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[实用新型]沥青抛光盘形状误差的小工具修正装置-CN201721061079.4有效
发明人：廖德锋;赵世杰;谢瑞清;陈贤华;王健;许乔 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-08-23 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： B24B53/12 文献下载
摘要：本实用新型提供一种可在较低加载压力条件下修正沥青抛光盘形状误差的小工具修正装置。沥青抛光盘形状误差的小工具修正装置，在固定背板和工作板之间设置有陶瓷加热板，在所述固定背板的上表面设置有球槽。本实用新型通过增加小工具的加热功能，从而提高小工具对沥青抛光盘形状误差的体积修正速度，体积修正速度可达0.1‑100mm³/min，并可在较低加载压力条件下进行，加载压力为2‑100KPa，从而改善小工具修正加工时的旋转平稳性。
小工具形状误差抛光盘沥青加载压力修正装置本实用新型固定背板体积修正修正陶瓷加热板旋转平稳性加热功能工作板上表面球槽加工

[发明专利]潜水搅拌器实验装置-CN201610192357.3有效
发明人：汤方平;徐顺;石丽建;许乔;白炳国 -专利权人：扬州大学
申请日： 2016-05-03 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： G01M99/00 文献下载
摘要：本发明公开一种潜水搅拌器实验装置，包括潜水搅拌器(1)，还包括支撑柱(2)，潜水搅拌器(1)的尾部固定在支撑柱(2)的中部，还包括用于测量推力的第一拉力传感器(4)和用于测量扭矩的第二拉力传感器(5)，所述第一拉力传感器(4)的一端通过钢丝绳与支撑柱(2)上端固定连接，其另一端通过钢丝绳与第一固定点(6)连接，所述第二拉力传感器(5)的一端通过钢丝绳与支撑柱(2)上端固定连接，其另一端通过钢丝绳与第二固定点(7)连接。本发明的实验装置，可同时测定潜水搅拌器的推力、扭矩，测量精度高。
潜水搅拌器实验装置

[发明专利]光学元件加工装置及其系统-CN201711418757.2在审
发明人：侯晶;陈贤华;谢瑞清;钟波;邓文辉;王健;许乔;徐曦;赵世杰 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： G02B1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学元件加工装置及其系统，属于光学设备技术领域。一种光学元件加工装置，包括架体、用于对光学元件进行加工的刻蚀组件及用于控制架体和刻蚀组件的控制装置，刻蚀组件设置于架体，控制装置与架体、刻蚀组件电连接；刻蚀组件包括挥发液储液槽、刻蚀液回收槽、加工头、挥发液供液器以及至少两个刻蚀液供液器。该装置适用于不同材质的光学元件，扩大应用范围，提高利用率，降低加工成本。
光学元件加工装置及其系统

[实用新型]研抛工具和抛光机-CN201720710876.4有效
发明人：文中江;钟波;陈贤华;王健;许乔 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型提供的研抛工具和抛光机，涉及计算机控制光学表面成形技术领域。该研抛工具用于安装在抛光机上，抛光机包括抛光机本体。研抛工具包括抛光组件和抛光模层。抛光组件包括导流件，抛光模层与导流件的一侧连接，导流件的另一侧用于与抛光机本体连接，导流件具有流体通道，抛光模层具有出液通道，流体通道的一端与出液通道连通，流体通道的另一端穿出导流件。该研抛工具能有效地控制抛光液分布的均匀性，并能使抛光液渗入抛光工具底部，提高抛光效率，同时能大量带走研抛工具底部中心区域温度，使元件面抛光稳定，元件面形精度高。由于采用该研抛工具，本实用新型提供的抛光机也能提高抛光效率，使元件面抛光稳定，元件面形精度高。
工具抛光机

[实用新型]数控抛光盘-CN201720324537.2有效
发明人：钟波;陈贤华;文中江;王健;许乔;廖德锋;金会良 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-03-29 - 公布日： 2017-12-15 - 主分类号： B24D13/18 文献下载
摘要：本实用新型提供一种数控抛光盘，涉及光学技术领域。数控抛光盘包括自上而下依次设置的金属盘架、金属盘面、柔性层和抛光模层，金属盘面、柔性层和抛光模层的中心位于同一直线。金属盘面和抛光模层紧贴柔性层设置，金属盘架可拆卸连接于金属盘面，数控抛光盘通过金属盘架连接于抛光机构。金属盘面开设有盘面开设有导流槽，导流槽的底部开设有贯穿柔性层和抛光模层的导流孔，使流动于金属盘面的抛光液通过导流槽和导流孔到达抛光模层的底部。如此，可以保证数控抛光盘盘底的抛光液有效地更新，可提高材料去除稳定性和数控抛光的确定性。
数控抛光

[发明专利]环抛机胶盘面形状的检测方法-CN201510579788.0有效
发明人：廖德锋;陈贤华;谢瑞清;赵世杰;王健;许乔 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2015-09-14 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： G01B21/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种环抛机胶盘面形状的检测方法，该方法包括以下步骤1)检测直线导轨的直线度和绝对倾斜度误差；2)检测胶盘旋转轴在导轨平面内的绝对倾斜度；3)计算导轨的综合误差；4)检测胶盘面的端跳并标定胶盘面角度；5)检测胶盘面沿半径方向的轮廓形状。本发明可检测任意结构形式环抛机床的胶盘面形状，简单方便且精度较高。
环抛机胶盘面形状检测方法

[实用新型]一种流体动压抛光装置-CN201720324539.1有效
发明人：钟波;陈贤华;文中江;王健;许乔;谢瑞清;赵世杰;李洁 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-03-30 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供了一种流体动压抛光装置。所述装置包括气囊抛光工具、精密测力台、精密位移台以及抛光液供给系统。所述气囊抛光工具使用前需经过精密修整；精密测力台与精密位移台配合实现气囊抛光工具与工件间的间隙精密控制；抛光时，抛光液注入抛光垫与工件的间隙后，气囊抛光工具高速旋转带动抛光液在气囊与工件间产生流体动压，进而实现间隙中的抛光颗粒以一定速度和压力对工件表面进行去除。本实用新型实施例提出的流体动压抛光装置可实现通过控制工艺参数(如间隙、转速、抛光颗粒大小)改变材料去除量，以满足工件不同工艺目的下的效率需求。所述装置在超精密光学元件上实现纳米级精度的无损伤加工方面具有重要的应用前景。
一种流体抛光装置

[实用新型]非球面元件表面波纹平滑抛光工具-CN201720320203.8有效
发明人：钟波;陈贤华;文中江;王健;许乔;邓文辉;袁志刚;周炼 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-03-29 - 公布日： 2017-11-10 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本实用新型提供一种非球面元件表面波纹平滑抛光工具，包括转接部件、工具底座、粘弹性柔性介质、柔性介质厚度调节螺钉、橡胶囊和设置于所述橡胶囊表面的抛光模层。非球面元件表面波纹平滑抛光工具通过转接部件连接于抛光机床，工具底座为圆环状。柔性介质厚度调节螺钉可活动地内嵌于所述工具底座，橡胶囊盖合于所述工具底座，使工具底座、柔性介质调节螺钉与橡胶囊之间形成密封腔，密封腔内填充满粘弹性柔性介质。通过改变非球面元件表面波纹平滑抛光工具中的粘弹性柔性介质的种类和厚度，既能够使抛光工具与待加工非球面元件的表面相吻合，又能够对非球面表面波纹进行去除。
球面元件表面波纹平滑抛光工具

[发明专利]一种用于控制非球面元件全频段误差的加工方法-CN201710604702.4在审
发明人：钟波;陈贤华;王健;许乔;周炼;谢瑞清;邓文辉;侯晶;赵世杰;袁志刚;徐曦;金会良 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于控制非球面元件全频段误差的加工方法涉及非球面元件加工技术领域。一种用于控制非球面元件全频段误差的加工方法，其包括磨削成型、保形抛光、修正抛光、匀滑抛光四个步骤。磨削成型采用超精密磨削方法进行非球面元件的直接成型，同时将亚表面缺陷控制在较低水平；保形抛光采用高稳定性、高去除效率的子口径抛光技术，实现非球面元件的快速保形抛亮，以去除亚表面缺陷；修正抛光采用高稳定性的子口径抛光技术快速修正非球面元件低频误差；匀滑抛光采用匀滑抛光技术，在低频误差不被恶化的情况下，控制非球面元件中高频误差。本发明加工方法的特点在于通过多种技术耦合实现非球面元件全频段误差控制。
一种用于控制球面元件频段误差加工方法

[发明专利]一种产衣康酸的重组酵母菌株及其构建方法与应用-CN201710080169.6在审
发明人：诸葛斌;赵美琳;陆信曜;宗红;宋健;许乔 -专利权人：江南大学
申请日： 2017-02-15 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： C12N1/19 文献下载
摘要：本发明公开了一种产衣康酸的重组酵母菌株及其构建方法与应用。所述重组酵母菌以C.glycerolgenesis为出发菌株，在C.glycerolgenesis基因组中插入顺乌头酸脱羧酶基因得到的重组酵母菌株。通过基因工程改造构建含顺乌头酸脱羧酶基因表达盒Pgap‑CadA‑Tgap‑zeocin的重组质粒，将其线性化后插入C.glycerolgenesis基因组中表达顺乌头酸脱羧酶催化顺乌头酸获得衣康酸。本发明提供的重组酵母菌株能够合成衣康酸，为衣康酸生产提供了新思路。
一种产衣康酸重组酵母菌株及其构建方法应用

[发明专利]一种Au/DABT纳米探针及其制备方法和应用-CN201710122766.0在审
发明人：田阳;许乔 -专利权人：华东师范大学
申请日： 2017-03-03 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：本发明公开了一种Au/DABT纳米探针及其制备方法，以纳米颗粒为基底，通过Au‑S化学键将特异性响应分子DABT与纳米颗粒链接，制备得到Au/DABT纳米探针。本发明的方法操作简单方便、成本低，制备得到的Au/DABT纳米探针对一氧化氮进行检测，具有高稳定性、高选择性、高准确性和高灵敏度的优点。
一种 au dabt 纳米探针及其制备方法应用

[实用新型]环形抛光中沥青胶盘的自动刮盘装置-CN201621157401.9有效
发明人：廖德锋;赵世杰;谢瑞清;陈贤华;王健;许乔 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2016-10-25 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本实用新型提供一种环形抛光中沥青胶盘的自动刮盘装置。环形抛光中沥青胶盘的自动刮盘装置，包括由相互垂直的上板和下板组成的L形主体，在所述L形主体的下板上设置有方形孔，在方形孔内设置有方形平板，在所述方形平板上设置有刮刀孔，在刮刀孔内设置有刮刀。本实用新型的装置可以对环抛沥青胶盘进行自动刮盘，从而避免环抛人员繁重的手工刮盘，并且刮槽间距和深度均匀一致，有利于环抛加工元件去除效率的提升和面形误差的稳定收敛。
环形抛光沥青自动装置

[发明专利]平面抛光盘表面形状误差的检测装置-CN201410215066.2有效
发明人：廖德锋;赵世杰;谢瑞清;陈贤华;王健;许乔;钟波;袁志刚;邓文辉;唐才学;徐曦;周炼 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2014-05-21 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供一种检测精度较高的抛光盘表面形状误差的检测装置。平面抛光盘表面形状误差的检测装置，设置有支撑座，在所述支撑座上端设置有横梁，在所述横梁上设置有导轨和电机，所述电机包括定子和动子，移动块通过滑块设置在所述动子和导轨上，并能沿着所述导轨左右移动，在所述移动块上设置有可调支架，所述可调支架与激光位移传感器连接，所述激光位移传感器由探测头、数据连接线和PC机组成，在所述探测头下设置有可调平台。本发明由于采用高稳定性导轨和高精度位移传感器，并且通过检测平面标准镜获得导轨的误差，因此可实现抛光盘表面形状的高精度测量。
平面抛光表面形状误差检测装置

[发明专利]全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置-CN201410456502.5有效
发明人：廖德锋;张清华;赵世杰;谢瑞清;陈贤华;张浩宇;钟波;王健;许乔 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2014-09-09 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： B24B53/02 文献下载
摘要：本发明提供一种全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置。全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法，该方法包括以下步骤1)检测抛光盘的表面形状误差并确定修正装置的定点去除函数；2)设定覆盖整个抛光盘表面的修整路径；3)计算驻留时间；4)将步骤2)和3)得到的修整路径及路径上各点的驻留时间输入数控加工系统中，对抛光盘表面进行修整加工。本发明通过控制修正装置在抛光盘表面各处的驻留时间来修正抛光盘的表面形状误差，与传统上采用大尺寸校正板的盘面形状修正方法相比，该方法具有修正控制确定性好、修正精度高的优点。
口径抛光表面形状修正方法装置

[发明专利]校正盘自动除颤装置-CN201410692027.1在审
发明人：陈健;陈福恭;许乔;王健 -专利权人：上海中晶企业发展有限公司
申请日： 2014-11-27 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本发明涉及对光学玻璃元件表面冷加工的大型环抛机。一种校正盘自动除颤装置，主要包括抛光盘，设于所述抛光盘上的校正盘，架设于抛光盘上方的横梁，设于所述横梁上的水平移动校正盘和设于水平移盘机构上的垂直提升机构，还有，一个能检测到所述校正盘振动的震颤检测组件，一个能检测到所述垂直提升机构对校正盘的提升力的提升力检测组件和一个智能控制单元；所述智能控制单元、震颤检测组件、提升力检测组件与垂直提升机构组成闭环的除颤智能控制系统。该控制系统能在校正盘即将发生的震颤前，提升起校正盘，将震颤消灭在萌芽之中，并可确保将校正盘无震颤地下放至抛光盘上。
校正自动装置