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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[外观设计]旋转喷涂机泵料机-CN202330181587.0有效
发明人： 冯雄涛;顾佳星;金鑫;朱泽 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：旋转喷涂机泵料机。2.本外观设计产品的用途：用于储存浆料，同时按照系统控制的流量输出浆料。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。5.因仰视图不常见，省略仰视图。
旋转喷涂机泵料机

[实用新型]一种转盘结构-CN202320957552.6有效
发明人：严超;金鑫;顾佳星;冯雄涛 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： B05B3/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及喷涂设备技术领域，尤其涉及一种转盘结构，包括腔体和转动盘，所述腔体的内部设置有用于旋喷浆料的转动盘，所述转动盘上设置有塑料盖片，所述转动盘的底部固定连接有防积料组件，所述腔体的底部固定连接有支架，所述支架的底部固定插设有电机。本实用新型通过设置防挂料斜面、细密化花纹、偏心滴入位和塑料盖片，浆料从进料口倒入，滴落至偏心滴入位上，转动盘高速旋转，细密化花纹在转动盘旋转的过程中对经过此花纹面的浆料颗粒细密化，最终从喷料口喷射到被喷涂物上，从而实现高效的喷射雾化浆料颗粒，并且可调节颗粒射入点和射出颗粒大小，进而增强转盘的实用性和便捷性。
一种转盘结构

[外观设计]旋转喷涂机电控系统-CN202330181717.0有效
发明人： 冯雄涛;顾佳星;金鑫;朱泽 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：旋转喷涂机电控系统。2.本外观设计产品的用途：用于设备的电气元件安装以及控制。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
旋转喷涂机电系统

[外观设计]旋转喷涂机旋喷系统-CN202330181851.0有效
发明人： 冯雄涛;顾佳星;金鑫;朱泽 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：旋转喷涂机旋喷系统。2.本外观设计产品的用途：用于将泵料系统输入的浆料均匀地喷涂于基膜表面。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
旋转喷涂机旋喷系统

[发明专利]一种用于半导体生产的热交换系统及热交换方法-CN202210081866.4在审
发明人： 冯雄涛;金鑫;顾佳星;张斌 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： F17D1/14 文献下载
摘要：本发明涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种用于半导体生产的热交换系统，包括为热交换系统提供循环液的冷冻液系统、为热交换系统提供去离子循环液的去离子回路系统、厂务水系统和作为系统储液装置的储液系统，冷冻液系统的进、出液端与储液系统连接构成一个循环液的循环回路；一种用于半导体生产的热交换系统的热交换方法，包括以下过程：通过立式多级离心泵将水箱中的循环液实现一个独立的循环回路，循环液依次进入负载装置、集成回液装置和板式换热装置后进入水箱。本发明解决了热交换系统热交换时间过短，系统庞大，集成度比较低的问题，从而提高了热量交换的充分性，提高对于厂务水系统的利用率。
一种用于半导体生产热交换系统方法

[外观设计]温控设备（HED240）-CN202230317595.9有效
发明人： 冯雄涛;顾佳星;金鑫 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：温控设备（HED240）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度精确控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
温控设备 hed240

[外观设计]温控设备（HED360）-CN202230166179.3有效
发明人：顾佳星;金鑫;冯雄涛 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：温控设备（HED360）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度精确控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
温控设备 hed360

[外观设计]温控设备（THD004D）-CN202230069523.7有效
发明人： 冯雄涛;金鑫;顾佳星;张斌;朱泽 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：温控设备（THD004D）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度精确控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
温控设备 thd004d

[外观设计]温控设备（THG004D）-CN202230069519.0有效
发明人： 冯雄涛;金鑫;顾佳星;张斌;朱泽 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：温控设备（THG004D）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
温控设备 thg004d

[外观设计]温控设备（THG004S）-CN202230069518.6有效
发明人： 冯雄涛;金鑫;顾佳星;张斌;朱泽 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：温控设备（THG004S）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度精确控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
温控设备 thg004s

[外观设计]温控设备（THD004S）-CN202230069520.3有效
发明人： 冯雄涛;金鑫;顾佳星;张斌;朱泽 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：温控设备（THD004S）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
温控设备 thd004s

[发明专利]一种纯水发生系统的提升装置及使用方法-CN202210067198.X在审
发明人： 冯雄涛;金鑫;顾佳星;张斌 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2022-01-20 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C02F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及纯水发生系统技术领域，解决了目前技术中的纯水发生装置在使用过程更换去离子树脂不方便，占据空间范围大，浪费严重的问题，尤其涉及一种纯水发生系统的提升装置，包括去离子树脂储存装置和过渡储液装置，去离子树脂储存装置插接在过渡储液装置内，去离子树脂储存装置和过渡储液装置为可拆卸固定连接；去离子树脂储存装置包括插接在过渡储液装置内的过滤组件，过滤组件外部的底端套设有加装组件，加装组件与过滤组件焊接，加装组件的底部通过螺钉可拆卸连接有固定板组件。本发明大大增加了系统的空间利用率，使去离子树脂的更换过程更加方便，同时增大了交换面积及容量，并且可以持续重复的使用。
一种纯水发生系统提升装置使用方法

[外观设计]精密温控设备（HED100-I4-1PH）-CN202130682652.9有效
发明人：金鑫;冯雄涛;顾佳星 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：精密温控设备（HED100‑I4‑1PH）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度精确控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
精密温控设备 hed100 i4 ph

[外观设计]温控设备（HED200-3PH）-CN202130639111.8有效
发明人：郝国强;金鑫;冯雄涛 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：温控设备（HED200‑3PH）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度精确控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
温控设备 hed200 ph

[外观设计]精密温控设备（TX+200）-CN202130703230.5有效
发明人：金鑫;顾佳星;张斌;冯雄涛 -专利权人：合肥亦威科技有限公司
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：精密温控设备（TX+200）。2.本外观设计产品的用途：用于半导体薄膜沉积（CVD/PVD）、刻蚀（Etch）等制程的温度精确控制，应用行业一般为LED、IC等晶元制造厂。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品整体的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
精密温控设备 tx 200

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