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[发明专利]可再书写光学信息记录介质、记录/再现方法及记录/再现设备-CN03808321.3无效
发明人：玉田作哉;岩村贵;佐飞裕一;小山田光明;山本真伸;小池正士;三泽伝美;小木曾章;奈良亮介;德弘淳;塚原宇 -专利权人：索尼株式会社;三井化学株式会社
申请日： 2003-02-14 - 公布日： 2005-07-27 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：提供一种可再书写光信息记录介质，包括由有机染料膜组成的记录层，其中通过激光照射可逆地进行信息记录和擦除。提供一种可再书写的信息记录介质，包括至少一种基本上仅由至少一种有机染料化合物组成的有机染料膜作为记录膜的可再书写信息记录介质。信息的记录和擦除通过激光照射引起的有机染料薄膜物质的局部可逆物理变化进行。具体地，数据记录通过借助记录激光照射局部引起的物理变化来进行，数据再现通过检测具有低于所述记录激光的功率的再现激光的返回光的密度变化进行，数据擦除通过施加至少一次具有高于所述再现激光的激光功率和低于所述记录激光的功率的连续激光或脉冲激光进行。物理变化为形状变化。
书写光学信息记录介质再现方法设备

[发明专利]光记录介质和氮杂卟啉化合物-CN200410090365.4无效
发明人：小木曾章;井上忍;西本泰三;塚原宇;三泽伝美;小池正士;三原纪彦;村山俊介;奈良亮介 -专利权人：三井化学株式会社
申请日： 2000-12-26 - 公布日： 2005-07-20 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：一种光记录介质，在记录层含有至少一种可形成金属配合物的选自一－、二－和三－氮杂卟啉化合物的化合物；或一种光记录介质，包括一个基层和在基层上形成的至少一个含有有机染料作为主成分的记录层，特征在于，有机染料在吸收光谱中在400nm或更短的λ1波长有第一最大吸收值并在比λ1波长更长的一侧有第二最大吸收值，以及一个波长带，在该波长带中上述有机染料的折射率(n)和吸光系数(k)满足下述关系：n≥1.90和0.03≤K≤0.30。
记录介质卟啉化合物

[发明专利]苯并双唑基化合物-CN200410089855.2无效
发明人：小木曾章;井上忍;塚原宇;西本泰三;三泽伝美 -专利权人：三井化学株式会社;山本化成株式会社
申请日： 2001-01-05 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C07D498/04 文献下载
摘要：一种光记录介质包括基片和在基片上形成的作为记录层的有机染料层，其中记录层包含至少一种以通式(1)表示的苯并双唑基化合物。[式中，取代基X和Y各自表示芳基或杂芳基；环A和B各自表示噁唑环或噻唑环；以及Q¹和Q²各自表示氢原子、卤素原子或烷基；条件是，以取代基X和Y分别表示的芳基或杂芳基各自可用卤素原子、羟基、氰基、氨基，取代或未取代的烷基、芳烷基、芳基、链烯基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、链烯氧基、烷硫基、芳烷硫基、芳硫基、链烯硫基、单取代的氨基、双取代的氨基、酰基、烷氧羰基、芳烷氧羰基、芳氧羰基、链烯氧羰基、单取代的氨基羰基、双取代的氨基羰基、酰氧基或杂环基等来取代]。
双唑基化合物

[发明专利]苯并双吡咯基化合物,光记录介质用化合物-CN01805771.3无效
发明人：小木曾章;井上忍;塚原宇;西本泰三;三泽伝美 -专利权人：三井化学株式会社;山本化成株式会社
申请日： 2001-01-05 - 公布日： 2003-03-26 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：一种光记录介质包括基片和在基片上形成的作为记录层的有机染料层，其中记录层包含至少一种以通式(1)表示的苯并双吡咯化合物。[式中，取代基X和Y各自表示芳基或杂芳基；环A和B各自表示噁唑环或噻唑环；以及Q1和Q2各自表示氢原子、卤素原子或烷基；条件是，以取代基X和Y分别表示的芳基或杂芳基各自可用卤素原子、羟基、氰基、氨基，取代或未取代的烷基、芳烷基、芳基、链烯基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、链烯氧基、烷硫基、芳烷硫基、芳硫基、链烯硫基、单取代的氨基、双取代的氨基、酰基、烷氧羰基、芳烷氧羰基、芳氧羰基、链烯氧羰基、单取代的氨基羰基、双取代的氨基羰基、酰氧基或杂环基等来取代]。
吡咯化合物记录介质

[发明专利]水基墨汁和生产染料的方法-CN01802791.1无效
发明人：松崎赖明;藤井谦一;高后修;成濑洋;三泽伝美 -专利权人：三井化学株式会社
申请日： 2001-07-16 - 公布日： 2003-01-22 - 主分类号： C09D11/00 文献下载
摘要：含有一种色素和水溶液介质作为主要组份的水基喷墨打印墨汁，其中至少一种组份是选自具有通式(A)的染料及其盐类，并以色素(A)被包含在墨汁内[其中R1和R3分别是氢、卤素等；R2和R4分别是氢、烷基等；A是苯基或萘基；X是两价连接基团；m和n值分别为1至4]。最好是通式(A)所代表的染料中通过把染料的水溶液的pH调节到9以上而不含有不溶物。这种墨汁不会堵塞打印机头并能形成高质量和无洇渗的图像。
墨汁生产染料方法

[发明专利]光记录介质和类卟吩化合物-CN01133196.8无效
发明人：小木曾章;井上忍;塚原宇;西本泰三;三泽伝美;小池正士 -专利权人：三井化学株式会社;山本化成株式会社
申请日： 2001-08-10 - 公布日： 2002-03-06 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明涉及能用300nm－500nm和/或500nm－700nm波长的激光器进行良好记录和再现的可记录光记录介质,其记录层中包括至少一种视需要与金属螯合的类卟吩化合物。
记录介质卟吩化合物

[发明专利]二吡咯亚甲基－金属螯合物和用它做的光学记录介质-CN01116852.8无效
发明人：西本泰三;塚原宇;井上忍;小木曾章;三泽伝美;小池正士 -专利权人：三井化学株式会社;山本化成株式会社
申请日： 2001-02-28 - 公布日： 2001-10-17 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学记录介质，该记录介质包括在基质上至少一个记录层和一个反射层，其中该记录层含有至少一种通式(1)所代表的二吡咯亚甲基一金属螯合物其中R1－R6和R7如说明书中所定义；A代表碳原子数高达20的、取代的或未取代的芳香不或杂环；L1代表取代的或未取代的二价残基，它与跟它相连的碳原子一起形成环，并且该环可以含有或不含有杂原子；和M1代表过渡金属元素。
吡咯甲基金属螯合物光学记录介质

[发明专利]光学记录介质和其中所采用的二吡咯甲烷金属螯合物-CN98124655.9无效
发明人： 三泽伝美;小木曾章;西本泰三;杉本贤一;塚原宇;沟上健二;诧摩启辅;加藤健一;政冈俊裕;熊谷洋二郎 -专利权人：三井化学株式会社;山本化成株式会社
申请日： 1998-09-17 - 公布日： 1999-06-02 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本文公开了在底物上具有至少一记录层和反射层的新的光学记录介质,其中在记录层中包含至少一种式(1)代表的二吡咯甲烷金属螯合物。其中R1和R9各自独立地为链烯基、芳基或芳杂芳基;R2至R8各自独立地为氢原子、卤原子、或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或杂芳基;M为过渡金属。
光学记录介质其中采用吡咯甲烷金属螯合物

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