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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]制造掩模组件的方法-CN202310182278.4在审
发明人：金辉;金桢国;宋昇勇;李娥凛;赵恩翡;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：公开了掩模组件的制造方法。所述掩模组件的制造方法包括以下步骤：将掩模片张紧；将张紧的掩模片与掩模框架连接；以及在张紧的掩模片中限定开口加工区域以形成分别对应于开口加工区域的开口。限定开口加工区域的步骤包括：在第一方向和与第一方向交叉的第二方向上在张紧的掩模片中限定初始开口加工区域，以确定初始开口加工区域的加工顺序；基于加工顺序，计算在初始开口加工区域中的每个中累积的累积变形量；以及基于累积变形量，校正初始开口加工区域中的每个的尺寸和位置。
制造模组方法

[发明专利]掩模框架组件及显示装置的制造方法-CN202310524251.9在审
发明人：金仁培;文敏浩;任星淳;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-05-30 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：本发明实施方式公开了掩模框架组件的制造方法，其包括以下步骤：准备通过轧制加工制造的掩模基材；在掩模基材的一面侧对掩模基材的部分区域进行半蚀刻以形成第一子图案部；将绝缘薄膜附接到除了第一子图案部以外的、掩模基材的一面侧的本体部，并且将导体附接到掩模基材的与一面相反的另一面；实施电铸以将第二子图案部镀到第一子图案部上；将绝缘薄膜和导体从掩模基材分离；以及朝向第二子图案部照射激光束，以形成贯穿第一子图案部和第二子图案部的多个图案孔。
框架组件显示装置制造方法

[发明专利]显示装置-CN202310071680.5在审
发明人：郑进秀;黄圭焕;裵光洙;尹锡奎;李大荣;李德重;郑茶姬 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-01-13 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H10K59/35 文献下载
摘要：本发明提供显示装置。显示装置被区分为沿第一方向彼此相邻的第一单位像素和第二单位像素，第一单位像素和第二单位像素中的每一个包括：第一组，布置于第一行；以及第二组，布置于沿与第一方向垂直的第二方向与第一行相隔的第二行，第一组包括：第一发光区域，发出第一光；以及第二发光区域，沿第一方向与第一发光区域相隔第一间距而布置，并且发出第二光，第二组包括：受光区域；以及第三发光区域和第四发光区域，将受光区域置于彼此之间且沿第一方向相隔第二间距而布置，并且分别发出第三光，其中，第一单位像素的第四发光区域和第二单位像素的第三发光区域沿第一方向相隔25μm以上且100μm以下而布置，因此能够简化形成发光区域和受光区域的工艺。
显示装置

[发明专利]掩模组件及修复其的方法-CN202211474358.9在审
发明人：金桢国;文敏浩;宋升勇;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开涉及可修复的掩模组件及修复该掩模组件的方法。掩模组件包括：开口掩模，设置有开口并设置在框架上；单元掩模，设置在开口掩模上，单元掩模包括沉积部分和焊接部分，沉积开口限定在沉积部分上以在平面图中与开口重叠，并且焊接部分各自在远离沉积部分的突出方向上从沉积部分突出；焊接突出部，分别设置在焊接部分上；以及至少一个残留结构，包括与单元掩模分离的残留焊接部分和设置在残留焊接部分上的残留焊接突出部。所述至少一个残留结构设置在焊接部分之间。
模组修复方法

[发明专利]掩模框架组件及显示装置的制造方法-CN201810536782.9有效
发明人：金仁培;文敏浩;任星淳;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-05-30 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：本发明实施方式公开了掩模框架组件、掩模框架组件的制造方法及显示装置的制造方法，其中，掩模框架组件包括框架、本体部和图案部，其中，框架具有开口部，本体部与框架结合，并且图案部与本体部连接且被本体部围绕，并且图案部包括第一子图案部和第二子图案部，其中，第一子图案部具有第一晶粒度(grain size)，且第二子图案部布置在第一子图案部上并且具有小于第一晶粒度的第二晶粒度，其中，图案部包括供沉积物质通过的多个图案孔，并且图案孔贯穿第一子图案部和第二子图案部。
框架组件显示装置制造方法

[发明专利]掩模组件-CN202211411617.3在审
发明人：金桢国;金辉;文英慜;宋昇勇;李娥凛;赵恩翡;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2023-05-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了一种掩模组件，所述掩模组件包括：框架，包括框架开口；以及掩模，设置在框架上。掩模包括：主体部分，包括彼此相对的上表面和下表面以及彼此间隔开的沉积开口；突起，从上表面突出并且围绕对应的沉积开口；以及至少一个台阶形成图案，在平面图中与突起叠置并且设置在主体部分中。
模组

[发明专利]掩模组件及其维修方法-CN202211264867.9在审
发明人：金桢国;金辉;文英慜;宋昇勇;李娥凛;赵恩翡;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-10-17 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B23P6/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩模组件及其维修方法。掩模组件的维修方法包括如下步骤：提供掩模组件，所述掩模组件包括框架、开放式掩模及第一单元掩模，所述开放式掩模定义有第一开放式开口部并布置于所述框架的上表面，所述第一单元掩模定义有与所述第一开放式开口部重叠的多个第一沉积开口部并布置于所述开放式掩模的上表面；在所述第一单元掩模的外侧第一次切割所述开放式掩模，以定义具有大于所述第一开放式开口部的面积的第二开放式开口部；以及将定义有与所述第一沉积开口部对应的多个第二沉积开口部的第二单元掩模结合于所述第一次切割后的所述开放式掩模。
模组及其维修方法

[发明专利]显示装置-CN202211359261.3在审
发明人：金娥珑;朴正善;郭惠珍;朴熙敏;李娟和;黄圭焕;金载益;李濬九 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-11-01 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H10K59/123 文献下载
摘要：本公开涉及显示装置，该显示装置包括：辅助线，包括主子层、布置在主子层下方的下子层、以及布置在主子层上方的上子层；分隔壁，与辅助线相邻并且包括与辅助线的侧表面对应的开口；第一电极，与辅助线相邻；第二电极，布置在第一电极和辅助线上方；以及中间层，布置在第一电极和第二电极之间并且包括发射层，其中，辅助线的上子层包括在横向方向上从主子层的侧表面和上表面彼此相交的点突出的尖部，分隔壁的上端与辅助线的尖部间隔开，并且第二电极接触辅助线。
显示装置

[发明专利]显示设备-CN202211333554.4在审
发明人：朴熙敏;李濬九;郭惠珍;金娥珑;金载益;朴正善;李娟和;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H01L27/15 文献下载
摘要：本申请涉及一种显示设备。显示设备包括：辅助线，包括主子层和在主子层上的上层；绝缘层，包括具有比辅助线大的宽度的第一开口，其中，第一开口与辅助线重叠；第一电极，在绝缘层上；中间层，与第一电极重叠并且包括发射层；辅助层，其至少一部分与辅助线重叠；以及第二电极，在辅助层上，其中，辅助线的上层包括尖端，尖端在横向方向上从第一点突出并且从第一点向上曲化，在第一点中主子层的侧表面和上表面彼此相交，以及第二电极通过绝缘层的第一开口接触主子层的侧表面。
显示设备

[发明专利]显示装置和显示装置的制造方法-CN202211320875.0在审
发明人：李濬九;郭惠珍;金阿荣;金载益;朴正善;朴熙敏;李娟和;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-10-26 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H10K59/121 文献下载
摘要：提供一种显示装置和显示装置的制造方法。该显示装置包括：基底；半导体层，在基底上；源电极和漏电极，在半导体层上；辅助电极，与源电极和漏电极在同一层；第一电极，与源电极或漏电极电连接；发光元件层，在第一电极上；以及第二电极，在发光元件层上，并且辅助电极包括位于辅助电极内部的至少一个凹槽。
显示装置制造方法

[发明专利]掩模制造方法-CN202211254337.6在审
发明人：金辉;金桢国;宋昇勇;李娥凛;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本发明涉及掩模制造方法，一实施例的掩模制造方法包括如下步骤：准备包括彼此面对的第一表面和第二表面的预备掩模片；向所述预备掩模片的所述第一表面照射第一激光来形成包括从所述第一表面凹陷的凹陷部及与所述凹陷部相邻且从所述第一表面突出的突出部的掩模支撑部；以及向所述预备掩模片的所述第二表面照射第二激光来形成与所述突出部相邻并贯通所述预备掩模片的开口部，从而可以用于制造能够改善在被沉积面处的沉积区域的精度及可靠度的掩模。
制造方法

[发明专利]显示装置和制造该显示装置的方法-CN202211173807.6在审
发明人：李濬九;郭惠珍;金娥珑;金载益;朴正善;朴熙敏;李娟和;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H10K59/12 文献下载
摘要：提供了包括具有提高的透射率的透射区域的显示装置和制造该显示装置的方法。显示装置具有显示区域和在显示区域外部的外围区域，显示区域具有透射区域和像素区域，该显示装置包括：衬底；显示元件，与像素区域对应，并且包括像素电极、在像素电极上的中间层、以及在中间层上的相对电极；光致发光层，与透射区域对应，并且包括光致发光材料；以及辅助层，在光致发光层上，其中，相对电极包括第一材料，辅助层包括第二材料，并且在室温下第一材料的表面能高于第二材料的表面能。
显示装置制造方法

[发明专利]显示装置-CN202211122518.3在审
发明人：金载益;郭惠珍;金娥珑;朴正善;朴熙敏;李娟和;李濬九;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： H10K59/131 文献下载
摘要：一种显示装置包括：辅助布线，位于基板上；绝缘层，布置在辅助布线上，在平面图中与辅助布线重叠，并且包括具有比辅助布线的宽度大的宽度的开口；第一电极，位于绝缘层上；堤坝层，包括在平面图中与第一电极重叠的发射开口；中间层，在平面图中通过发射开口而与第一电极重叠，并且包括发射层；第二电极，位于中间层上；以及辅助层，布置在第二电极上，其中辅助布线包括子层，并且第二电极和辅助层中的每一个通过绝缘层的开口而接触子层中的一个子层的侧表面。
显示装置

[实用新型]掩模组装体-CN202222042679.3有效
发明人：赵恩翡;金桢国;文英慜;宋昇勇;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种掩模组装体，包括：第一掩模片，具备第一开口部；第二掩模片，包括第一区域以及与所述第一区域相邻的第二区域，其中，在所述第一区域中配置有在平面图中与所述第一开口部重叠的多个第二开口部，在所述第二区域中配置有使所述第一掩模片露出且彼此相邻的第一贯通孔和第二贯通孔；以及连接部，在平面图中配置在所述第一贯通孔和所述第二贯通孔之间且将所述第一掩模片和所述第二掩模片彼此连接，所述第一掩模片和所述第二掩模片之中的一个具备被配置成在平面图中与所述第一贯通孔及所述第二贯通孔之中的至少一个相邻的凹陷部。
模组

[发明专利]显示装置-CN202210971446.3在审
发明人：朴正善;郭惠珍;金娥珑;金载益;朴熙敏;宋昇勇;李德重;李娟和;李濬九;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： H10K59/122 文献下载
摘要：本发明涉及显示装置。该显示装置包括：基板；第一电极；第二电极，与第一电极邻近；第一发射层，在第一电极上；第二发射层，在第二电极上；第一低粘合图案，在平面图中在第一发射层的中心与第二发射层的中心之间；第一负电荷产生层，连续布置以覆盖第一发射层、第二发射层和第一低粘合图案；第一正电荷产生层，在第一负电荷产生层上；第一上发射层，在第一正电荷产生层上，并且与第一发射层重叠；第二上发射层，在第一正电荷产生层上，并且与第二发射层重叠；以及公共电极，在第一上发射层和第二上发射层上。
显示装置

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