专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高矫顽力烧结钕铁硼厚磁体的制备方法-CN202310487740.1在审
  • 夏原;李光;许亿;曾明亮 - 中国科学院力学研究所
  • 2023-05-04 - 2023-08-04 - H01F41/02
  • 本发明提供了一种高矫顽力烧结钕铁硼厚磁体的制备方法,包括:步骤1.利用磁控溅射技术在烧结钕铁硼基体的外表面镀附重稀土‑焊料金属合金膜层,在基体的待焊面的合金膜层外继续镀附富含相同焊料金属的钎料膜层;步骤2.多片完成步骤1溅射镀层的钕铁硼基体,依次摆放具有钎料膜层的待焊面位于相邻基体之间,进行第一级真空热处理,使得合金膜层中的重稀土元素向钕铁硼基体的内部扩散;步骤3.继续进行第二级真空热处理,相邻钕铁硼基体之间所含相同焊料金属相互扩散,并扩散进入磁材表层,使得相邻基体焊接为一体,得到提高了矫顽力的烧结钕铁硼厚磁体。本发明中利用磁控溅射技术,解决了目前制备的钕铁硼厚磁体矫顽力不能满足工业需求的问题。
  • 一种矫顽力烧结钕铁硼厚磁体制备方法
  • [发明专利]一种烧结钕铁硼磁体晶界扩散多元素重稀土的方法-CN202110613330.8有效
  • 夏原;许亿;李光 - 中国科学院力学研究所
  • 2021-06-02 - 2023-06-16 - H01F41/02
  • 本发明属于烧结钕铁硼磁体表面工程技术领域,针对现有技术中多元素重稀土合金靶材在制造和应用方面存在的问题,本发明的目的在于提供一种烧结钕铁硼磁体晶界扩散多元素重稀土的方法,首先采用磁控溅射技术在烧结NdFeB磁体表面制备多层涂层,其中第一层为Dy或Tb等重稀土涂层,第二层为Al等低熔点涂层。后续涂层,根据晶界扩散工艺要求重复第一层和第二层涂层。涂层制备完成后,磁体放入真空扩散炉,对磁体进行梯度温度加热。通过第一阶段真空热处理在NdFeB磁体表面形成多元素重稀土合金涂层,通过第二阶段真空热处理实现低熔点元素和重稀土元素在烧结NdFeB磁体晶界内的协同扩散。最后进行回火处理,实现烧结NdFeB磁体矫顽力的提升。
  • 一种烧结钕铁硼磁体扩散多元稀土方法
  • [发明专利]一种诱导重稀土元素沿晶界定向扩散的方法-CN202310077346.0在审
  • 夏原;许亿;李光;李成灿 - 中国科学院力学研究所
  • 2023-01-17 - 2023-06-06 - H01F41/02
  • 本发明实施例公开了一种诱导重稀土元素沿晶界定向扩散的方法,包括:磁体的预处理;诱导性涂层的沉积:在烧结钕铁硼磁体表面沉积由多主元合金金属材料构成的诱导性涂层;高致密性缓冲涂层的沉积:沉积由多主元合金金属材料和重稀土材料构成的高致密性缓冲涂层;重稀土涂层的沉积:沉积由重稀土材料构成的重稀土涂层;多阶热扩散处理。其中,多主元合金金属包含的金属元素类型不低于三种;多次热扩散处理过程的温度顺次增加。本发明通过多涂层及对应的热处理方式的结合,较大程度地抑制重稀土晶内扩散现象,诱导重稀土元素沿晶界定向扩散,不仅能够进一步提高重稀土利用率和矫顽力增量,还可降低剩磁与磁能积的下降幅度。
  • 一种诱导稀土元素界定扩散方法
  • [发明专利]一种提高烧结钕铁硼磁体重稀土晶界扩散效率的方法-CN202211142038.3在审
  • 夏原;许亿;李光;李成灿 - 中国科学院力学研究所
  • 2022-09-20 - 2022-12-06 - H01F41/02
  • 本发明实施例公开了一种提高烧结钕铁硼磁体重稀土晶界扩散效率的方法,包括:磁体的预处理;等离子体清洗;重稀土离子的注入:在向烧结钕铁硼磁体施加负偏压的前提下,同时采用高功率脉冲磁控溅射和离子源,溅射重稀土靶材,完成重稀土离子注入;重稀土涂层的沉积:通入惰性气体调节真空度至0.4‑1Pa,而后在向烧结钕铁硼磁体施加负偏压的前提下,采用高功率脉冲磁控溅射,溅射重稀土靶材,完成烧结钕铁硼磁体表面的重稀土涂层的沉积;真空热处理:将沉积有重稀土涂层的烧结钕铁硼磁体进行热处理。实现了提高磁体浅表层结构缺陷密度,增加重稀土扩散通道,进而最终提高重稀土扩散效率的效果。
  • 一种提高烧结钕铁硼磁体稀土扩散效率方法
  • [发明专利]一种铝合金压铸基体的阻隔涂层-CN202110831553.1有效
  • 夏原;李国栋;许亿 - 中国科学院力学研究所
  • 2021-07-22 - 2022-11-01 - C23C14/16
  • 本发明涉及基体防护涂层技术领域,提供了一种铝合金压铸模具的阻隔涂层,包括设置在基体表面的过渡层,远离基体侧的过渡层上设置有强化层,远离过渡层侧的强化层上设置有阻隔层,远离强化层侧的阻隔层上设置有抗粘层;在服役温度(650℃)环境下,能够避免发生模具的阻隔涂层剥落或层间微裂,同时避免引起裂纹的加速扩展汇集而形成主裂纹,从而避免引发基体失效;与此同时,在多层涂层中,层间界面中不会引发微裂纹,避免降低涂层韧性,尤其是在高温环境下,提升了涂层服役性能。
  • 一种铝合金压铸基体阻隔涂层
  • [发明专利]一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法-CN202010316745.4有效
  • 夏原;许亿;李光 - 中国科学院力学研究所
  • 2020-04-21 - 2021-10-08 - C22C45/00
  • 本发明实施例公开了一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法,组合物包括Al、Cr、Ti、Gd和Zr;薄膜为通过组合物经真空熔炼和磁控溅射制得。本发明的实施方式具有如下优点:1、特定的原料种类之间的协同配合使最终得到的高熵合金薄膜具有优异的耐高温、抗腐蚀和高强度等优异性能;2、利用磁控溅射的方法,将铸态时晶态的AlCrTiGdZr合金转变成非晶态的薄膜,极大的提高了薄膜的致密性,减少了薄膜的缺陷,进一步提高薄膜的性能,使其具有更为广阔的应用前景;3、整个操作过程可以在室温下进行,且无污染排放物生成,使整个制备具有高效清洁的优点。
  • 一种合金组合薄膜制备方法
  • [发明专利]一种同时提高烧结钕铁硼矫顽力和耐蚀性的方法-CN202011491685.6有效
  • 夏原;许亿;李光 - 中国科学院力学研究所
  • 2020-12-17 - 2021-09-21 - C23C14/16
  • 本发明属于烧结钕铁硼磁材表面工程领域,本发明公开了一种同时提高烧结钕铁硼矫顽力和耐蚀性的方法,具体包括如下步骤:(1)镀膜前处理;(2)辉光等离子体清洗;(3)晶界扩散层—重稀土涂层沉积;(4)阻隔层—高熵合金氮化物涂层沉积;(5)耐蚀层—高熵合金涂层沉积;(6)真空热处理;(7)待样品冷却至室温,取出样品,完成对烧结NdFeB磁材的处理。该方法采用磁控溅射在烧结NdFeB磁材表面制备一种新型多层涂层,其中最底层:采用重稀土涂层作为晶界扩散涂层;最外层:采用高熵合金涂层作为耐蚀涂层;中间层:采用高熵合金氮化物涂层作为阻隔涂层。三种涂层所组成的多层涂层在经过真空热处理后,可解决烧结NdFeB矫顽力和耐蚀性无法同时提高的问题。
  • 一种同时提高烧结钕铁硼矫顽力耐蚀性方法
  • [发明专利]一种钕铁硼磁体表面防护的复合改性方法-CN201910314786.7有效
  • 夏原;许亿;李光 - 中国科学院力学研究所
  • 2019-04-18 - 2021-04-27 - H01F41/02
  • 本发明实施例公开了本发明提供了一种钕铁硼磁体表面防护的复合改性方法,包括如下步骤:对钕铁硼磁体进行前处理;将磁体置于真空室的工件架上,抽离真空室空气;通过外加电源给工件架提供负偏压,完成对磁体的辉光清洗;通过高功率脉冲磁控溅射电源给Al靶材提供负偏压产生高密度的Al等离子体,同时通过外加电源给工件架提供负高压,并匹配两者脉冲波形,完成对工件的Al等离子体浸没离子注入沉积过程;通过单极脉冲磁控溅射电源给Al靶材提供负偏压,同时通过外加电源给工件架提供负偏压在工件表面沉积Al膜;重复上述磁控溅射和等离子体浸没离子过程,得到位于工件基体表面的复合改性涂层,提高钕铁硼磁铁表面耐腐蚀性能。
  • 一种钕铁硼磁体表面防护复合改性方法
  • [发明专利]一种类金刚石薄膜的制备方法-CN202010317118.2有效
  • 夏原;许亿;李光 - 中国科学院力学研究所
  • 2020-04-21 - 2021-01-05 - C23C14/35
  • 本发明实施例涉及薄膜制备技术领域,本发明实施例公开了一种类金刚石薄膜的制备方法,包括:将薄膜载体置于真空环境并通入Ar;外加偏压电源进行辉光清洗;更换Ne惰性气体作为工作气体,并给碳靶提供靶材电压;外加复合直流HiPIMS电源给薄膜载体提供负偏压;调整完成HiPIMS电源与复合直流HiPIMS电源的波形匹配,并依据预定薄膜沉积时间完成薄膜沉积,获得目标产物类金刚石薄膜。本发明采用复合直流HiPIMS作为偏压,并与高功率脉冲磁控溅射电源匹配,实现对HiPIMS电源在脉冲期间和脉冲结束后等离子体能量的单独调控与优化,进而在不破坏sp3键前提下诱导内应力的释放,解决目前尚无在保证高sp3键含量的同时又可降低DLC薄膜内应力的问题。
  • 种类金刚石薄膜制备方法
  • [发明专利]一种在合金刀具上制作超硬高熵合金氮化物涂层的方法-CN202010418122.8在审
  • 夏原;许亿;李光 - 中国科学院力学研究所
  • 2020-05-18 - 2020-08-21 - C23C14/02
  • 本发明提供一种在合金刀具上制作超硬高熵合金氮化物涂层的方法,包括如下步骤:对待涂层的合金刀具分别进行除油、除锈以及清洗处理,随后烘干;将清洗后的合金刀具放置于真空室内,对真空室进行抽真空操作,然后对合金刀具进行辉光清洗;辉光清洗结束后,调整氩气流量,开启HiPIMS电源并调整预定参数;通过外加电源给合金刀具提供预定参数;然后溅射AlCrTiVZr靶材,沉积时间1min‑10min后,在合金刀具表面形成AlCrTiVZr过镀层;保持既有的溅射条件不变,逐渐通入反应气体氮气,沉积后在合金刀具的表面形成高熵合金氮化物涂层。本发明所制备的(AlCrTiVZr)N涂层为单一的FCC晶体结构且趋向于纳米化,其硬度可达超硬水平41.8GPa,表面粗糙度降低至2nm以下,远超出本领域技术人员的预想范围。
  • 一种合金刀具制作超硬高熵合金氮化物涂层方法
  • [发明专利]一种离子注入或注入且沉积系统-CN201710121676.X有效
  • 李刘合;谷佳宾;许亿 - 北京航空航天大学
  • 2017-03-02 - 2019-02-15 - C23C14/48
  • 本发明公开一种离子注入或注入且沉积系统,包括:注入或注入且沉积工作室,其内部在处理工件时处于真空状态;阴极靶台,将待处理的工件支撑于所述注入或注入且沉积工作室内;粒子馈送源,用于给所述注入或注入且沉积工作室供应粒子;粒子馈送管道,与粒子馈送源连接,用于将粒子送向所述注入或注入且沉积工作室;等离子体增强放电装置,其为内壁与电子碰撞能发出二次电子的绝缘管,一端连接所述粒子馈送管道,另一端连接所述注入或注入且沉积工作室,使粒子能通过该绝缘管从所述粒子馈送管道进入所述注入或注入且沉积工作室。本发明可以有效提高粒子离化率,提高注入或注入且沉积的质量和效率。
  • 一种离子注入沉积系统
  • [发明专利]一种空心阴极放电变径金属管内壁涂层的装置和方法-CN201610188602.3有效
  • 李刘合;景凯;许亿 - 北京航空航天大学
  • 2016-03-29 - 2018-08-31 - C23C16/515
  • 本发明公开了一种空心阴极放电变径金属管内壁涂层的装置和方法,该装置包括变径棒,其中,阴极靶台位于工作台支架的顶端;待处理管夹具固定待处理的变径金属管,并与待处理管支架连接,使得变径金属管通过待处理管支架而支撑于工作台支架上;变径棒与变径金属管的内壁轮廓相同,但直径相应比变径金属管的直径小;变径棒夹具固定变径棒,并与变径棒支架连接,使得变径棒通过变径棒支架而支撑于工作台支架上,并且变径棒插入变径金属管内,保持同心,使整个变径金属管的内壁与变径棒的外表面距离处处相等;并且变径棒和变径金属管均分别与阴极靶台电连接。本发明适用于具有某些形状的变径金属管内表面改性,设备相对简单,操作方便,沉积效果良好。
  • 一种空心阴极放电金属管内壁涂层装置方法
  • [发明专利]一种电子增强等离子体放电管内壁涂层的方法-CN201410197223.1有效
  • 李刘合;许亿;罗辑 - 北京航空航天大学
  • 2014-05-12 - 2014-07-30 - C23C14/38
  • 一种电子增强等离子体放电管内壁涂层的方法,它有六大步骤:一、待处理管内壁涂层前清洁处理:二、组装一种电子增强等离子体放电管内壁涂层装置;三、完成对真空室的抽真空,通过惰性气体馈送管道通入惰性气体,再通过待处理管进入绝缘罩,通过质量流量控制器控制通入真空室中的惰性气体的流量;四、通过外加电源给阴极靶台提供负脉冲电压,并设定预定的电压值及占空比,完成对管内壁的清洗;五、通过粒子馈送管道通入气态或者汽态的沉积用的粒子,通过外加电源给阴极靶台提供负脉冲电压,并设定预定的电压值及占空比,完成对管内壁的涂层;六、完成对真空室的放气,取出待处理管,完成管内壁涂层。本发明在表面材料改性领域里有实用价值。
  • 一种电子增强等离子体放电内壁涂层方法

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