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[实用新型]过滤装置及净气器-CN201920892014.7有效
发明人： 贾中宇;曾圣翔;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-13 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： B01D29/35 文献下载
摘要：该实用新型涉及一种过滤装置及净气器，其中所述过滤装置包括：滤网，围成过滤腔室，待过滤液体进入所述过滤腔室实现过滤；至少一个搅拌器，用于在过滤时设置至所述过滤腔室内，以搅动所述过滤腔室中的待过滤液体。本实用新型中的过滤装置及净气器设置一个过滤腔室而非一个过滤面，使得待过滤的液体能够从多个方向上被过滤，而非仅仅只能从一个特定的过滤面过滤。这加快了过滤的速度。并且由于具有搅拌器，在过滤的过程中可以通过所述搅拌器不断的搅拌待过滤液体，使待过滤液体中的颗粒物杂质不会一直积淀在一个位置，堵塞滤网。这可以大大的减少清理滤网的次数，提高生产效率。
过滤装置净气器

[实用新型]载体环以及晶圆沉积设备-CN201920989248.3有效
发明人： 贾中宇;曾圣翔;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-27 - 公布日： 2020-05-29 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：该实用新型涉及一种载体环以及晶圆沉积设备，其中所述载体环，用于承载晶圆，包括：环形沟槽，设置在所述载体环的上表面，将所述载体环的圆心环绕在内，且所述上表面用于与晶圆接触，承载晶圆。以上载体环以及晶圆沉积设备在所述载体环的上表面设置有环形沟槽，这样，在对载体环的上表面放置的晶圆进行膜层沉积等操作时，若晶圆与载体环上表面之间有间隙，也不会在间隙内沉积膜层，而会直接沉积到环形沟槽中，这样，避免了沉积在载体环上表面的膜层顶起晶圆，造成晶圆放置不稳的现象的发生，也减少了因此造成的晶圆的缺陷，提高了晶圆生产的良率。
载体以及沉积设备

[实用新型]一种推送机构及化学气相沉积机台-CN201920231516.5有效
发明人： 贾中宇;杨杰;王昕昀;胡广严;吴龙江;吴孝哲;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-21 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种推送机构和化学气相沉积机台，所述推送机构推动加热体运动，该加热体具有初始位置和目标位置，该推送机构包括：磁场发生器，用以产生磁场；驱动装置，与加热体连接，用以驱动加热体运动；导体，用以与加热体同步运动；以及，处理装置，与导体连接并形成回路；其中，导体被配置为，加热体从初始位置运动至目标位置的过程中，切割磁场的磁感线产生感应电流；处理装置被配置为，用以接收感应电流，并根据感应电流得到加热体的运动距离，根据加热体的运动距离确定加热体当前的位置。所述化学气相沉积机台包括所述推送机构。本实用新型的优点在于，导体与加热体同步运动，并切割磁感线产生感应电流，而精确地得到加热体的当前位置。
加热体感应电流推送机构导体化学气相沉积机台本实用新型处理装置目标位置同步运动磁感线磁场切割初始位置运动运动距离确定磁场发生器导体连接驱动装置运动距离配置驱动

[实用新型]晶圆处理装置-CN201920232301.5有效
发明人：王昕昀;曹紫然;贾中宇;吴龙江;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-20 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型提供的晶圆处理装置，包括反应腔室，还包括：基座，位于所述反应腔室内，用于承载晶圆；至少一组凹槽，位于所述基座表面，每组凹槽包括关于所述基座的中心对称分布的两个凹槽；多条第一管道，与多个所述凹槽一一连通，且延伸至所述反应腔室外部；第二管道，与所述反应腔室连通，用于向所述反应腔室通入气体；多个压力计，位于所述反应腔室外部，且与多条所述第一管道一一连通，所述压力计用于检测与其连通的所述凹槽内的气体压力。本实用新型能够及时了解晶圆在反应腔室内的位置是否发生了偏移，提高了晶圆的生产效率，减少了晶圆返工及报废的概率。
反应腔晶圆连通反应腔室晶圆处理装置本实用新型第一管道室外部压力计室内中心对称分布第二管道基座表面气体压力生产效率偏移返工报废承载概率检测延伸