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[发明专利]气体供给方法和基片处理装置-CN202011178178.7在审
发明人： 赤池宗明;川手学;相泽高志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种气体供给方法和基片处理装置。气体供给方法具有：在要处理基片时，关闭第二阀，并打开第一阀，对位于气体流量控制装置的二次侧的气体供给配管、分支配管和气体分流比控制单元供给气体的步骤；用压力传感器来检测气体流量控制装置的二次侧的气体供给配管或者分支配管的压力是否达到设定压力的步骤；关闭第一阀的步骤；和打开第一阀和第二阀，将气体供给到处理容器的步骤。根据本发明，能够有利于与分流比相应地将气体分流至多个分支配管，并且在将分流后的气体供给到处理容器时短时间地稳定供给气体。
气体供给方法处理装置

[发明专利]真空处理装置和真空处理方法以及存储介质-CN201710499341.1有效
发明人：松井久;三浦知久;笠原稔大;大泽秀和;赤池宗明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-27 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种在处理容器内对被处理体进行真空处理的真空处理装置和真空处理方法。对处理容器(10)连接第一排气路径(41)和第二排气路径(42)，并且在第一排气路径(41)设置作为自动调整阀的第一阀(51)，在第二排气路径(42)设置能够从3个阶段的开度中选择开度的作为半固定阀的第二阀(52)。第一阀(51)的开度基于处理容器(10)内的压力检测值和压力设定值进行自动调整。第二阀(52)的开度被控制成在超过作为该阀的压力调整界限而预先确定的阈值时基于第一阀(51)的开度检测值来进行自动变更。由此，在第一阀的压力控制无效之前，能够自动变更第二阀的开度，从而能够在宽的范围稳定地进行压力控制。
真空处理装置方法以及存储介质