专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有抗反射涂层的基板-CN201610920961.3在审
  • 克里斯蒂安·亨;托尔斯滕·达姆 - 肖特公开股份有限公司
  • 2012-02-23 - 2017-08-22 - C03C17/34
  • 本发明涉及具有抗反射涂层的基板。本发明基于如下任务,即改善防反光层的抗磨损强度。为此,设置有经涂层的基板,该基板‑在至少一侧上具有多层式的抗反射涂层(5),该抗反射涂层(5)‑由具有不同折射率的层来构造,其中,具有较高折射率的层和具有较低折射率的层交替,其中,‑具有较低折射率的层由具有铝份额的氧化硅来构造,在这些具有较低折射率的层中‑铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.05、优选大于0.08,但硅的材料量相对于铝的材料量占优势,并且其中,‑具有较高折射率的层包含硅化物、氧化物或者氮化物。
  • 具有反射涂层
  • [发明专利]具有抗反射涂层的基板和用于制造该基板的方法-CN201210042892.2有效
  • 克里斯蒂安·亨;托尔斯滕·达姆 - 肖特公开股份有限公司
  • 2012-02-23 - 2012-08-29 - B32B9/04
  • 本发明涉及具有抗反射涂层的基板和用于制造该基板的方法。本发明基于如下任务,即:改善防反光层的抗磨损强度。为此,设置有经涂层的基板,该基板-在至少一侧上具有多层式的抗反射涂层(5),该抗反射涂层(5)-由具有不同折射率的层来构造,其中,具有较高折射率的层和具有较低折射率的层交替,其中,-具有较低折射率的层由具有铝份额的氧化硅来构造,在这些具有较低折射率的层中-铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.05、优选大于0.08,但硅的材料量相对于铝的材料量占优势,并且其中,-具有较高折射率的层包含硅化物、氧化物或者氮化物。
  • 具有反射涂层用于制造方法
  • [发明专利]高性能玻璃陶瓷和用于制备高性能玻璃陶瓷的方法-CN201080041650.0有效
  • 法尔克·加贝尔;伊夫琳·鲁迪吉尔-沃伊特;克里斯蒂安·亨;罗兰德·勒鲁;洛伦茨·施特恩格;罗兰德·杜德克 - 肖特公开股份有限公司
  • 2010-07-13 - 2012-06-13 - C03C10/06
  • 本发明涉及高性能玻璃陶瓷及用于制备所述玻璃陶瓷的方法。作为初始材料使用可为锂-铝-硅酸盐(LAS)的玻璃或玻璃陶瓷,所述玻璃或玻璃陶瓷具有如下以重量%计的极限值范围内的组成:60-73SiO2、15-25Al2O3、2.2-5Li2O、0-5CaO+SrO+BaO、0-5TiO2、0-5ZrO2、>0-4ZnO、0-3Sb2O3、>0-3MgO、0-3SnO2、0-9P2O5、0-1.5As2O3、>0-1Na2O、>0-0.5K2O、0-1.2Na2O+K2O和0-1着色氧化物。坯体经历如下热处理以陶瓷化:-以>15K/min的加热速率从室温至660℃(例如以58K/min在11分钟之内进行);-直到约20分钟的处理时间,将加热速率缓慢降低至0;-在790℃30分钟恒定;-以>10K/min(例如30K/min)加热至最大温度(1080-1300℃);-在最大温度下无保持时间;-以15-350K/min的冷却速率冷却至400℃;-冷却至室温。在调温过程中,优选用具有小于10秒反应时间的传感器记录工件处的温度。因此,炉以至多10秒的反应时间调节温度。如此制备的LAS-玻璃陶瓷在特别是未进行后处理状态或深加工状态下,长处在于:在落球试验中的大于15cm(例如56±13cm)的高抗冲击性、根据DIN 12116的1级或2级(例如1级)的耐酸性以及700℃以上的抗温差性(TUF)。这种玻璃陶瓷特别适用于炉衬、炉窗、灶板、耐化学性实验室容器、白色家电、防紫外线的半透明制品等。
  • 性能玻璃陶瓷用于制备方法

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