专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体激光器及其制备方法-CN202311189899.1在审
  • 郭丽彬;周大勇;杨慧永;祝曾伟;顾俊 - 材料科学姑苏实验室
  • 2023-09-15 - 2023-10-24 - H01S5/34
  • 本发明实施例公开了一种半导体激光器及其制备方法。制备方法包括:提供衬底;在衬底的一侧依次制备第一限制层、第一波导层、量子阱有源层和第二波导层;在第二波导层背离量子阱有源层的一侧依次制备多层子限制层,多层子限制层构成第二限制层;其中,子限制层为p型掺杂层,沿多层子限制层层叠的方向,位于中间的子限制层的掺杂浓度大于位于两侧的子限制层的掺杂浓度;在第二限制层背离第二波导层的一侧制备接触层。本发明中,对第二限制层的生长工艺进行优化,既可保证掺杂离子在第二限制层中的有效激活,满足第二限制层低电阻率的要求,还可减少第二限制层中杂质的引入,减少激光器的内部损耗,提升激光器性能。
  • 一种半导体激光器及其制备方法
  • [实用新型]一种阀口清理工装-CN202122541233.0有效
  • 张英;沈焕钢;郭丽彬 - 浙江南都电源动力股份有限公司
  • 2021-10-21 - 2022-06-14 - B08B5/02
  • 本实用新型涉及电池加工技术领域,具体涉及一种阀口清理工装。包括连通部,所述连通部下侧设置有配合部,所述配合部上设置有吹扫通道,所述吹扫通道与所述连通部连通,所述吹扫通道的轴线与连通部的轴线错开。针对铅酸蓄电池阀口残液吹扫效果不好的技术问题,本实用新型提供了一种阀口清理工装,在通入气流的情况下,它利用自身结构,使吹出的气流朝向特定的方向,形成气旋,实现了阀口底部及侧边残液的彻底吹扫。
  • 一种清理工装
  • [发明专利]绿盲蝽在不同因子下稳定表达的内参基因及其应用-CN201911110000.6有效
  • 罗静;王奥丽;成艳霞;郭丽彬;徐乐天 - 湖北大学
  • 2019-11-14 - 2022-05-10 - C12Q1/6888
  • 本发明提出了绿盲蝽在不同因子下稳定表达的内参基因组合及其应用。具体组合方案如下:不同发育阶段稳定表达的内参基因组合为RPL27和RPL32,不同组织的内参基因组合为RPL27和RPL32,dsRNA处理条件下的内参基因组合为RPL27和EF1γ。还提出了该稳定表达内参基因用于荧光定量分析时所使用的不同引物序列。本发明首次确定了绿盲蝽在三种因子条件下最稳定的内参基因组合,为研究绿盲蝽在不同发育阶段、不同组织、以及dsRNA介导的RNA干扰条件下基因表达水平的分析提供了合适内参基因的选择,为研究绿盲蝽的基因功能以及RNAi介导的转基因作物的研发及其安全评价建立了夯实的基础。
  • 绿盲蝽不同因子稳定表达内参基因及其应用
  • [发明专利]图形化氮化铝复合衬底、深紫外LED外延结构及制备方法-CN202110002544.1有效
  • 齐胜利;郭丽彬;刘亚柱 - 宁波安芯美半导体有限公司
  • 2021-01-04 - 2022-03-08 - H01L33/12
  • 本发明涉及半导体器件技术领域,具体涉及一种图形化氮化铝复合衬底、由该复合衬底制备的深紫外LED外延结构及该深紫外LED外延结构的制备方法。所述图形化氮化铝复合衬底由蓝宝石衬底、图形化氮化铝层组成,且图形化氮化铝层为表面压印有孔型图案的氮化铝层;所述深紫外LED外延结构结构从下到上依次由图形化氮化铝复合衬底、外延氮化铝层、n型AlGaN接触层、AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN多量子阱有源层、p型AlGaN层和p型GaN外延层。本发明通过匹配溅射氮化铝退火温度和纳米压印图形周期尺寸可以控制复合衬底上外延氮化铝的应力状态,制备几乎无应力的氮化铝薄膜,在此基础上的深紫外LED裂纹面积小、晶体质量高,因此良率高、光电性能优越。
  • 图形氮化复合衬底深紫led外延结构制备方法
  • [发明专利]深紫外LED外延结构、深紫外LED及制备方法-CN202110002673.0有效
  • 齐胜利;郭丽彬;周飚;刘亚柱 - 宁波安芯美半导体有限公司
  • 2021-01-04 - 2021-12-07 - H01L33/20
  • 本发明涉及LED技术领域,技术涉及一种深紫外LED外延结构、深紫外LED及其制备方法。所述深紫外LED外延结构的制备方法如下:在衬底上生长深紫外LED外延层至P型AlGaN层,在深紫外LED外延层P型AlGaN层模板的基础上,在上面做图形化SiO2,然后在外延在此基础上生长P型GaN层,把图形化SiO2外延层刻蚀掉,即制得深紫外LED外延结构;然后在刻蚀掉SiO2层的位置镀上Al电极,即制得深紫外LED。图形化SiO2被刻蚀后的位置镀上的Al电极,可有效增加光的反射,增加出光。同时,Al电极附近较薄的P型GaN层可有效减少P型GaN层的吸光,提升UVC产品的发光效率,同时特殊工艺的Al电极,可增加光的反射,增加出光效率,提升器件的光电性能,特别可满足大功率产品的需求。
  • 深紫led外延结构制备方法
  • [发明专利]一种深紫外LED外延结构及其制备方法-CN202111025420.1在审
  • 丁涛;周飚;郭丽彬;齐胜利 - 宁波安芯美半导体有限公司
  • 2021-09-02 - 2021-12-03 - H01L33/12
  • 本发明提供一种应用于深紫外发光二极管的外延结构及制备方法,具体步骤如下:提供一平片衬底;生长AlN缓冲层;对AlN缓冲层进行等离子体预处理;生长AlN低温层;生长AlN高温层;生长n型AlGaN层;生长AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN多量子阱有源层;生长Mg掺杂的p型AlGaN层,Mg掺杂的p型AlGaN层和Mg掺杂的p型GaN层。通过等离子体轰击AlN缓冲层表面以在AlN缓冲层铺上一层气体原子,AlN缓冲层所铺上的一层气体原子改变了AlN缓冲层表面的极性,使得后续在AlN缓冲层沉积吸附的AlN的晶体原子排列较为整齐,从而减少了外延层中的晶体缺陷,改善AlN薄膜的晶体质量,减少穿透位错,提升深紫外发光二极管的光电性能。
  • 一种深紫led外延结构及其制备方法
  • [发明专利]一种深紫外LED外延结构及其制备方法-CN202110002659.0在审
  • 齐胜利;郭丽彬;刘亚柱 - 宁波安芯美半导体有限公司
  • 2021-01-04 - 2021-04-30 - H01L33/24
  • 本发明属于半导体光电子器件技术领域中的深紫外LED外延生长技术,具体涉及一种深紫外LED外延结构及其制备方法。所述深紫外LED外延结构从下而上由衬底、高温AlN层、N型AlGaN层、MQW多量子阱发光层、P型GaN层组成,所述N型AlGaN层上开设有V型状缺陷阵列,MQW多量子阱发光层、P型GaN层在N型AlGaN层上的V型状缺陷上依次继续外延生长。本发明通过在N型AlGaN层刻蚀出V型缺陷,使得MQW在非极性面上生长,释放生长过程中产生的应力,V型缺陷坑使得有源发光区由传统的平面结构变为立体结构,增加了水平的PN结,可控制载流子输运路径,增加复合面积,增加UVCLED的发光面积,提高发光亮度,解决了现有技术中深紫外LED器件的发光效率偏低的问题。
  • 一种深紫led外延结构及其制备方法
  • [实用新型]一种便于焊接的光窗支架-CN202020558066.3有效
  • 郭丽彬;张永刚 - 格莱特(天津)光电科技有限公司
  • 2020-04-15 - 2021-03-23 - B23K37/04
  • 本实用新型公开了一种便于焊接的光窗支架,包括夹板、伸缩杆和调节座,伸缩杆的两端分别铰接在夹板的一侧和调节座的上端,调节座为凹字形结构,且内部两端通过销轴铰接有副杆,副杆的下端转动连接有两个夹板,该便于焊接的光窗支架,通过伸缩杆两端的夹板设置,从而可以利用夹板一侧的调节螺母转动,从而带动丝杆转动,从而使丝杆在转动时通过往复块带动滑板相对运动,从而改变滑板在夹板一侧的位置,从而做到针对不同尺寸的光窗尺寸,对光窗进行固定,从而利用三个夹板对光窗的两个框边进行夹取固定,完成对光窗的准确定位固定,方便人员焊接安装,有效提高人工手动固定方式造成的加工效率低下以及操作不便的问题。
  • 一种便于焊接支架

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