“金世一”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果25个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]掩模-CN202320315730.5有效
发明人： 金世一;李尙玟 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：公开了一种掩模，所述掩模包括：主体，具有在第一方向上的长度，并且包括多个第一单元区域以及多个第二单元区域，多个第一单元区域在第一方向上布置且分别包括多个第一孔，多个第二单元区域分别包括多个第二孔；以及夹持部，从主体在第一方向上突出。对准标记限定在主体上，并且当在与第一方向交叉的第二方向上观看时，对准标记与第一单元区域和第二单元区域叠置。
掩模

[发明专利]掩模及其制造方法-CN202310180188.1在审
发明人： 金世一;李尙玟 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：公开了一种掩模和用于制造该掩膜的方法，所述掩模包括：主体，具有在第一方向上的长度，并且包括多个第一单元区域以及多个第二单元区域，多个第一单元区域在第一方向上布置且分别包括多个第一孔，多个第二单元区域分别包括多个第二孔；以及夹持部，从主体在第一方向上突出，并且与主体成一体。对准标记限定在主体上，并且从第一孔和第二孔偏移，并且当在与第一方向交叉的第二方向上观看时，对准标记与第一单元区域和第二单元区域叠置。
及其制造方法

[发明专利]有机发光显示装置-CN201710536425.8有效
发明人：吴彦锡;金相烈;金世一;田宇植;崔宝美 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-07-04 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H10K59/131 文献下载
摘要：本发明提供了有机发光显示装置。一种有机发光显示装置包括具有像素区和非像素区的基底基板、在所述像素区上的有机发光元件以及在所述非像素区中的辅助线。所述有机发光元件包括阳极、设置在所述阳极上的第一有机发光层、第一阴极以及第二阴极。所述第一阴极在所述第一有机发光层上，从而与所述辅助线电连接。所述第二阴极在所述第一阴极上，从而与所述第一阴极电连接。所述第一阴极可以包括金属，并且所述第二阴极可以包括透明导电氧化物(TCO)。本公开提供的有机发光显示装置具有提高的显示质量。
有机发光显示装置

[发明专利]掩模组件以及用于制造显示装置的装置和方法-CN202211262359.7在审
发明人： 金世一;金珉奭;朴钟圣;李尚玟 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开涉及掩模组件以及用于制造显示装置的装置和方法。所述掩模组件包括：掩模框架，包括开口区域；第一掩模，布置在所述掩模框架上并且在对应于所述开口区域的区域中包括至少一个第一开口部分；以及第二掩模，布置在所述第一掩模上并且包括多个第二开口部分，其中所述多个第二开口部分在垂直于所述第一掩模的表面的方向上与所述至少一个第一开口部分重叠。
模组以及用于制造显示装置装置方法

[实用新型]掩模组件以及用于制造显示装置的装置-CN202222711572.3有效
发明人： 金世一;金珉奭;朴钟圣;李尚玟 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及掩模组件以及用于制造显示装置的装置。所述掩模组件包括：掩模框架，包括开口区域；第一掩模，布置在所述掩模框架上并且在对应于所述开口区域的区域中包括至少一个第一开口部分；以及第二掩模，布置在所述第一掩模上并且包括多个第二开口部分，其中所述多个第二开口部分在垂直于所述第一掩模的表面的方向上与所述至少一个第一开口部分重叠。
模组以及用于制造显示装置装置

[发明专利]显示装置、掩模组件以及显示装置的制造装置-CN202210259498.8在审
发明人：李相信;金相勳;金谞延;金世一;柳英恩;朴钟圣;李尙玟;李丞赈;张原荣 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-03-16 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示装置、掩模组件以及显示装置的制造装置。所述显示装置包括：基板；第一像素电极、第二像素电极以及第三像素电极，布置在基板上，并且彼此相邻；第一下部发光层、第二下部发光层以及第三下部发光层，与第一像素电极、第二像素电极以及第三像素电极分别对应，并且发出彼此不同的波长带的光；对电极，布置在第一下部发光层至第三下部发光层上；以及第一公共层，设置于第一像素电极至第三像素电极与第一下部发光层至第三下部发光层之间，其中，第一公共层包括与第一像素电极、第二像素电极以及第三像素电极分别对应且彼此断开的第1‑1图案部、第1‑2图案部以及第1‑3图案部。
显示装置模组以及制造装置

[发明专利]显示设备-CN202210110046.3在审
发明人： 金世一;安洪均;高政佑;李尚玟 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-01-29 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种显示设备包括：基底；1‑1发光器件和1‑2发光器件，在所述基底上，并且各自包括第一发射层和第一电荷产生层；第二发光器件，与所述1‑1发光器件相邻，并且包括第二发射层和第二电荷产生层，所述第二发射层包括发射与由所述第一发射层发射的光的颜色不同的颜色的光的材料，所述第二电荷产生层与所述第一电荷产生层间隔开；以及像素限定层，包括暴露所述1‑1发光器件、所述1‑2发光器件和所述第二发光器件中的每一个的像素电极的中心部分的开口，其中，所述像素限定层的在所述1‑1发光器件和所述1‑2发光器件之间的上表面包括朝向所述基底凹陷的第一凹槽，其中，所述第一电荷产生层在所述第一凹槽处被切断。
显示设备

[发明专利]掩模、掩模组件和制造显示面板的方法-CN202111534565.4在审
发明人：李相信;金相勳;金世一;安洪均;朴钟圣;李丞赈 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及掩模、掩模组件和制造显示面板的方法。掩模包括：主体部分，包括单元区域和围绕单元区域的外围区域，主体部分具有限定在其中的多个单元开口；以及多个标记图案，在外围区域处。单元区域包括：第一区域；以及第二区域，与第一区域相邻，并且多个单元开口包括：第一单元开口，限定在第一区域处并且彼此间隔开；以及第二单元开口，限定在第二区域处并且彼此间隔开。标记图案中的每个包括至少一个凹陷部分并且具有关于相应的对称点的点对称形状。
掩模模组制造显示面板方法

[发明专利]掩模-CN202110807435.7在审
发明人： 金世一;金義圭;李宽熙;李尚玟;高晙赫;洪承柱 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩模包括第一掩模，所述第一掩模包括在第一方向上延伸的第一长边和在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的第一短边，并且所述第一掩模包括在所述第一方向上顺序布置的第一边缘部分、第一中心部分和第一焊接部分。所述掩模进一步包括第二掩模，所述第二掩模包括在所述第一方向上延伸的第二长边和在所述第二方向上延伸的第二短边，并且所述第二掩模包括在所述第一方向上顺序布置的第二焊接部分、第二中心部分和第二边缘部分。所述第一焊接部分与所述第二焊接部分接触。
掩模

[发明专利]掩模组件-CN202110647568.2在审
发明人：高晙赫;孔炳翼;金世一;金义圭;闵秀玹;李尙玟;张原荣;洪承柱 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩模组件。掩模组件包括沉积掩模框架和沉积掩模，沉积掩模框架包括：边缘部分，包括沿着第一方向的相对的上部部分和下部部分；以及支承件，沿着第一方向在边缘部分的上部部分与下部部分之间，沉积掩模可附接至沉积掩模框架。沉积掩模包括图案区域和第一沉积区域，图案区域与支承件对应，并且包括：第一焊接区域，在第一焊接区域处，沉积掩模可附接至支承件；对准调整图案，沿着第一方向邻近于第一焊接区域；以及在对准调整图案处的第二厚度的沉积掩模，该第二厚度小于沉积掩模在第一焊接区域处的第一厚度，第一沉积区域包括沉积掩模的上部沉积开口，并且在掩模框架的上部部分与支承件之间。
模组

[发明专利]金属掩模-CN202110244634.1在审
发明人： 金世一;金宗范;安鼎铉;李尚玟 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-03-05 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：根据本公开的一些实施方式的金属掩模可包括具有第一厚度并具有第一区域和邻近第一区域的第二区域的金属薄膜，第一区域包括：透射区域，限定穿透金属薄膜的第一开口；以及非透射区域，包括具有小于第一厚度的第二厚度的蚀刻部分，第二区域限定穿透金属薄膜的第二开口，其中，第一区域的开口密度小于第二区域的开口密度，第一区域的开口密度被限定为第一开口的数量/第一区域的面积，并且第二区域的开口密度被限定为第二开口的数量/第二区域的面积。
金属

[发明专利]掩模制造方法-CN202010883215.8在审
发明人： 金世一;李尚玟;金义圭;白大源 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-08-28 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： G03F1/80 文献下载
摘要：根据本发明的一实施例，掩模制造方法包括：将掩模片配置在彼此隔开的第一辊及第二辊上的步骤，所述掩模片包括限定有第一区域及第二区域的图案区域；通过使所述第一辊及所述第二辊旋转以将所述图案区域配置在曝光模块上的步骤；通过所述曝光模块对所述第一区域执行第一曝光工序以在所述第一区域上形成第一图案的步骤；以及通过所述曝光模块对所述第二区域执行第二曝光工序以在所述第二区域上形成第二图案的步骤。
制造方法

[发明专利]掩模组件和制造掩模组件的方法-CN202110006236.6在审
发明人： 金世一;李尚玟;金義圭;白大源 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-01-05 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开涉及掩模组件和用于制造掩模组件的方法。掩模组件包括：掩模框架，包括在第一方向上并排地定位并由支撑条限定的第一掩模开口和第二掩模开口；第一分离掩模，与所述第一掩模开口重叠；以及第二分离掩模，与所述第二掩模开口重叠，并且所述第一分离掩模和所述第二分离掩模在与所述支撑条重叠的区域中彼此间隔开。
模组制造方法

[发明专利]显示设备及其制造装置和方法、掩模组件及其制造方法-CN202011307981.6在审
发明人： 金世一;白大源;李尚玟;高政佑;安洪均;李钟大 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2021-05-21 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：提供了显示设备及其制造装置和方法、掩模组件及其制造方法，具体提供了一种显示设备、掩模组件、制造该掩模组件的方法、用于制造该显示设备的装置以及制造该显示设备的方法。本公开包括一种具有图案孔的掩模片，该图案孔具有不同的形状、不同的尺寸以及相邻图案孔之间的不同的距离中的至少一个，并且通过使用该掩模片来制造显示设备。
显示设备及其制造装置方法模组

[发明专利]掩模组件及包括掩模组件的用于制造显示装置的设备-CN202010070772.8在审
发明人： 金世一 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-01-21 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了一种用于制造显示装置的掩模组件和一种包括掩模组件的用于制造显示装置的设备，所述掩模组件包括：掩模框架，包括沿第一方向布置的一对第一边部分、沿与第一方向相交的第二方向布置的一对第二边部分以及由第一边部分和第二边部分限定的开口部分；掩模片，布置在掩模框架的开口部分上，固定在掩模框架上，并且包括多个开口；以及支撑构件，利用被施加的拉力附着到掩模框架的第一边部分和第二边部分中的至少一者。
模组包括用于制造显示装置设备

1
2
下一页»
尾页
共 25 条