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[实用新型]一种航空有机玻璃的真空镀膜装置及镀膜制备-CN201220250745.X有效
发明人：宫杰;刘家兴;许镜明;蔡中林;邬纪泽 -专利权人：宫杰;刘家兴;邬纪泽
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种航空有机玻璃真空镀膜装置及镀膜制备。用本电子束蒸发和离子辅助的真空镀膜装置连续制备三层″辅-主-辅″沉积薄膜结构，其中两层辅助薄膜分别位于主膜层的底层和顶层。辅助薄膜制备时关闭电子束系统，将外置有机树脂类液体在真空室外加热汽化，喷入真空室，在离子轰击下电离为分子态沉积在基片表面或主膜层上。主膜制备是用针阀关闭有机树脂汽化喷嘴，用金属氧化物膜材在电子束蒸发和辅助离子轰击下沉积在底层膜上形成光学增透膜。本实用新型装置镀膜制备的三层膜系结构具有高附着力、透过率高、雾度低、耐摩擦和耐腐蚀等性能。在航空、汽车、车灯外罩等行业可广泛应用。
一种航空有机玻璃真空镀膜装置镀膜制备

[发明专利]一种航空有机玻璃的真空镀膜制备方法及其制备-CN201210173936.5无效
发明人：宫杰;刘家兴;许镜明;蔡中林;邬纪泽 -专利权人：宫杰;刘家兴;邬纪泽
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种航空有机坡璃(聚甲基丙烯酸甲脂)真空镀膜的制备方法。它采用一套电子束蒸发和离子辅助的真空镀膜装置连续制备三层(辅-主-辅)沉积薄膜系结构，其中两个辅助膜层分别位于主膜层的底层和上层。两个辅助膜层是用聚四氟乙烯树酯液体经加热后蒸发汽化，喷入真空室内在离子轰击下被电离而分别沉积在基片表面和主膜层之上。主膜层用膜材(二氧化鋯或二氧化铪中一种)在电子束蒸发和辅助离子轰击下沉积在底层膜上形成光学增透膜。本发明连续真空制备的三层膜结构具有高附着力、高光透过率、雾度低、耐摩擦和耐弱酸碱腐蚀等性能。本发明还适用于聚碳酸酯(PC)类树脂真空镀膜。在航空、汽车、车灯外罩等行业可广泛应用。
一种航空有机玻璃真空镀膜制备方法及其

[实用新型]全自动光学测厚仪-CN201120503590.1有效
发明人： 许镜明;张鹏;张蜀晓;严家荣;陈启禄;唐成 -专利权人：成都中科唯实仪器有限责任公司
申请日： 2011-12-06 - 公布日： 2012-08-29 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全自动光学测厚仪，包括模拟信号采集装置、模拟信号预处理电路、A/D转换电路、中央处理器和显示器，所述模拟信号采集装置的信号输出端与所述模拟信号预处理电路的信号输入端连接，所述模拟信号预处理电路的信号输出端与所述A/D转换电路的信号输入端连接，所述A/D转换电路的信号输出端与所述中央处理器的折射/透射率数据信号输入端连接，所述中央处理器的视频信号输出端与所述显示器的信号输入端连接。本实用新型结合了模/数转换、数字信号在中央控制器中的运算、比较、判断等软处理以及LCD显示，测量准确、数据精确，结果稳定、可靠，效率远远高于传统人工判断极值的方式。
全自动光学测厚仪

[发明专利]真空纳米镀膜炉-CN03119719.1无效
发明人：强中黎;陈维熹;许镜明;薛伟贤;张苗南 -专利权人：北京凯贝克咨询有限公司
申请日： 2003-03-10 - 公布日： 2004-09-22 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明真空纳米镀膜炉属于材料领域表面改性的真空离子物理镀膜(PVD)技术和设备。本发明设备，可在工件表面实多种膜系的多层纳米膜复合镀层，可应用在改善材料表面的性能。本发明将装有不同的靶材的等离子枪、阴极弧靶和磁控溅射靶等多种离子发生源穿插或交叉安置于同一真空室内，应用不同离子源的不同特性，产生不同材料、不同晶格、不同功效的纳米单膜；在专用的工艺程序控制下，特殊设计的磁控溅射靶及阴极弧靶电源和电气控制系统，保证控制每层膜的晶粒尺寸与厚度，实现纳米膜的多层交叉叠加，并确保纳米膜与基体、及各纳米膜之间的良好结合，从而在材料表面形成各种性能良好的多层纳米膜复合镀层。多层纳米膜复合镀层克服了单层镀膜存在的晶粒长大、内应力大、易产生微裂纹，及与基体结合差等缺点，又产生材料的纳米尺寸效应，使镀层材料性能处于最佳状态。可以广泛应用于工、模具和特殊要求的零部件表面改性。
真空纳米镀膜

[实用新型]直流磁控溅射电源-CN96206867.5无效
发明人： 许镜明;余明心;甘国工 -专利权人：甘国工
申请日： 1996-03-08 - 公布日： 1996-11-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种直流磁控溅射电源。有三相交流电源输入电路，交流输入端与三相交流电源输入电路连接的三相可控桥式整流电路，输入端与三相可控桥式整流电路连接的调节控制电路，与调节控制电路连接的可控硅触发控制电路。飞弧时可迅速断弧，随后即能自动恢复到正常运行状态，对溅射靶和电路有可靠的保护作用。在溅镀各种膜系时，能根据不同工艺要求，选择最佳的溅射运行状态，工作稳定，溅射率高，质量优良，重复性好。
直流磁控溅射电源