专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]衬底处理装置-CN202080045539.2在审
  • 吴雄教;金英云;刘光洙;金度亨;河闰圭 - 周星工程股份有限公司
  • 2020-07-09 - 2022-02-01 - H01J37/32
  • 本发明涉及一种衬底处理装置,包括第一电极和第二电极,第一电极和第二电极的位置可以考虑热膨胀系数的差异而提前调整,使得即使在处理期间第一电极和第二电极出现热膨胀的情况下也防止通过第一电极和第二电极之间的接触所产生的短路。即使在第一电极和第二电极由于处理期间温度的上升而出现热膨胀的情况下,本发明的衬底处理装置也可以防止第一电极和第二电极之间的短路,并且可以在用于处理大衬底的衬底处理装置中维持薄膜的均匀性。
  • 衬底处理装置
  • [发明专利]基板处理设备-CN201980026434.X在审
  • 吴雄教;金英云;刘光洙;曺源泰 - 周星工程股份有限公司
  • 2019-04-19 - 2020-11-27 - H01J37/32
  • 本发明涉及一种基板处理设备,包括:腔室;第一电极,其设置在腔室的顶部;第二电极,其设置在第一电极的底部并且包括多个开口;多个突起电极,其从第一电极延伸并且延伸到第二电极的多个开口;基板支撑件,其面对第二电极并且基板放置在其上;第一放电区域,其在第一电极的底表面与第二电极的顶表面之间;第二放电区域,其在突起电极的侧表面与第二电极的开口内表面之间;第三放电区域,其在突起电极的底表面与第二电极的开口内表面之间;以及第四放电区域,其在第二电极与基板之间,其中,在第一放电区域至第四放电区域的至少一个区域中产生等离子体。
  • 处理设备

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