大介;小笠原史太佳;吉野浩二 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H05B6/50 文献下载
摘要：本发明所涉及的高频加热装置具备第一电极(11)、第二电极(12)、高频电源(30)、位置调整部(20)、检测部(50)以及控制部(60)。第二电极(12)与第一电极对置地配置。高频电源(30)向第一电极供给高频电力。位置调整部(20)调整第一电极(11)与第二电极(12)之间的距离。检测部(50)检测从第一电极(11)朝向高频电源(30)的反射电力。控制部(60)基于反射电力来控制位置调整部(20)。根据本方式，能够高效地对加热对象物进行加热。
高频加热装置

[发明专利]RF能量放射装置-CN202310246281.8在审
发明人：高野伸司;平本雅祥;小笠原史太佳;岩田基良;夘野高史;福井干男;细川大介 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-09-05 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：一种RF能量放射装置，其具备用于载置加热对象物的腔室、RF信号产生部、RF放大部、放射元件、温度传感器和控制部。RF信号产生部振荡出RF信号。RF放大部放大RF信号并输出RF能量。放射元件向腔室内放射RF能量。温度传感器配置在RF放大部的附近。控制部控制RF放大部根据温度传感器的检测温度和多个阈值水平来调整RF能量的输出。根据本方式，能够提高装置的可靠性。
rf 能量放射装置

[发明专利]微波加热装置-CN201980053571.2有效
发明人：福井干男;夘野高史;小笠原史太佳;岩田基良;高野伸司;细川大介;平本雅祥 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-09-11 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： H05B6/70 文献下载
摘要：微波加热装置具备容纳被加热物的加热室、生成微波的微波发生部以及同轴连接器。同轴连接器具有中心导体、绝缘体和外部导体。中心导体与微波发生部的输出端连接。在中心导体与绝缘体之间设置有气隙。根据本方式，能够抑制微波发生部与同轴连接器之间的焊接部处的因热应力导致的焊料裂纹的产生。
微波加热装置

[发明专利]RF能量放射装置-CN201980048574.7有效
发明人：高野伸司;平本雅祥;小笠原史太佳;岩田基良;夘野高史;福井干男;细川大介 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-09-05 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：RF能量放射装置具备用于载置加热对象物的腔室、RF信号产生部、RF放大部、放射元件、温度传感器和控制部。RF信号产生部振荡出RF信号。RF放大部放大RF信号并输出RF能量。放射元件向腔室内放射RF能量。温度传感器配置在RF放大部的附近。控制部控制RF放大部根据温度传感器的检测温度和多个阈值水平来调整RF能量的输出。根据本方式，能够提高装置的可靠性。
rf 能量放射装置

[发明专利]高频处理装置-CN202180014884.4在审
发明人：中村秀树;细川大介;大森义治;前田和树;夘野高史 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2021-02-16 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：高频处理装置具备用于收纳被加热物的加热室、高频产生部、供电部、检测部以及控制部。高频产生部产生具有规定的频带中的任意的频率的高频电力。供电部向加热室供给与高频电力对应的入射电力。检测部对入射电力和入射电力中的从加热室返回供电部的反射电力中的一方或双方进行检测。控制部对高频产生部进行控制来控制被加热物的加热。存储部将由检测部检测出的信息与从加热开始起的经过时间一起存储。控制部使高频产生部逐个地反复产生用于加热的多个频率的高频电力。控制部基于反射电力、反射率、电力差中的任一者的随时间变化来适当地控制被加热物的加热。
高频处理装置

[发明专利]微波处理装置-CN202180014986.6在审
发明人：细川大介;细川周子;大森义治;中村秀树;前田和树;夘野高史 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：本公开的一个方式的微波处理装置具备加热室、微波产生部、放大部、供电部、检测部、存储部以及控制部。微波产生部产生具有规定的频带中的任意频率的微波。放大部对微波进行放大，并将放大后的微波作为入射电力进行输出。供电部将入射电力向加热室供给。检测部对入射电力和从加热室返回供电部的反射电力进行检测。存储部将入射电力和反射电力与微波的频率和从加热开始起的经过时间相关联地存储。控制部使微波产生部遍及规定的频带地进行频率扫描。控制部基于在频率扫描的期间检测出的入射电力以及反射电力来控制微波产生部以及放大部。根据本方式，能够提高加热的均匀性。
微波处理装置

[发明专利]高频处理装置-CN202180014965.4在审
发明人：大森义治;细川大介;中村秀树;前田和树;夘野高史 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： H05B6/64 文献下载
摘要：本公开的一个方式的高频处理装置具备：收纳被加热物的加热室；振荡部；至少一个供电部；检测部；以及控制部。振荡部产生具有规定的频带中的任意频率的高频电力。至少一个供电部将基于高频电力的入射电力向加热室供给。检测部对入射电力和从加热室返回到至少一个供电部的反射电力进行检测。控制部使振荡部进行频率扫描，并且基于包含频率的每个加热条件的入射电力和反射电力来测定反射特性。控制部基于每个加热条件的表示反射特性的变化的反射变动幅度来决定接下来使用的加热条件。根据本方式，能够最佳地加热各种被加热物。
高频处理装置

[发明专利]微波处理装置-CN202080053599.9在审
发明人：细川大介;前田和树;大森义治;吉野浩二;夘野高史;小笠原史太佳 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2020-07-28 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H05B6/64 文献下载
摘要：微波处理装置具备：收纳被加热物(2)的加热室(1)；产生微波的微波产生部(3)；向加热室(1)供给微波的供电部(5)；检测朝向微波产生部(3)的反射功率的检测部(6)；控制微波产生部(3)的控制部(7)；以及存储部(8)。存储部(8)将由检测部(6)检测出的反射功率的量与供给到加热室(1)的微波的频率和从加热开始起的经过时间一起存储。控制部(7)以遍及规定的频带进行频率扫描的方式控制微波产生部(3)，根据基于各频率的反射功率的值随时间的变化，判定为被加热物(2)处于沸腾状态。根据本公开，能够高精度地检测被加热物的沸腾状态，进行适当的烹调。
微波处理装置

[发明专利]微波处理装置-CN202080038744.6在审
发明人：大森义治;细川大介;吉野浩二;前田和树;夘野高史;平本雅祥;小笠原史太佳 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2020-07-28 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：本公开的微波处理装置具备：加热室，其收纳被加热物；微波产生部，其产生规定频带中的频率的微波；放大部，其将由微波产生部产生的微波放大；供电部，其将由放大部放大后的微波供给到加热室；检测部，其检测来自供电部的反射功率；以及控制部。控制部选择规定频带中的多个频率，控制微波产生部产生所选择的频率的微波。控制部控制放大部变更微波的输出功率，将多个输出功率中的任意输出功率的微波供给到加热室。控制部基于针对多个输出功率中的第一输出功率以及第二输出功率的微波检测出的反射功率来测定反射波频率特性。
微波处理装置

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