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- [发明专利]用于处理基板的装置-CN202210667080.0在审
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车铭硕;李相旼;郑镇优;尹堵铉
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细美事有限公司
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2022-06-13
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2022-12-13
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H01L21/67
- 本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：提供内部空间的腔室；流体供应单元，该流体供应单元配置为将处理流体供应至内部空间；流体排出单元，该流体排出单元配置为从内部空间排出处理流体，并且其中流体排出单元包括：与腔室连接的排出管线；压力调节构件，该压力调节构件安装在排出管线处并配置为将内部空间的压力保持为设定压力，并且其中流体供应单元包括：流体供应源；供给管线，该供应管线设置在流体供给源与腔室之间，并且其中，在供给管线或排出管线处安装有流量测量构件，该流量测量构件配置为测量在内部空间中流动的处理流体的每单位时间流量。
- 用于处理装置
- [发明专利]基板处理设备和基板传送机器人-CN202210541134.9在审
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尹堵铉;李龙熙;郑镇优;朴美昭
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细美事有限公司
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2022-05-17
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2022-11-22
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H01L21/67
- 本发明提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：液体处理腔室，所述液体处理腔室被配置为利用液体处理基板；干燥腔室，所述干燥腔室被配置为干燥经液体处理的基板；传送机器人，所述传送机器人被配置为在所述液体处理腔室与所述干燥腔室之间传送所述基板，并且包括能够沿X轴、Y轴和Z轴移动并且基于所述Z轴可旋转地驱动的手部，并且所述基板放置在所述手部上；光学系统，所述光学系统被配置为拍摄所述基板的液膜的形态，其中当所述基板从所述液体处理腔室传送到所述干燥腔室时，所述基板用化学液体润湿并且在形成液膜的状态下由所述传送机器人传送；以及控制器，所述控制器被配置为测量由所述光学系统拍摄的所述液膜的所述形态。
- 处理设备传送机器人
- [发明专利]用于处理基板的装置-CN202210531060.0在审
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朴美昭;李暎熏;崔永燮;郑镇优
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细美事有限公司
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2022-05-16
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2022-11-18
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H01L21/67
- 本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：腔室，在该腔室中具有内部空间；流体供应单元，其具有被配置为将处理流体供应到内部空间的供应管线和被配置为将处理流体供应到供应管线的流体供应源；第一排放单元，其被配置为对内部空间进行排放；第二排放单元，其被配置为对供应管线进行排放；以及控制器，其被配置为控制流体供应单元、第一排放单元和第二排放单元，并且其中控制器控制流体供应单元和第二排放单元，使得在待机步骤的至少一部分期间，供应管线的压力被维持在处理流体的临界压力或更高压力，该待机步骤用于在将基板引入内部空间之前将基板保持在内部空间之外。
- 用于处理装置
- [发明专利]基板处理设备及基板处理方法-CN202210306670.0在审
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郑镇优;尹堵铉;李暎熏
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细美事有限公司
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2022-03-25
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2022-09-30
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H01L21/67
- 本发明构思提供了一种基板处理设备及基板处理方法。该基板处理方法包含：用于通过在第一工艺腔室中将处理液体供应至基板来清洁该基板的液体处理步骤；用于在该液体处理步骤之后将基板传送至第二工艺腔室的传送步骤；以及，用于在该第二工艺腔室中将残留在该基板上的该处理液体移除的干燥步骤，并且该方法进一步包含：在液体处理步骤的经液体处理的基板不能传送至该第二工艺腔室时、使经液体处理的基板在第一工艺腔室中待用的待用步骤，以及在待用步骤处排放处理液体直至基板能够传送至第二工艺腔室为止。
- 处理设备方法
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