专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基片抓持机构、基片输送装置和基片处理系统-CN201910003753.0有效
  • 堂込公宏;近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-01-03 - 2023-05-05 - H01L21/67
  • 本发明的晶片抓持机构(1)是能够在固定夹持部(20b)与可动夹持部(21b)之间抓持基片的装置,其中固定夹持部(20b)与晶片的缘部卡合,可动夹持部(21b)能够在致动器(22)的动作下相对于固定夹持部(20b)进退移动,该晶片抓持机构(1)包括:与可动夹持部(21b)联动地动作的踢挡件(23);和各自具有不同的检测区域并且能够检测在该检测区域是否存在踢挡件(23)的第一传感器(24a)和第二传感器(24b),踢挡件(23)具有在可动夹持部(21b)的进退方向相连的第一部分~第四部分,第一部分~第四部分各自具有由第一传感器(24a)和第二传感器(24b)检测的检测结果彼此不同的形状。
  • 基片抓持机构输送装置处理系统
  • [发明专利]基片处理设备-CN201780044348.2有效
  • 若林真士;近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-06-21 - 2023-03-28 - H01L21/677
  • 本发明提供一种在具有从晶片的运送容器取出晶片的EFEM(Equipment Front End Module)和用于处理晶片的处理模块的基片处理设备中,能够抑制设备成本高涨并且能够提高吞吐量的技术。将配置3层具有2个处理模块(5A、5B)和负载锁定模块(4)处理单元(U)而成的组,沿从EFEM(101)看时向里侧延伸的Y引导件(21)在前后且隔着该Y引导件(21)在左右设置4组。EFEM(101)一侧的交接机构(12)与处理单元(U)一侧的基片运送机构(43)的基片的交接由基片载置部(3)进行,该基片载置部(3)能够使多个晶片(W)沿Y引导件(21)可移动且可升降地以货架布置方式载置。
  • 处理设备
  • [发明专利]处理系统-CN201810269345.5有效
  • 河边笃;近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2018-03-29 - 2022-04-05 - H01L21/67
  • 本发明提供一种小型的处理系统,其包括对晶片等的多个被处理体一并进行规定的处理的多反应器式的真空处理室,能够以高生产率对被处理体进行处理。本发明的处理系统(1)中,多反应器式的真空处理室(101~104)沿着规定的方向设置,输送设备3)分别沿着上述规定的方向设置,具有分别沿着上述规定的方向输送晶片(W)的第一共用输送装置和第二共用输送装置(30、31),第一共用输送装置(30)从与上述规定的方向正交的方向的一方与真空处理室(101~104)分别连接,第二共用输送装置(31)从与上述规定的方向正交的方向的另一方与真空处理室(101~104)分别连接。
  • 处理系统
  • [发明专利]光接收器阵列和光学雷达装置-CN201880034741.8有效
  • 马场俊彦;近藤圭祐;阿部纮士 - 国立大学法人横浜国立大学
  • 2018-05-22 - 2020-11-03 - G02B6/122
  • 本发明光接收器阵列由以阵列形式排列的多个含光子晶体慢光波导(12)的接收器构成,本发明光学雷达装置由直线排列的光接收器阵列(10)和发射器(21)构成。所述光接收器阵列(10)的多个接收器(11a~11d)的排列关系为(a)由排成阵列的多个含光子晶体慢光波导(12)的接收器所形成的阵列状元件,而且该阵列排列形式由如下两者定义:(b)定义了构成所述光接收器阵列的多个接收器间位置关系的排列形式;以及(c)定义了每一接收器方向的朝向。当相邻接收器波导末端所接收的接收光之间的相位差对应于一个波长时,排列间距p,接收光波长λ以及入射角Δθr之间满足关系p=λ/sinΔθr。入射角Δθr等于辐射光外扩角度Δθt的这一构造为合适构造。
  • 接收器阵列光学雷达装置
  • [发明专利]基板搬送方法和处理系统-CN201580050468.4有效
  • 近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2015-09-07 - 2020-02-07 - H01L21/677
  • 提供一种基板搬送方法,使用具有第一拾取器和第二拾取器的搬送机构在热处理室与不同于该热处理室的其他室之间依次搬送基板,所述基板搬送方法包括:第一步骤,将未处理的基板保持在所述第一拾取器上,搬送至所述热处理室;第二步骤,将在所述热处理室中热处理过的处理后基板保持在所述第二拾取器上并将所述第一拾取器所保持的未处理的基板搬入所述热处理室;第三步骤,将保持在所述第二拾取器上的处理后基板搬送至所述其他室;和第四步骤,将所述其他室内的未处理的基板保持在所述第一拾取器中,在将所述第二拾取器所保持的处理后基板搬入到所述其他室之后,使所述第一拾取器和所述第二拾取器均成为未保持基板的状态。
  • 基板搬送方法处理系统
  • [发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读存储介质-CN200880000122.3有效
  • 近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2008-03-28 - 2009-09-23 - H01L21/683
  • 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读存储介质。其中,基板处理装置通过输送室内的基板输送部将基板自载置在搬入搬出口上的搬运容器内取出后交接给处理组件,并在该处理组件内进行基板的处理。该基板处理装置包括以与该输送室相连通的方式通过输送口与输送室的外侧相连接的基板保管室、设在基板保管室中,以第1保管目的保管多个基板的第1保管架、设在基板保管室中,以与第1保管目的不同的第2保管目的保管多个基板的第2保管架、以及为了使第1保管架以及第2保管架中一方的基板保管区域处于可通过输送口在该基板保管区域与基板输送部之间交接基板的位置,移动该第1保管架以及第2保管架的移动机构。
  • 处理装置方法以及计算机可读存储介质
  • [发明专利]基板保持装置及保持方法、半导体制造装置及存储介质-CN200810214301.9无效
  • 近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2008-08-22 - 2009-04-01 - H01L21/683
  • 本发明提供基板保持装置及保持方法、半导体制造装置及存储介质。其中,基板保持装置包括:具有与基板背面相对的基板保持面的基板保持部;支承各基板的背面并利用与基板的摩擦力来防止该基板相对于上述基板保持面横向打滑的凸部;在上述基板保持面上开口并向基板背面排出气体的气体排出口;对在一端与上述气体排出口相连接的气体流路中流通的气体进行温度调整的温度调整部;排出到基板背面的上述气体在基板保持面与基板之间的间隙中流动,利用该间隙中的压力降低的伯努利效应来向基板保持部吸引该基板,从而保持基板。该基板保持装置可以应用于基板搬运部件、基板对位部件。
  • 保持装置方法半导体制造存储介质
  • [发明专利]真空处理装置、真空处理方法以及存储介质-CN200810006446.X有效
  • 近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2008-02-04 - 2008-08-13 - H01L21/00
  • 本发明提供一种真空处理装置、真空处理方法以及存储介质。减轻输送臂的负荷、提高生产率,并以高对位精度向真空处理室输送晶圆。通过旋转台(5)在与第1输送臂(A1)及第2输送臂(A2)之间交接晶圆,对于真空处理前的晶圆(W),一边使上述旋转台(5)旋转,一边使用线传感器(6)获取晶圆(W)周缘的位置数据。基于该位置数据,求得晶圆中心和晶圆朝向的位置;基于该晶圆的朝向,控制上述旋转台的旋转以对准晶圆朝向;基于上述晶圆的中心位置控制上述第2输送臂(A2),使得在该晶圆中心和真空处理室的晶圆载置部中心对准的状态下将上述晶圆交接到上述载置部。
  • 真空处理装置方法以及存储介质
  • [发明专利]被处理对象的搬送装置-CN200680000424.1有效
  • 町山弥;石泽繁;小泉浩;广木勤;近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2006-06-20 - 2007-07-25 - H01L21/677
  • 处理系统(100)包括:搬送室(150)、与搬送室相连的多个室(140、160)、附设在搬送室内的搬送装置(180)、控制搬送装置的控制部(200)。搬送装置包括能够滑动动作的基台(182)、能够旋转动作的搬送臂(185A、185B)。控制部具备存储部(290)和动作控制器(280)。存储部存储表示滑动动作以及旋转动作的复合动作的多个动作类型的类型模式信息(292)、以及与动作类型分别对应的时间动作轨道的轨道模式信息(294)。动作控制器从类型模式信息以及轨道模式信息中检索必要的信息,并根据这些信息来控制搬送装置的动作。
  • 处理对象装置
  • [发明专利]基板处理装置及其搬送定位方法-CN200510137640.8有效
  • 近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2005-12-26 - 2006-07-19 - H01L21/677
  • 本发明提供一种基板处理装置,包括:搬送机构,配置在搬送基台上、在规定的搬送部位之间搬送被处理基板;映像传感器,配置在所述搬送基台上、检测以棚架状收容多个被处理基板的被处理基板收容箱体内的被处理基板的配置状态;和设置在所述搬送部位或其附近的Z轴示教工作用夹具,其中,通过所述映像传感器来检测所述Z轴示教工作用夹具的高度,进行所述搬送机构相对于所述搬送部位的Z轴的示教工作。
  • 处理装置及其定位方法
  • [发明专利]真空处理装置用开闭机构及真空处理装置-CN200510132325.6无效
  • 近藤圭祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2005-12-21 - 2006-06-28 - H01L21/00
  • 本发明提供一种真空处理装置用开闭机构,包括:连杆机构,由用于闭塞第一及第二开口部的第一及第二阀体向着相反方向而配置在前端部的阀体支撑部件、和通过旋转轴可自由旋转地安装在该阀体支撑部件的后端部的基端侧部件构成;引导机构,限制所述阀体支撑部件的上下移动范围、并在所述第一及第二阀体水平移动的方向上可旋转地支撑所述阀体支撑部件;在上下方向上且在最上部在水平方向上使所述旋转轴移动的第一及第二引导部件;和使所述第一引导部件及所述第二引导部件以及所述基端侧部件上下移动的第一及第二上下移动机构。
  • 真空处理装置开闭机构

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