“董诗浩”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果14个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]厚度测量装置及厚度测量方法-CN202310218114.2在审
发明人：陈雅馨;董诗浩;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2023-03-08 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供一种厚度测量装置及厚度测量方法，厚度测量装置包括：光源，形成入射至样品的第一表面的入射光束，所述入射光束在所述第一表面反射形成反射光束，所述入射光束透射所述样品并在所述样品的第二表面散射形成散射光束，其中所述第一表面和所述第二表面相背；合束模块，将所述反射光束以及所述散射光束合束为相干光束；反射光路，将所述反射光束导入所述合束模块；散射光路，将所述散射光束导入所述合束模块；探测模块，用以获取所述相干光束，以得到所述样品的厚度。本申请实现了对一个表面为光面、另一个相对表面为粗糙面的样品厚度的高精度测量。
厚度测量装置测量方法

[发明专利]一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统-CN202310233665.6在审
发明人：陈雅馨;李仲禹;董诗浩 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2023-03-11 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：本发明提供一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统，光谱测量系统包括光源模块、色散元件、探测器、位移台控制器和位移台；光源模块提供入射光，入射光照射样品上的第一区域产生第一干涉光，第一干涉光经色散元件入射至探测器生成第一相干光谱；位移台控制器控制位移台移动样品以使入射光照射样品上的第二区域产生第二干涉光，第二区域和第一区域部分相交，第二干涉光经色散元件入射至探测器生成第二相干光谱；基于第二相干光谱补偿第一相干光谱。光谱式厚度测量系统包括光谱测量系统，并基于光谱数据库和补偿后的第一相干光谱得到第一区域的厚度。本发明通过位移台移动样品的位置以补偿因探测器的空间分辨率限制而遗漏的样品上的光谱信息。
一种光谱测量系统厚度

[发明专利]一种光声测量系统和测量膜厚的方法-CN202210937980.2在审
发明人： 董诗浩;杜航;陈煜杰;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种光声测量系统，包括光发射部件、探测部件和刀锋部件，所述光发射部件用于产生激发光和探测光；所述激发光沿激发光光路投射至被测物的测量区域；所述探测光沿探测光的光路投射至所述测量区域；所述探测光在所述测量区域的反射光经过刀锋部件后，被所述探测部件接收；所述刀锋部件的刀锋边缘位于所述反射光光束的中心区域；所述刀锋部件，用于增强探测信号的强度，所述探测信号为光强变化信号。本测量系统可以同时获得反射光的光强变化包括所述被测物反射率变化引起的光强变化和所述反射光偏转角度变化引起的光强变化。
一种测量系统方法

[发明专利]一种光声测量设备及膜厚测量方法-CN202211157123.7在审
发明人： 董诗浩;杜航;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种光声测量设备，包括：光发射器、控制器、图像采集部件和探测部件；所述光发射器用于产生激发光和探测光；所述探测部件包括一维位置传感器或二维位置传感器，用于接收所述被测物反射的探测光束，以至少得到所述反射的探测光束偏移量；所述图像采集部件，用于获取所述激发光和所述探测光在所述被测物表面光斑的图像；所述控制器，用于接收所述图像，以确定激发光光斑和探测光光斑在所述被测物表面上位置的相对方位，并根据所述相对方位，控制所述探测部件选择所述一维位置传感器或所述二维位置传感器；获取所述被测物的待测参数。通过位置探测器得到更高信噪比的光声信号，从而获得更高膜厚重复测量精度。
一种测量设备测量方法

[发明专利]光声测量系统-CN202210976185.4在审
发明人：陈煜杰;董诗浩;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种光声测量系统。该光声测量系统通过激发光照射在待测物表面形成声波，声波使待测物表面产生形变，同时通过探测光照射在待测物表面得到探测光的反射光线即信号光，由于声波在待测物内运动并反弹至待测物的表面后形成变形区域会对信号光产生影响，使得探测器采集的信号产生变化，进而能够依据采集的信号进行膜厚的计算。通过采集延迟器的位移台的位置对信号光的时间进行反馈，通过控制模块对探测器采集的光功率数据以及位移台的位置数据进行处理，之后根据位移台的位置确定声波的运动时长，并对待测物的膜厚进行计算，能够得到准确率较高的结果，有效避开了现有技术中各方面误差对计算准确度的影响。
测量系统

[发明专利]一种光声测量的建模方法、光声测量方法及系统-CN202211042805.3在审
发明人：张晓雷;张厚道;梁洪涛;董诗浩;李仲禹;施耀明 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种光声测量的建模方法、光声测量方法及系统，其建模方法包括获取待测样品的特性参数，所述特性参数包括膜层数M、各膜层的复折射率和名义厚度，M为正整数；根据所述特性参数，计算得到所述待测样品的第一反射率；获取所述待测样品在吸收激发光后于厚度方向上各膜层的位移；根据所述位移，得到所述待测样品的第二反射率；基于所述第一反射率和所述第二反射率，得到所述待测样品的反射率变化的仿真信号。本发明提出了基于应变后的样品分层模型和RCWA算法，来计算膜厚；适用于任意入射角的探测光的同时，提高了计算效率和准确率。
一种测量建模方法测量方法系统

[发明专利]一种光声测量系统及光声测量方法-CN202210834226.6在审
发明人：杜航;李仲禹;董诗浩;张谋 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供一种光声测量系统及光声测量方法，光声测量系统包括光源、分束器、功率监测单元、第一探测器和控制器；第一探测器接收探测光在样品表面的反射光，在光声测量系统的光路中增加功率监测单元，以接收激光束的分光光束，或者，接收激发光的分光光束和/或探测光的分光光束；控制器，基于第一探测器的输出信号和功率监测单元的输出信号，获取样品的待测参数。本发明通过在光路中增加功率监测单元，基于第一探测器的输出信号和功率监测单元的输出信号，测量样品的待测参数，消除了光声测量系统的测量腔中气流影响和激光器波动等不利因素引起的系统误差，探测光的信号质量得到保证，从而提高了光声测量系统信噪比和激发信号的稳定性。
一种测量系统测量方法

[发明专利]光斑调节方法及膜厚量测方法-CN202210957287.1在审
发明人：陈煜杰;董诗浩;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-08-10 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种光斑调节方法及膜厚量测方法。该光斑调节方法通过成像系统获取激发光光斑和探测光光斑的图像，基于图像计算激发光光斑质心和探测光光斑质心之间的相对位置，根据成像系统获取的相对位置对探测光路及\或激发光路的偏摆镜的姿态进行第一调节，并通过理论极大值LIAmax对探测光路及\或激发光路的偏摆镜的姿态进行第一调节，使得激发光光斑质心和探测光光斑质心重合，可以获得最大强度的信号。将此应用于光声测量系统中，通过精确调整探测光光斑和激发光光斑的相对位置，使得探测光的反射率提升，能够准确的获取声波连续两次回传至样品表面时的时间间隔，提高探测精度和探测稳定性，提升膜厚计算的准确度。
光斑调节方法膜厚量测

[发明专利]光斑调节方法及膜厚量测方法-CN202210957333.8在审
发明人：陈煜杰;杜航;董诗浩;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-08-10 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种光斑调节方法及膜厚量测方法。该光斑调节方法通过成像系统获取激发光光斑和探测光光斑的图像，基于图像计算激发光光斑质心和探测光光斑质心之间的相对位置，并根据理论数据获取鼓包变形梯度最大值的理论位置，对探测光路及\或激发光路的偏摆镜的姿态进行调整，使得探测光光斑位于理论位置，此时通过位置灵敏性探测器对信号光进行采集，可以获得最大强度的信号。将此应用于光声测量系统中，能精确调整探测光光斑和激发光光斑的相对位置，使得探测光光斑处于优化位置，即鼓包梯度最大位置，进而可以探测最大的光斑偏转量，能够准确的获取声波连续两次回传至样品表面时的时间间隔，提升膜厚计算的准确度。
光斑调节方法膜厚量测

[发明专利]测量装置及其调节方法、光斑尺寸的获取方法-CN202210339351.X在审
发明人： 董诗浩;唐岳;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-04-01 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本发明提供了一种应用于半导体领域的测量装置及其调节方法、光斑尺寸的获取方法，所述测量装置包括：光源、第一调节单元、第二调节单元、合束器、聚光单元、探测器；所述光源用于产生激发光光束和探测光光束；所述第一调节单元获取所述激发光光束，并对所述激发光光束进行大小可调节的扩束；所述第二调节单元获取所述探测光光束，并对所述探测光光束进行大小可调节的进行扩束；所述探测器接收所述探测光光斑的反射信号以获取探测信号，所述探测信号用以反馈所述待测样品的特征参数。本发明通过控制激发光光束和探测光光束的直径大小，进而提高激发光和探测光在待测样品表面上形成的光声信号的信噪比。
测量装置及其调节方法光斑尺寸获取

[发明专利]光学特性的建模方法、光声测量方法及装置-CN202210199242.2在审
发明人：唐岳;董诗浩;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种应用于半导体领域的光学特性的建模方法、光声测量方法及装置，所述光声测量方法包括：根据本申请中所述的光学特性的建模方法创建光谱库；获取所述待测样品的测量光谱信号以获取所述待测样品的反射率变化信号，即实测信号；将所述实测信号与所述光谱库中的仿真信号进行拟合，得到拟合差值最小的所述仿真信号所对应的参数，以获取所述待测样品的膜厚值。本发明通过将所述实测信号与所述仿真信号进行拟合，得到拟合差值最小的所述仿真信号所对应的参数，以获取所述测量光谱信号所对应的膜的膜厚值，可以提高待测晶圆表面设置的膜的膜厚计算的精确度。
光学特性建模方法测量方法装置

[发明专利]激光合束装置及合束方法、光声测量装置及测量方法-CN202210182953.9在审
发明人：唐岳;陈煜杰;董诗浩 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-02-25 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种应用于半导体领域的激光合束装置及合束方法、光声测量装置及测量方法，所述激光合束装置包括：激光器、第一分束模块、反射模块、合束模块、聚光模块、成像模块、控制模块；合束模块将激发光光束和探测光光束合束；所述控制模块基于激发光光斑的质心位置与探测光光斑的质心位置控制第一调节器调节第一反射镜的位置和/或控制第二调节器调节第二反射镜的位置，使得激发光光斑的质心位置和探测光光斑的质心位置之间的距离小于或等于预设阈值。通过本发明提供的激光合束装置及合束方法、光声测量装置及测量方法，可以提高激发光光斑和探测光光斑的重合度，以达到计算膜厚的光学测量要求。
激光束装方法测量装置测量方法

[发明专利]光测量装置、方法及光声膜厚测量系统-CN202111557191.8在审
发明人：唐岳;董诗浩;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2021-12-18 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提出了一种光测量装置、方法及光声膜厚测量装置，装置包括：至少一个泵浦光源，以一定角度发射激励源光束；光束偏振态调控模块，用于将所述激励源光束调控为非线性偏振状态光束，以使待测对象接收所述非线性偏振状态光束的表面产生至少一形变区域；所述形变区域对应所述非线性偏振状态获得形变幅度增强，所述形变幅度增强为所述形变区域的表面平均梯度增大。采用不同偏振态泵浦激光可以在探测表面产生形变量大的鼓包以提高探测灵敏度以及提高信噪比，其中形变量更大，探测光所携带的反射信息中关于角度和光程对应的时间信息都能够获得放大，从而提高探测灵敏度和信噪比。
测量装置方法光声膜厚系统

[发明专利]光测量装置、方法及光声膜厚测量系统-CN202111557186.7在审
发明人：唐岳;董诗浩;李仲禹 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2021-12-18 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提出了一种光测量装置、方法及光声膜厚测量装置，装置包括：至少一个泵浦激光源，以一定角度发射高斯光束；能量调节系统，调整高斯光束的光强并将高斯光束转换为线偏振的高斯光束；光束转化模块，将线偏振的高斯光束转化为环形光束；聚焦器件，将环形光束聚焦，以使待测对象的接收表面产生至少一形变区域；形变区域获得形变幅度增强。采用不同环形光束形状的泵浦激光可以在探测表面产生形变量增强的鼓包以提高探测灵敏度以及提高信噪比，并且环形光束在聚焦之后的聚焦效果更高，结合偏振状态生成环形光束的方法，使得表面形变量更大，探测光所携带的反射信息中关于角度和光程对应的时间信息都能够获得放大，从而提高探测灵敏度和信噪比。
测量装置方法光声膜厚系统

1
共 14 条