专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种多波长入射单发椭偏测量方法-CN201510830357.7有效
  • 马靖;许灿华;裴丽燕;邱鑫茂;吕佩伟 - 福州大学
  • 2015-11-25 - 2018-09-18 - G01N21/21
  • 本发明涉及一种多波长入射单发椭偏测量方法,首先提供宽光谱激光光源、宽带偏振片、样品、扩束镜、宽带1/4波片、晶体斜劈、宽带检偏器、狭缝、透射光栅、成像屏、面阵相机以及计算机,通过双折射晶体斜劈的偏光干涉将光偏振态的变化转换成一维条纹光斑的移动,采取合理光路设计将多波长入射光对应的条纹分布在另外一个维度上,利用图像技术对光斑内的多组条纹进行定位和处理,在单次测量中即可获得各个波长对应的偏振态信息。本发明的测试方法无机械旋转或光学调制器件,而且测量结果与光强波动无关,可以极大减小系统的测量误差,提高测量的稳定性。本发明的测量速度只受限于相机采集速度,结合高速线阵相机,可以将时间分辨率缩短到毫秒以下。
  • 一种波长入射单发测量方法
  • [发明专利]一种多角度入射单发椭偏测量方法-CN201510235765.8在审
  • 马靖;许灿华;裴丽燕;邱鑫茂;施洋 - 福州大学
  • 2015-05-11 - 2015-12-23 - G01N21/21
  • 本发明涉及一种多角度入射单发椭偏测量方法,首先提供激光束聚焦柱透镜、样品、准直柱透镜、1/4波片、晶体斜劈、检偏器、成像屏、面阵相机以及计算机,再通过双折射晶体斜劈的偏光干涉将光偏振态的变化转换成一维条纹光斑的移动,其次采取合理光路设计将多角度入射对应的条纹分布在另外一个维度上,最后利用图像技术对光斑内的多组条纹进行定位和处理,在单次测量中即可获得多组偏振态信息。本发明的测试方法无机械旋转或光学调制器件,测量速度只受限于相机采集速度,而且测量结果与光强波动无关,可以极大减小系统的测量误差,提高测量的稳定性。
  • 一种角度入射单发测量方法

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