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[发明专利]衍射光栅、衍射光栅的制造方法和光掩模-CN202080054621.1有效
发明人： 八重樫健太;江畠佳定 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2020-02-21 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明的衍射光栅的制造方法提高衍射光栅的性能。准备包括基板(7)、和具有由多个槽(GR1)构成的表面形状的抗蚀剂图案(6b)的成型构件(8)。多个槽(GR1)包括多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)，多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)在X方向上交替重复，并且分别在Y方向上延伸。另外，彼此相邻的底部(BP1)的间隔阶段性地变化。接下来，在抗蚀剂图案(6b)的表面上形成金属膜(9)，以覆盖多个槽(GR1)，然后从成型构件(8)剥离金属膜(9)。由此，形成具有与抗蚀剂图案(6b)的表面形状相反的表面形状的金属膜(9)。金属膜(9)的多个顶部(TP2)和多个底部(BP2)分别对应于抗蚀剂图案(6b)的多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)。能使用这种金属膜(9)形成锯齿形状的衍射光栅。
衍射光栅制造方法光掩模

[发明专利]凹面衍射光栅以及光学装置-CN202180010423.X有效
发明人：青野宇纪;江畠佳定;八重樫健太;松井繁;内田功;山本治朗 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供凹面衍射光栅和使用了该凹面衍射光栅的光学装置，该凹面衍射光栅能够防止反射膜因温度的影响而变形且能够防止由温度导致的光学特性的降低。本发明的凹面衍射光栅具备：反射膜(22)，其具备多个光栅槽(21)；保持膜(25)，其由金属构成，且在一方的面设有反射膜(22)；凹面基板(24)，其具备凹面(24a)；以及固定层(23)，其设于凹面(24a)与保持膜(25)的另一方的面之间，将保持膜(25)和反射膜(22)固定于凹面基板(24)。
凹面衍射光栅以及光学装置

[发明专利]凹面衍射光栅的制造方法及光学装置-CN202180040233.2在审
发明人：青野宇纪;江畠佳定;八重樫健太;松井繁 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种高精度地制造具有均匀的衍射光栅图案的凹面衍射光栅的技术。本公开的凹面衍射光栅的制造方法包括如下步骤：准备具有光栅槽、以及形成于成为凹面衍射光栅的模具的区域外的伸长部、薄膜部或低摩擦部的平面衍射光栅；将所述平面衍射光栅安装于凸面基板来取得所述凹面衍射光栅的模具；以及将所述模具的所述光栅槽转印于凹面基板。
凹面衍射光栅制造方法光学装置

[发明专利]凹面衍射光栅的制造方法、凹面衍射光栅及使用其的分析装置-CN201880059819.1有效
发明人： 八重樫健太;江畠佳定;青野宇纪 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：能够容易地、高精度地将衍射光栅的沟槽图案的沟槽周期与凸面固定基板的位置进行对准。为此，将形成于平面衍射光栅(101)的、具有不等间隔的沟槽周期的沟槽图案(103)转印至金属薄膜(105)，在具有固定金属薄膜(105)的凸面的固定基板(108)的凸面上形成第一位置对准标记(109)，将形成于金属薄膜(105)的粘接面的第二位置对准标记(106)与第一位置对准标记(109)进行重合，由此进行位置对准，将金属薄膜的粘接面与固定基板的凸面进行粘接来制备母版(110)，转印母版(110)的金属薄膜的沟槽图案，由此来制备凹面衍射光栅。
凹面衍射光栅制造方法使用分析装置

[发明专利]凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置-CN201980042410.3有效
发明人：青野宇纪;江畠佳定;八重樫健太;松井繁 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：提供能通过球面像差的抑制来提升衍射效率的凹面衍射光栅。凹面衍射光栅(2)对光进行分光、聚光，在凹面状的基板(24)上具有锯齿形状的光栅槽(21)，锯齿形状的光栅槽(21)的间隔不等。另外，通过用光刻法以及蚀刻、或机械加工在平面基板上形成锯齿形状，使形成锯齿形状为不等间隔的光栅槽(21)的平面衍射光栅在凸面固定基板上变形，来将安装的凹面衍射光栅的模转印到金属或树脂的表面，由此形成对光进行分光、聚光的凹面衍射光栅(2)。
凹面衍射光栅及其制造方法光学装置

[发明专利]凹面衍射光栅的制造方法、制造装置以及凹面衍射光栅-CN201980046336.2在审
发明人： 八重樫健太;江畠佳定;青野宇纪 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-07-02 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种凹面衍射光栅的制造方法，包括如下步骤：使在推压面具有衍射光栅的槽图案的平面金属模具的上述推压面与在凹面涂布有树脂的凹面基板的上述凹面对置，配置上述平面金属模具及上述凹面基板；利用流体对上述平面金属模具进行加压，将上述推压面推压到涂布于上述凹面的上述树脂；以及使通过上述推压面被推压而转印有上述槽图案的上述树脂固化。由此，能够改善载荷不均匀性，能够制造具有高的面精度的凹面衍射光栅。
凹面衍射光栅制造方法装置以及

[发明专利]分光光度计和分光分析装置、以及分光光度计的制造方法-CN201980068536.8在审
发明人： 八重樫健太;江畠佳定;青野宇纪 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： G01J3/20 文献下载
摘要：分光光度计(300)包括白色光源(212)、对从白色光源(212)释放的光进行聚光的聚光透镜(242a、242b)、对由聚光透镜(242a、242b)聚光后的光进行衍射的狭缝(245)、对通过狭缝(245)的光进行分光的凹面衍射光栅(246)、以及具有对由凹面衍射光栅(246)分光后的光进行检测的多个光检测元件(304)的多波长检测器(248)，多波长检测器(248)具有的多个光检测元件(304)中的各个配置于凹面衍射光栅(246)的成像位置。
分光光度计分析装置以及制造方法

[发明专利]曲面衍射光栅的模型的制造方法、曲面衍射光栅的制造方法、曲面衍射光栅以及光学装置-CN201580044297.4在审
发明人：青野宇纪;松井繁;江畠佳定;八重樫健太 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2015-09-16 - 公布日： 2017-04-19 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：在通过机械加工在曲面基板上制造锯齿形状的衍射光栅图案时，工具的角度固定，因而在曲面的中心部、外周部处成为衍射光栅图案的角度不同的形状。另外，在通过半导体工艺在曲面基板上进行光刻、蚀刻，从而形成锯齿形状的衍射光栅图案时，需要调整光刻时的焦点深度和蚀刻角度，从而导致成本变高。本发明的曲面衍射光栅的模型的制造方法包括在金属制平面衍射光栅基板上形成衍射光栅图案的工序、在金属制平面衍射光栅基板的、与形成有衍射光栅图案的面相反侧的面上形成焊料的工序；在曲面基板上将与焊料共晶的接合材料成膜的工序；以及利用曲面固定基板和曲面固定基板夹住金属制平面衍射光栅基板并施加负荷的工序。
曲面衍射光栅模型制造方法以及光学装置

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