专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有氮化铟镓三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的半导体器件-CN201880075677.8有效
  • 李晓航;刘开锴 - 阿卜杜拉国王科技大学
  • 2018-10-10 - 2023-09-29 - H01L21/20
  • 提供了一种用于形成半导体器件的方法,所述半导体器件具有布置在第二III族氮化物三元合金层上的第一III族氮化物三元合金层的异质结。确定用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的浓度范围,使得在第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的界面处的极化强度差的绝对值小于或等于0.007C/m2或大于或等于0.04C/m2。从确定的浓度范围中选择用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的特定浓度,使得在第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的界面处的极化强度差的绝对值小于或等于0.007C/m2或大于或等于0.04C/m2。利用所选择的用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的特定浓度来形成半导体器件。第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层具有纤锌矿晶体结构。第一III族氮化物三元合金层是InGaN,并且第二III族氮化物三元合金层是AlGaN、InAlN、BAlN或BGaN。
  • 具有氮化三元合金第二iii氮化物异质结半导体器件
  • [发明专利]用于从海水中富集锂的系统和方法-CN202280010672.3在审
  • 赖志平;李震;黄国维 - 阿卜杜拉国王科技大学
  • 2022-01-18 - 2023-09-08 - C22B26/12
  • 一种用于提高流中锂(Li)浓度的池(100),其包括壳体(102);位于壳体(102)内并将壳体(102)分为第一室(104)和第二室(106)的致密锂选择膜(108);位于第一室(104)中的阴极电极(105);位于第二室(106)中的阳极电极(107);流体连通至第二室(106)的第一管道回路(116),其被配置为向第二室(106)供应进料流(110);流体连通至第一室(104)的第二管道回路(124),其被配置为循环富集流(120)通过第一室(104);以及电源(109),其被配置为在阴极电极和阳极电极之间施加电压,以启动阳极电极上的氧化电化学反应和阴极电极上的还原电化学反应。致密锂选择膜的厚度小于400。
  • 用于海水富集系统方法
  • [发明专利]用于形成分级纤锌矿III族氮化物合金层的方法-CN201880078771.9有效
  • 李晓航;刘开锴 - 阿卜杜拉国王科技大学
  • 2018-12-04 - 2023-08-22 - H01L33/02
  • 一种用于在第二层上形成包括包含纤锌矿III族氮化物合金的分级纤锌矿III族氮化物合金层的半导体器件的方法。基于半导体器件的预期功能选择针对分级纤锌矿III族氮化物合金层的极化掺杂浓度分布。基于所选择的针对分级纤锌矿III族氮化物合金层的极化掺杂浓度分布,确定分级纤锌矿III族氮化物合金层的组分‑极化变化率和分级纤锌矿III族氮化物合金层的分级速度。组分‑极化变化率和分级速度均基于纤锌矿III族氮化物合金的第一元素和第二元素的组分。使用所确定的组分‑极化变化率和分级速度,基于分级纤锌矿III族氮化物合金层中距离第二层的当前位置来调整纤锌矿III族氮化物合金的第一III族氮化物元素和第二III族氮化物元素的组分,以在第二层上形成具有所选择的极化掺杂浓度分布的分级纤锌矿III族氮化物合金层。
  • 用于形成分级锌矿iii氮化物合金方法
  • [发明专利]具有氮化硼铝三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的半导体器件-CN201880075723.4有效
  • 李晓航;刘开锴 - 阿卜杜拉国王科技大学
  • 2018-10-10 - 2023-08-22 - H01L21/20
  • 提供了一种用于形成半导体器件的方法,所述半导体器件具有布置在第二III族氮化物三元合金层上的第一III族氮化物三元合金层的异质结。确定用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的浓度范围,使得在第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的界面处的极化强度差的绝对值小于或等于0.007C/m2或大于或等于0.04C/m2。从确定的浓度范围中选择用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的特定浓度,使得在第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的界面处的极化强度差的绝对值小于或等于0.007C/m2或大于或等于0.04C/m2。利用所选择的用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的特定浓度来形成半导体器件。第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层具有纤锌矿晶体结构。第一III族氮化物三元合金层是BAlN,并且第二III族氮化物三元合金层是InGaN、InAlN、AlGaN或BGaN。
  • 具有氮化三元合金第二iii氮化物异质结半导体器件
  • [发明专利]具有氮化硼镓三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的半导体器件-CN201880075777.0有效
  • 李晓航;刘开锴 - 阿卜杜拉国王科技大学
  • 2018-10-10 - 2023-08-22 - H01L21/20
  • 提供了一种用于形成半导体器件的方法,所述半导体器件具有布置在第二III族氮化物三元合金层上的第一III族氮化物三元合金层的异质结。确定用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的浓度范围,使得在第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的界面处的极化强度差的绝对值小于或等于0.007C/m2或大于或等于0.04C/m2。从确定的浓度范围中选择用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的特定浓度,使得在第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的界面处的极化强度差的绝对值小于或等于0.007C/m2或大于或等于0.04C/m2。利用所选择的用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的特定浓度来形成半导体器件。第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层具有纤锌矿晶体结构。第一III族氮化物三元合金层是BGaN,并且第二III族氮化物三元合金层是InGaN、InAlN、BAlN或AlGaN。
  • 具有氮化三元合金第二iii氮化物异质结半导体器件
  • [发明专利]形成III族氮化物合金-CN201880078302.7有效
  • 李晓航;刘开锴 - 阿卜杜拉国王科技大学
  • 2018-12-04 - 2023-08-18 - H01L21/02
  • 用于形成半导体器件的方法包括选择衬底、和纤锌矿III族氮化物合金层的压电极化和有效压电系数,在所述衬底上将形成纤锌矿III族氮化物合金层。确定是否存在满足所选有效压电系数的纤锌矿III族氮化物合金成分。还基于所选衬底和所选有效压电系数,确定是否存在满足所选压电极化的由纤锌矿III族氮化物合金成分形成的层的厚度。对于确定存在晶格常数满足所选有效压电系数的纤锌矿III族氮化物合金成分,并且该纤锌矿III族氮化物合金成分形成的层的厚度满足所选压电极化的情况,在衬底上形成纤锌矿III族氮化物合金层,所述纤锌矿III族氮化物合金层具有满足所选有效压电系数的纤锌矿III族氮化物合金成分并且具有满足所选压电极化的厚度。
  • 形成iii氮化物合金
  • [发明专利]具有氮化铟铝三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的半导体器件-CN201880075712.6有效
  • 李晓航;刘开锴 - 阿卜杜拉国王科技大学
  • 2018-10-10 - 2023-08-15 - H01L21/20
  • 提供了一种用于形成半导体器件的方法,所述半导体器件具有布置在第二III族氮化物三元合金层上的第一III族氮化物三元合金层的异质结。确定用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的浓度范围,使得在第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的界面处的极化强度差的绝对值小于或等于0.007C/m2或大于或等于0.04C/m2。从确定的浓度范围中选择用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的特定浓度,使得在第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的异质结的界面处的极化强度差的绝对值小于或等于0.007C/m2或大于或等于0.04C/m2。利用所选择的用于第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层的III族氮化物元素的特定浓度来形成半导体器件。第一III族氮化物三元合金层和第二III族氮化物三元合金层具有纤锌矿晶体结构。第一III族氮化物三元合金层是InAlN,并且第二III族氮化物三元合金层是InGaN、AlGaN、BAlN或BGaN。
  • 具有氮化三元合金第二iii氮化物异质结半导体器件

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