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[发明专利]抗氧化剂、抗氧化剂的制造方法以及金属材料的制造方法-CN201180044655.3有效
发明人：下田一宗;山川富夫;村松幸治;井上祐二;西森淳一;日高康善;松本圭司;加藤贵久;秋山修一 -专利权人：新日铁住金株式会社
申请日： 2011-07-13 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： C23D5/00 文献下载
摘要：本发明提供相比以往可抑制将被加热的金属原材料的表面生成氧化皮的抗氧化剂。本实施方式的抗氧化剂含有：软化点不同的多种玻璃粉；以及具有600℃以下的熔点的无机化合物。无机化合物主要在600℃前后的低温区内软化。多种玻璃粉主要在600℃～1300℃的温度区内软化。因此抗氧化剂可在宽温度区内覆盖金属原材料表面，从而抑制金属原材料表面氧化生成氧化皮。
抗氧化剂制造方法以及金属材料

[发明专利]制造振荡器装置的方法、有该装置的光偏转器和光学仪器-CN200880111065.6无效
发明人：藤井一成;加藤贵久;堀田薰央;宫川卓;秋山贵弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2010-09-01 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：一种用于制造振荡器装置的方法，所述振荡器装置具有第一和第二振荡器，所述第一和第二振荡器以第一和第二驱动共振频率gf1和gf2驱动，所述方法包括用于加工两个振荡器的第一步骤，其中，当两个振荡器要加工成具有第一和第二共振频率的振荡器，所述第一和第二共振频率以某一分散范围不同于两个驱动共振频率时，两个振荡器被加工成使得与两个驱动共振频率不同的第一和第二共振频率分别等于第一和第二共振频率f1和f2，其分别包括在可调节的共振频率范围内，和用于调节第一和第二共振频率f1和f2的第二步骤，使得它们分别等于第一和第二驱动共振频率gf1和gf2。
制造振荡器装置方法偏转光学仪器

[发明专利]摆动体装置及其制造方法、光学偏转器和图像形成装置-CN200880104125.1无效
发明人：藤井一成;堀田薰央;加藤贵久;森本弘之 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2008-08-20 - 公布日： 2010-07-21 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：一种摆动体装置(100)，包括利用支承部(102)可绕扭转轴线(110)振动地支承在固定部(103)上的摆动板(101)且以共振频率绕扭转轴线(110)驱动摆动板(101)，该摆动板具有形成用于调整摆动板的质量的槽部的区域，且共振频率被构造成可通过在该区域内形成槽部来调整。
摆动装置及其制造方法光学偏转图像形成

[发明专利]硅加工方法、微振荡器制造方法、光学设备和硅基片-CN200910167481.4无效
发明人： 加藤贵久;岛田康弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2009-08-25 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明涉及硅加工方法、微振荡器制造方法、光学设备和硅基片，所述硅加工方法包括：在单晶硅基片的主平面上形成掩模图案；以及向所述主平面应用晶体各向异性蚀刻，以形成包括(111)面及其等效晶面并且具有宽度W1和长度L1的结构体。主平面包括(100)面及其等效晶面、或(110)面及其等效晶面。在掩模图案中形成用于确定结构体的宽度W1的确定部。掩模图案的用于宽度W1的确定部的宽度为宽度W2。在掩模图案的长度方向上，除了确定部以外的掩模图案的宽度大于宽度W2。
加工方法振荡器制造光学设备硅基片

[发明专利]振荡器装置、光偏转器以及使用光偏转器的光学器械-CN200910132946.2无效
发明人： 加藤贵久;古川幸生;秋山贵弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2007-06-07 - 公布日： 2009-12-09 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明涉及振荡器装置、光偏转器以及使用光偏转器的光学器械，能够大范围且高速度地进行振荡部件的转动惯量或者重心位置的调节。其中，该振荡部件绕振荡轴线(17)振荡，并且该振荡部件包含可动元件(11)和质量调节部件(19)，在可动元件(11)和质量调节部件(19)之间限定有空腔(30)，从而，通过对质量调节部件(19)进行激光束照射，该质量调节部件的与空腔相邻近的一部分被部分地去除，该要被去除的部分包含所述质量调节部件中未被激光束照射的部分。
振荡器装置偏转以及使用光学器械

[发明专利]振荡器装置制造方法及具有振荡器装置的光偏转器和光学器械-CN200810178622.8有效
发明人： 加藤贵久;虎岛和敏;秋山贵弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2008-11-21 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：公开了一种基于蚀刻单晶硅基底的振荡器制造方法包括：掩模形成步骤，用于在单晶硅基底上形成具有带有包括多个相互连接振荡器的重复形状的图案的蚀刻掩模，振荡器中的每一个包括在支承基底和可动部件之间的扭簧；蚀刻步骤，用于在使用蚀刻掩模作为掩模的同时蚀刻单晶硅基底，从而在单晶硅基底上形成包括多个相应的相互连接振荡器的重复形状；和切割步骤，用于确定处于重复形状的每一个振荡器的可动部件和支承基板的宽度，当它们用作振荡器时，所述宽度有效地确定各个振荡器所需要的谐振频率，并且切割步骤用于以确定的所述宽度在毗连的振荡器之间切割可动部件和支承基板而进行切断。还公开了相应的光偏转器和光学器械。
振荡器装置制造方法具有偏转光学器械

[发明专利]振荡器件、光偏转器以及使用光偏转器的成像装置-CN200810131184.X有效
发明人：虎岛和敏;加藤贵久 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2008-07-30 - 公布日： 2009-02-04 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种在驱动期间维持可动部分平整度的振荡器件。该振荡器件具有支撑部分、可动部分、以允许可动部分绕着扭转轴线扭转地振荡的方式将可动部分连接至支撑部分的扭簧、以及构造成使可动部分振荡的驱动单元。可动部分由单晶硅制成。可动部分的主面位于(110)晶面中，并且可动部分的平行于主面并且垂直于扭转轴线的晶体取向是[111]取向；本发明还公开了一种光偏转器以及使用光偏转器的成像装置。
振荡器件偏转以及使用成像装置

[发明专利]横流式风机用轴连结器以及具有该轴连结器的横流式风机-CN200710140131.X有效
发明人：河合孝;加藤贵久 -专利权人：日本高分子株式会社
申请日： 2007-08-06 - 公布日： 2008-08-27 - 主分类号： F04D29/66 文献下载
摘要：本发明提供一种横流式风机用轴连结器以及具有该轴连结器的横流式风机，其不损害因横流式风机的旋转所引起的噪音或振动的抑制机能，且能够削减构件点数并比较容易且廉价地进行制造，而且，对侧面构件的安装比较容易。本发明为一种横流式风机用轴连结器，其具有使旋转轴进行连结的轴毂部，且在包围该轴毂部的外缘区域上安装有横流式风机的侧面构件。该轴连结器包括轴毂部、以及使该轴毂部另成一体而安装的板构件，并在该板构件的用于保持轴毂部的筒状部和外缘区域的相互之间形成环绕部，且在该环绕部上设置可弹性区域，其中，该可弹性区域具有对以轴毂部为中心的放射方向，沿着同一方向而弯曲延伸的多个缝隙，并可变形及还原。
横流式风机连结以及具有

[发明专利]振荡器装置、光偏转器以及使用光偏转器的光学器械-CN200710109624.7有效
发明人： 加藤贵久;古川幸生;秋山贵弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2007-06-07 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：一种振荡器装置及其制造方法，能够大范围且高速度地进行振荡部件的转动惯量或者重心位置的调节。其中，该振荡部件绕振荡轴线(17)振荡，并且该振荡部件包含可动元件(11)和质量调节部件(19)，在可动元件(11)和质量调节部件(19)之间限定有空腔(30)，从而，通过对质量调节部件(19)进行激光束照射，该质量调节部件的与空腔相邻近的一部分被部分地去除，该要被去除的部分包含所述质量调节部件中未被激光束照射的部分。
振荡器装置偏转以及使用光学器械

[发明专利]光偏转器及使用光偏转器的光学仪器-CN200710108181.X有效
发明人： 加藤贵久;古川幸生;岛田康弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2007-05-30 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本申请涉及一种光偏转器及使用光偏转器的光学仪器，尤其涉及不管诸如温度的环境干扰如何，都可以相对稳定地驱动的光偏转器，该光偏转器包括具有不同频率的多个固有振动模式的振动系统(160)、用于驱动振动系统的驱动单元、以及用于将驱动信号提供给驱动单元的驱动控制单元，该振动系统(160)包括具有光偏转元件(22)的第一振荡器可移动元件(11)、第一扭簧(12)、第二振荡器可移动元件(13)、第二扭簧(12)、和支撑部件(15)，该光偏转器还包括用于检测第一和/或第二扭簧的机械形变的畸变检测元件(25a和25b)，以及生热元件(19)，其用于稳定固有振动模式的频率和扫描状态以确保稳定的正弦波组合驱动。
偏转使用光学仪器

[发明专利]光偏转器和使用光偏转器的光学仪器-CN200710108171.6有效
发明人：虎岛和敏;加藤贵久;古川幸生;岛田康弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2007-05-30 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：一种光偏转器，包括：支撑构件；具有光偏转元件的第一活动元件；至少一个第二活动元件；至少一个配置为支撑所述第一和第二活动元件的第一扭转弹簧，用于围绕振荡轴的扭转振荡；至少一个配置为支撑所述第二活动元件和所述支撑构件的第二扭转弹簧，用于围绕振荡轴的扭转振荡；以及配置为向所述第一和第二活动元件中的至少一个施加驱动力的驱动系统；其中第二活动元件对所述振荡轴的转动惯量大于所述第一活动元件对振荡轴的转动惯量，第二活动元件在垂直于振荡轴的方向上的长度等于或小于第一活动元件在垂直于振荡轴的方向上的长度。
偏转使用光学仪器

[发明专利]光偏转器和使用该光偏转器的光学仪器-CN200710108182.4有效
发明人： 加藤贵久;虎岛和敏;古川幸生;岛田康弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2007-05-30 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：光偏转器包括振荡系统和用于驱动振荡系统的驱动系统，振荡系统包括第一振荡器、第一扭力弹簧、第二振荡器、第二扭力弹簧和支撑部件，第一振荡器包括具有被配置为偏转光的光偏转元件的第一可活动元件，第二振荡器包括具有被配置为调整质量的质量调整部件的第二可活动元件，其中，第一可活动元件由第二可活动元件通过第一扭力弹簧弹性地支撑，用于围绕振荡轴进行扭转振荡，其中，第二可活动元件由支撑部件通过第二扭转弹簧弹性地支撑，用于围绕振荡轴进行扭转振荡，以及其中，振荡系统具有至少两种具有不同的频率的围绕振荡轴振荡的固有振荡模式。
偏转使用光学仪器

[发明专利]设备模拟器-CN200610153122.X无效
发明人： 加藤贵久;河井研介;大塚博一;大塚有希生 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2006-12-07 - 公布日： 2007-06-13 - 主分类号： G09B9/00 文献下载
摘要：本发明的设备模拟器具有：设备监视操作部(300)，将由设备模拟部计算的参数及设备状态显示在显示画面上，将利用该显示画面对设备进行的操作赋予上述设备模拟部；模拟指令部(100)，与终端画面连接，将来自该终端画面的包括模拟所需的初始值的设定、及模拟的执行停止的请求指令赋予上述设备模拟部；模拟与控制模式及设备模式相应的系统事故；其特征在于，具备：系统事故要因选择部(500)，具有存储了与上述控制模式相应的系统事故要因的动作逻辑的系统事故要因数据库(504)、以及取出存储在该系统事故要因数据库中的数据的选择单元；系统事故执行部(400)，根据从上述系统事故要因选择部取出的数据执行系统事故；对系统事故进行模拟。
设备模拟器

[发明专利]光学扫描系统和利用该系统的图像形成设备-CN200610171866.4有效
发明人：石部芳浩;加藤贵久;安田进 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2006-08-22 - 公布日： 2007-05-30 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：公开一种光学扫描系统和利用该系统的图像形成设备，其尺寸小但是能够产生高质量图像输出，其中光学扫描系统包括沿主扫描方向扫描偏转来自光源的光束的偏转装置，和在将被扫描的表面上使通过所述偏转装置的偏转表面偏转的光束成像的成像光学系统，其中所述偏转表面进行往复运动，以利用通过所述偏转表面偏转的光束沿主扫描方向往复扫描表面，其中第一方向指在通过偏转表面以相应于有效扫描区域中最大扫描位置的有效偏转角度反射的光束的边缘光线和主光线之间沿主扫描方向的波前像差的相位差方向，该相位差由于光束通过偏转表面的反射而产生，而第二方向指在通过偏转表面以其有效偏转角度反射的光束的边缘光线和主光线之间沿主扫描方向的波前像差的相位差方向，该相位差由于光束通过所述成像光学系统的透射而产生，以及其中所述成像光学系统内的至少一个光学系统在主扫描截面中设有非弧形的至少一个光学表面，以便确保第一和第二方向彼此相对。
光学扫描系统利用图像形成设备

[发明专利]光偏转器-CN200610059426.X无效
发明人： 加藤贵久;古川幸生 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2006-03-02 - 公布日： 2006-09-06 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：一种光偏转器，用于使用来自光源的光进行扫描，该光偏转器包括支撑体、振荡系统和用于驱动该振荡系统的驱动装置。该振荡系统包括第一可移动元件和具有光偏转体的第二可移动元件。该第一可移动元件借助于单个的第一扭力弹簧由支撑体弹性地支撑。该第二可移动元件借助于多个第二扭力弹簧由第一可移动元件被弹性地支撑，这些弹簧与插入在它们之间的第二可移动元件面对面设置。
偏转

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