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[发明专利]荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序-CN202180007827.3有效
发明人： 原真也;山田康治郎;山本悦久;本间寿 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2021-04-05 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明提供一种能够简便地确认遮蔽入射到检测器的荧光X射线的一部分的机构是否正常安装的荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。一种荧光X射线分析装置具有：X射线源(104)、索勒狭缝(110)、分光元件(112)和检测器(114)，其特征在于，具有：判断用部件(106)，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；视野限制部(108)，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；存储部(122)，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及判断部(120)，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。
荧光射线分析装置判断方法程序

[发明专利]荧光X射线分析装置及荧光X射线分析装置的控制方法-CN202180004650.1有效
发明人：山本悦久;山田康治郎;原真也 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明提供一种荧光X射线分析装置及荧光X射线分析装置的控制方法，即使在荧光X射线分析装置发生异常的情况下，也能够防止样品的劣化、破损、装置内部污染。荧光X射线分析装置具备：测量部，包括在待机位置和测量位置之间移动样品的移动机构、向样品照射1次X射线的X射线源、检测入射的荧光X射线的强度的检测器和控制移动机构及X射线源动作的第一控制部；以及信息处理部，其具有基于检测器测量出的荧光X射线的强度对样品进行分析的分析部、和与第一控制部进行通信并控制测量部的第二控制部，第一控制部具有退让单元，在第一控制部与第二控制部之间的通信被切断时，对移动机构进行退让控制，以使得在测量位置的样品退让至待机位置。
荧光射线分析装置控制方法

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN202180072774.3在审
发明人： 原真也;山田康治郎;儿玉宪治;堂井真 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21)：对于基底层中不含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量，将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值；对于基底层中包含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量；在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下，将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除，在除此以外的情况下，将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。
荧光射线分析装置

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN202180007475.1有效
发明人： 原真也;山田康治郎;本间寿 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明的荧光X射线分析装置包括判定机构(21)和饱和厚度定量机构(23)，该判定机构(21)针对应测定强度的二次X射线的全部的测定线，判定基于已假定的厚度和已知的各成分的含有率而计算的薄膜中的理论强度相对于基于已知的各成分的含有率而计算的块体中的理论强度的比是否超过规定的阈值，该饱和厚度定量机构(23)在通过判定机构(21)针对全部的测定线判定理论强度的比超过规定的阈值的场合，针对各测定线，基于已知的各成分的含有率而计算理论强度饱和的饱和厚度，将最厚的饱和厚度作为厚度的定量值。
荧光射线分析装置

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN201980052429.6有效
发明人：山田康治郎;原真也;松尾尚 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2019-06-06 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明的荧光X射线分析装置根据多路波高分析器(13)所输出的微分曲线、与针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度，同时地获得作为二次X射线(7)的强度相对于联动机构(10)的扫描角度(20)的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线。接着，针对分析波高宽度曲线以及狭小波高宽度曲线，进行分析射线的鉴定，在于分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线，形成分析射线的鉴定结果。
荧光射线分析装置

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN202011009411.9在审
发明人：山田康治郎;原真也;堂井真 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2016-07-01 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明涉及一种荧光X射线分析装置。测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度，对于已指定的全部的测定线，通过理论计算而计算出推算测定强度，以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度，针对每个变化的测定线，通过基本参数法，求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值，根据该定量值和已指定的组成和/或厚度，进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。
荧光射线分析装置

[发明专利]毛发处理剂用的第二试剂以及毛发处理剂-CN201980003470.4在审
发明人：松冈研;原真也 -专利权人：株式会社漫丹
申请日： 2019-02-07 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： A61K8/41 文献下载
摘要：本发明提供一种毛发处理剂用的第二试剂，能够使第一试剂和第二试剂良好地混合、且能够提高所得到的混合剂的对毛发的附着性。本发明的毛发处理剂用的第二试剂是在至少具备含有或者不含有氧化染料且含有碱剂的第一试剂和含有氧化剂的第二试剂的多剂型的毛发处理剂中使用的第二试剂，其含有叔胺型阳离子性表面活性剂。
毛发处理第二试剂以及

[发明专利]氧化染发剂、氧化染发用混合剂的制造方法以及氧化染发方法-CN201580012759.4有效
发明人：井口显策;长尾久美子;原真也 -专利权人：株式会社漫丹
申请日： 2015-07-24 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： A61K8/41 文献下载
摘要：本发明提供一种氧化染发剂，其能够降低使用时的刺激性气味，能够降低对于毛发和头皮的损伤，进而能够充分地对毛发进行染色，头皮的刺激感少。本发明的氧化染发剂包含第1剂和第2剂，该第1剂包含成分A：单乙醇胺等；成分B：碳酸盐等；成分C：氨；和成分D：氧化染料，该第2剂包含成分X：过氧化氢，在上述第1剂与上述第2剂的混合剂中，上述成分A的含量为4.0质量％以上7.0质量％以下，上述成分B的含量为0.20mmol/g以上0.70mmol/g以下，氨和铵离子的总含量以氨换算计为0.20mmol/g以上0.45mmol/g以下，上述成分X的含量为1.5质量％以上且小于2.7质量％。
氧化染发剂染发混合制造方法以及

[发明专利]氧化染发剂、氧化染发用混合剂的制造方法以及氧化染发方法-CN201580013149.6有效
发明人：长尾久美子;井口显策;原真也 -专利权人：株式会社漫丹
申请日： 2015-07-24 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： A61K8/41 文献下载
摘要：本发明提供一种氧化染发剂，其能够降低对于毛发的损伤，并且能够发挥优异的染色力，进而保存稳定性也优异。本发明的氧化染发剂包含第1剂和第2剂，该第1剂包含成分A：选自由氨、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺和异丙醇胺组成的组中的化合物；成分B：选自由碳酸盐和碳酸氢盐组成的组中的化合物；成分C：磷酸二烷基酯；成分D：高级醇；和成分E：氧化染料，第2剂包含成分X：过氧化氢，在上述第1剂中，上述成分D的含量为5.5质量％以下，在上述第1剂与上述第2剂的混合剂中，上述成分X的含量为1.5质量％以上且小于2.7质量％。
氧化染发剂染发混合制造方法以及

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN201680006771.9有效
发明人： 原真也;松尾尚;山田康治郎;本间寿;片冈由行 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明的扫描型的荧光X射线分析装置包括定量分析条件设定机构(13)，该机构根据标准试样(14)的定性分析结果和半定量分析结果，针对预先确定的试样组成元素以外的新检测元素，根据荧光X射线相对分析对象元素的分析值的吸收激励影响度、与干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度，判断是否应作为分析对象元素来追加。
荧光射线分析装置

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN201680049794.8有效
发明人： 原真也;松尾尚;山田康治郎;本间寿;片冈由行 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明的荧光X射线分析装置所具有的定量分析条件设定机构(13)针对多个标准试样(14)进行定性分析，根据其结果，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的峰测定角度，并且将经过定性分析的多个标准试样(14)的峰形合成，求出单一的假想外形，根据假想外形和预定的峰形的半值宽度，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的背景测定角度。
荧光射线分析装置

[发明专利]荧光X射线分析装置-CN201680003309.3在审
发明人：山田康治郎;原真也;堂井真 -专利权人：株式会社理学
申请日： 2016-07-01 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度，对于已指定的全部的测定线，通过理论计算而计算出推算测定强度，以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度，针对每个变化的测定线，通过基本参数法，求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值，根据该定量值和已指定的组成和/或厚度，进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。
荧光射线分析装置

[发明专利]荧光X射线分析装置和其所采用的程序-CN200580049351.0有效
发明人：河原直树;原真也 -专利权人：理学电机工业株式会社
申请日： 2005-12-08 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：一种荧光X射线分析装置等，其通过FP法对试样的组分、面积密度进行分析，针对各种试样，可按照简便、并且将几何效果充分符合现实而添加的方式计算理论强度，足够正确地进行定量分析。包括计算机构(10)，该计算机构(10)根据假定的组分，计算从试样(13)的各元素产生的二次X射线(6)的理论强度，按照该理论强度与通过上述检测机构(9)测定的测定强度换算为理论强度值的换算测定强度一致的方式，逐次近似地修正计算假定的组分，计算试样(13)的组分，上述计算机构(10)每当计算理论强度时，将试样(13)的大小与照射到试样表面(13a)的各位置的一次X射线(2)的强度和入射角φ作为参数，针对各光路模拟计算二次X射线(6)的理论强度。
荧光射线分析装置采用程序

[发明专利]荧光X射线分析装置和其所采用的程序-CN200610083463.4有效
发明人：河原直树;原真也;堂井真 -专利权人：理学电机工业株式会社
申请日： 2006-05-30 - 公布日： 2006-12-13 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种荧光X射线分析装置等，其可针对包含多个非测定元素的无法指定其原子序数的各种试样，在更宽的适合范围内充分而正确地进行分析。设置算出机构，其根据假定的元素的浓度计算由试样中的各元素产生的2次X射线的理论强度，按照该理论强度和通过检测机构测定的测定强度一致的方式，对上述假定的元素的浓度进行最佳化计算，算出试样的元素的浓度，上述算出机构针对不测定荧光X射线的非测定元素假定多个非测定元素的浓度，并且代替从试样中的非测定元素产生的2次X射线，采用其数量至少与假定浓度的非测定元素相同的1次X射线的散射线，所采用的1次X射线的散射线包含用试样散射之前的波长不同的散射线。
荧光射线分析装置采用程序

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