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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]测试键检测电路-CN201811524365.9有效
发明人：吴昆源;王伟任;陈建孚;许振贤;陈元辉;陈瑞瑶;顾政宗;黄智宏;蔡承洋;陈毓霖 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：本发明公开一种测试键检测电路，包括多个振荡器与驱动电路。每一个所述振荡器具有致能端、电压端以及输出端，其中所述多个致能端，是连接到一个共同致能端。驱动电路接收所述多个振荡器的所述多个输出端以及增加所述多个输出端中所选择的其中一个的驱动水平，成为频率输出。
测试检测电路

[发明专利]加速充电帮浦及锁相回路以及其操作方法-CN202010940159.7在审
发明人：吴昆源;王伟任;陈建孚;蔡承洋;陈瑞瑶;陈毓霖 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2020-09-09 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H03L7/08 文献下载
摘要：本发明公开一种加速充电帮浦，包括第一充电帮浦，接收数据形式的上信号与下信号，以在输出节点产生第一电压控制信号。进一步，至少一加速相位侦测器包括第一电路路径，以接收所述上信号，对所述上信号延迟一预定延迟量成为延迟上信号，且对所述上信号及所述延迟上信号做与逻辑运算得到辅助上信号。第二电路路径用以接收所述下信号，对所述下信号延迟所述预定延迟量成为延迟下信号，且对所述下信号及所述延迟下信号做与逻辑运算得到辅助下信号。至少一第二充电帮浦，分别接收所述辅助上信号与所述辅助下信号，以在所述输出节点也产生第二电压控制信号。
加速充电回路及其操作方法

[发明专利]具有虚置标准单元的集成电路-CN201710839608.7有效
发明人：许振贤;陈建孚;蔡承洋;王伟任;林肇尉;黄智宏;顾政宗;杨进盛 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2017-09-18 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明公开一种具有虚置标准单元的集成电路，包含：第一金属线以及第二金属线沿着一第一方向延伸；第一虚置栅极以及第二虚置栅极沿着一第二方向延伸；鳍状结构平行于该第一方向；栅极结构位于鳍状结构上且平行于第二方向；多组的短接触插栓与长接触插栓设置于两栅极结构，或是栅极结构与虚置栅极之间；掺质区与长接触插栓重叠；栅极接触插栓设置在栅极结构上；通孔插栓设置在长接触插栓上并与之电连接；金属层设置在通孔插栓上并与之电连接，包含第一金属线以及第二金属线。
具有标准单元集成电路

[发明专利]水性涂料与其形成的方法-CN202011541720.0在审
发明人：廖凯伟;汤伟钲;游雅婷;黄云珊;魏宇昆;蔡承洋;苏一哲 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： C09D183/06 文献下载
摘要：本公开提供之水性涂料的形成方法，包括：(a)将四烷氧硅烷、金属盐的酸性水溶液与三烷氧基烷基硅烷反应形成寡聚物，其中金属盐包括钒盐、钛盐、或锆盐；(b)取该寡聚物与二氧化硅胶体粒子反应形成改性寡聚物；以及(c)取该改性寡聚物与三烷氧基环氧基硅烷反应形成水性涂料。
水性涂料与其形成方法

[发明专利]具有标准单元的集成电路-CN201710830604.2有效
发明人：许振贤;陈建孚;蔡承洋;王伟任;林肇尉;黃智宏;顾政宗;杨进盛 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明公开一种具有标准单元的集成电路。此集成电路包含：第一金属线以及一第二金属线沿着一第一方向延伸；第一虚置栅极以及第二虚置栅极，沿着一第二方向延伸；鳍状结构平行于该第一方向；栅极结构位于鳍状结构上且平行于第二方向；两个长接触插栓位于栅极结构的一侧，两个短接触插栓位于栅极结构的另一侧；栅极插栓设置在栅极结构上；通孔插栓设置在长接触插栓、短接触插栓及栅极接触插栓上并与之电连接；金属层包含第一金属线、第二金属线、一第三金属线以及一第四金属线。
具有标准单元集成电路

[发明专利]适性化职缺媒合系统及方法-CN201911118713.7在审
发明人：游函谚;周以骐;赵君晏;蔡承洋 -专利权人：财团法人资讯工业策进会
申请日： 2019-11-15 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： G06Q10/06 文献下载
摘要：一种适性化职缺媒合系统及方法。该系统执行以下运作：基于电子履历，决定目标语料库；分析电子履历，以产生多个关键字集合；分析该多个关键字集合，产生电子履历评分；根据该多个关键字集合及对应至目标职务类别的多个预设问题集合，产生多个面试问题；传送动画至使用者装置，动画与该多个面试问题相关；接收回应动画，回应动画与各该面试问题的回答内容相关；分析回应动画，针对各该面试问题产生一面试问题评分及对应各该面试问题的信心度；根据电子履历评分等面试问题评分及该多个信心度，计算指标评分以产生职缺媒合清单。
适性化职缺媒合系统方法

[发明专利]厚铜层与其形成方法-CN201510291125.9有效
发明人：陈振榕;蔡承洋;李鸿坤 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2015-06-01 - 公布日： 2018-04-10 - 主分类号： C25D3/38 文献下载
摘要：本发明提供厚铜层，其厚度介于100至300微米之间，表面粗糙度介于4至7μm之间，(220)平面的织构系数为91％至99％，且150℃至200℃的高温伸长率介于5％至16％之间。本发明另提供一种厚铜层的形成方法，包括将待镀物浸入电镀液；以及提供电镀电流，以电镀厚铜层至待镀物上，其中电镀液包括60至120g/L的铜离子；20ppm至40ppm的氯离子；70至110g/L的二质子酸；1ppm至10ppm的水溶性高分子；以及0.5ppm至5ppm的动物胶。
厚铜层与其形成方法

[发明专利]用于钝化处理的组合物、钝化膜以及防蚀结构-CN201510157289.2在审
发明人： 蔡承洋;周淑芳;程子萍 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2015-04-03 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C22/42 文献下载
摘要：一种用于钝化处理的组合物，包含磷酸溶液、镁化合物以及六价钨酸盐。通过添加镁化合物以及六价钨酸盐，所形成的磷酸盐钝化膜具有低孔隙率、难溶性、良好遮蔽保护以及自愈合能力。
用于钝化处理组合以及结构

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