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[发明专利]物理气相沉积装置及物理气相沉积方法-CN200880130931.6无效
发明人：汤本敦史;丹羽直毅;广木富士男;山本刚久 -专利权人：多摩-技术转让机关株式会社
申请日： 2008-07-28 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明提供使即使通过等离子体或电弧放电等加热也难以形成微粒的物质成膜的物理气相沉积装置及物理气相沉积方法。所述物理气相沉积装置包括在内部具备蒸发源材料(15)和对蒸发源材料(15)进行加热的加热部(16)的蒸发室(10)、在内部具备粉体的粉体供给源(20)、成膜室(30)，通过加热部(16)对蒸发源材料(15)进行加热而生成微粒(纳米粒子)，使微粒和粉体从超音速喷管(35)喷出并承载于超音速气流，从而使微粒和粉体物理气相沉积于成膜对象基板(33)。
物理沉积装置及物理气方法

[发明专利]物理沉积系统-CN200580039353.1有效
发明人：汤本敦史;丹羽直毅;广木富士男;塩田一路;山本刚久 -专利权人：多摩－技术转让机关株式会社
申请日： 2005-10-14 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种用于形成膜的物理沉积系统，该系统在超高真空环境中通过超音速气流，使利用非移动型等离子炬产生的微粒加速，从而使微粒沉积到基片上而不产生释气。该物理沉积系统包括：蒸发腔(10，20)，其内部具有等离子炬(16，26)和蒸发源(15，25)；以及成膜腔(30)，其内部具有超音速喷嘴(35)和用于沉积膜的基片(33)。每个等离子炬包括：基本上呈管状的导电阳极(40)；聚合物基或非聚合物基的绝缘管(50)，该绝缘管被插入阳极中并且产生比电木要少的释气；以及棒状阴极(60)，它被插入绝缘管(50)中。通过利用向阳极(40)和阴极(60)加电压而获得的等离子体，便从蒸发源(15，25)中产生微粒，这些微粒从超音速喷嘴(35)中喷射出去并且被超音速气流携载着，由此在基片(33)上物理地沉积了一层膜。
物理沉积系统