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[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法-CN201910982223.5有效
发明人：今敷修久;吉川裕;菅原浩幸 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2015-07-16 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法。有利地适于显示装置制造用掩模的曝光环境、并且能够稳定地转印微小的图案。光掩模具有通过对成膜于透明基板上的半透光膜以及低透光膜分别进行图案化而形成的转印用图案，上述转印用图案具有：由露出上述透明基板的透光部构成的直径W1(μm)的主图案；配置于上述主图案的附近、由在上述透明基板上形成有上述半透光膜的半透光部构成的宽度d(μm)的辅助图案；以及配置于上述转印用图案的形成有上述主图案以及上述辅助图案以外的区域、在上述透明基板上至少形成有上述低透光膜的低透光部，上述主图案的直径W1、上述半透光部的透光率T1以及上述半透光部的宽度d具有规定的关系。
光掩模制造方法以及显示装置

[发明专利]树脂基板层叠体及电子设备的制造方法-CN201880013729.9有效
发明人： 菅原浩幸 -专利权人：吉奥马科技有限公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供能使用低能量的激光、以短时间的光照射处理将树脂基板从剥离层容易地剥离的树脂基板层叠体及使用了树脂基板层叠体的电子设备的制造方法。通过如下树脂基板层叠体来解决，所述树脂基板层叠体的特征在于，其具备：具有支承基板(1)和层叠于支承基板(1)上的剥离层(2)带剥离层的支承基板(4)、和可剥离地层叠于剥离层(2)的与支承基板(1)相反侧的表面上的树脂基板(3)，剥离层(2)的表面的组成为SixCyOz(0.05≤x≤0.49，0.15≤y≤0.73，0.22≤z≤0.36，x+y+z＝1)。
树脂层叠电子设备制造方法

[发明专利]蛾眼转印模、蛾眼转印模的制造方法及蛾眼结构的转印方法-CN201980002307.6在审
发明人：谷口淳;菅原浩幸 -专利权人：学校法人东京理科大学;吉奥马科技有限公司
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： B29C33/38 文献下载
摘要：本发明提供制造工序简易且廉价的蛾眼转印模和蛾眼转印模的制造方法。一种蛾眼转印模(1)，其特征在于，其具备基材(10)、形成在该基材(10)上的基底层(20)和形成在该基底层(20)上的玻璃碳层(30)，该玻璃碳层(30)在其表面(30a)具有反转的蛾眼结构(RM)，上述反转的蛾眼结构(RM)为无规排列的锥状的孔。
蛾眼转印模制造方法结构

[发明专利]光掩模和显示装置的制造方法-CN201911133180.X在审
发明人：今敷修久;吉川裕;菅原浩幸 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2015-09-25 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
光掩模显示装置制造方法

[发明专利]光掩模和显示装置的制造方法-CN201510624801.X有效
发明人：今敷修久;吉川裕;菅原浩幸 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2015-09-25 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
光掩模显示装置制造方法

[发明专利]光学装置用壳体和光学装置-CN201880021737.8在审
发明人：林秀和;菅原浩幸 -专利权人：夏普株式会社;吉奥马科技株式会社
申请日： 2018-03-12 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：实施方式的光学装置用壳体(100A)具有：透光性的窗构件(20A)；以及箱体(10)，其具有收纳光接收元件和/或发光元件(OE)的空间，窗构件(20A)具备：透光性构件(22)；高分子膜(50)，其设置在透光性构件(22)的外侧表面，并且在表面具有蛾眼结构，表面相对于水的接触角为140°以上；以及电阻发热体(24)，其设置在透光性构件(22)的内侧表面。
透光性构件窗构件电阻发热体光接收元件收纳表面相对蛾眼结构发光元件高分子膜光学装置内侧表面外侧表面接触角透光性壳体

[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法-CN201510418721.9有效
发明人：今敷修久;吉川裕;菅原浩幸 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2015-07-16 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： G03F1/80 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法。有利地适于显示装置制造用掩膜的曝光环境、并且能够稳定地转印微小的图案。光掩模具有通过对成膜于透明基板上的半透光膜以及低透光膜分别进行图案化而形成的转印用图案，上述转印用图案具有：由露出上述透明基板的透光部构成的直径W1(μm)的主图案；配置于上述主图案的附近、由在上述透明基板上形成有上述半透光膜的半透光部构成的宽度d(μm)的辅助图案；以及配置于上述转印用图案的形成有上述主图案以及上述辅助图案以外的区域、在上述透明基板上至少形成有上述低透光膜的低透光部，上述主图案的直径W1、上述半透光部的透光率T1以及上述半透光部的宽度d具有规定的关系。
光掩模制造方法坯料以及显示装置

[发明专利]模具基材、模具基材的制造方法、模具的制造方法以及模具-CN201380029250.1有效
发明人：石动彰信;箕浦洁;菅原浩幸 -专利权人：夏普株式会社;吉奥马科技株式会社
申请日： 2013-06-03 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： C25D11/04 文献下载
摘要：实施方式的模具基材(10)用于制造表面具有多孔氧化铝层(20)的模具(100)，模具基材(10)具有基材(72m)和形成于基材(72m)上的铝合金层(18)，铝合金层(18)含铝、铝以外的金属元素以及氮。本发明的实施方式的模具基材(10)具有的铝合金层(18)具有高镜面性。
模具基材制造方法以及

[发明专利]模具的制造方法-CN201280016614.8有效
发明人：石动彰信;箕浦洁;菅原浩幸 -专利权人：夏普株式会社;吉奥马科技株式会社
申请日： 2012-03-29 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： C25D11/04 文献下载
摘要：本发明的实施方式的蛾眼用模具（100）的制造方法使用模具基材（10），上述模具基材（10）具有金属基材（72m）、形成于金属基材（72m）上的有机绝缘层（13）以及形成于有机绝缘层（13）上的铝合金层（18），铝合金层（18）含铝和铝以外的金属元素（M），金属元素（M）的标准电极电位和铝的标准电极电位之差的绝对值为0.64V以下，铝合金层（18）中的金属元素M的含有率不超过10质量％。
模具制造方法

[发明专利]触摸面板的布线结构及其制造方法-CN201210348100.4有效
发明人：中山尚美;岩胁信也;菅原浩幸 -专利权人： SMK株式会社;吉奥马科技株式会社
申请日： 2012-09-18 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明提供一种触摸面板的布线结构，即使对于布线图案上的绝缘覆层进行干式蚀刻来形成连通孔，在连通孔内也可让布线图案与连结用图案可靠地电连接。本发明的技术手段是，在金属布线图案的至少一部分上层叠氧化金属薄膜层以形成布线图案，让氧化金属薄膜层面向连通孔的内底面，所以金属布线图案并不会在进行干式蚀刻的工序时被氧化因而发生劣化现象。
触摸面板布线结构及其制造方法

[发明专利]静电容型输入装置及其制造方法-CN201080027537.7有效
发明人： 菅原浩幸 -专利权人：吉奥马科技有限公司
申请日： 2010-06-11 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明提供一种透明性高且消耗电力小的静电容型输入装置。静电容型输入装置在透明基板的同一面上具备输入部和输出部，输出部具有输出信号的连接端子、以及将输入部和连接端子电连接的布线图案。输入部具有多个第1电极图案，其由在第1方向相邻配设的多个第1透明导电膜、和电连接第1透明导电膜的导电部件构成；另外，具有第2导电图案，其由在和第1方向交叉的第2方向相邻配设的多个第2透明导电膜、以及在与第1电极图案的导电部件交叉的位置配设的连接部构成。通过同一导电体膜来形成导电部件、连接端子和布线图案，导电体膜由金属层的单层构成或由包含1层以上的金属层的多层构成，导电部件形成为线状。
静电输入装置及其制造方法

[发明专利]光掩模用基板以及光掩模和该光掩模的制造方法-CN200780001862.4无效
发明人： 菅原浩幸 -专利权人：吉奥马科技有限公司
申请日： 2007-11-06 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种通过湿式蚀刻可高精度地形成微细图案的光掩模用基板、光掩模以及该光掩模的制造方法。一种光掩模用基板(2)，其具备透明基板(10)、具有半透射性的半透射层(20)、形成于该半透射层(20)上且对照射光实质上遮光的遮光层(33)，其中，半透射层(20)由氮化钛(TiN_x：在此，0＜x＜1.33)形成，该氮化钛与遮光层(33)相比，相对于蚀刻液(A)为不溶性或难溶性，并且相对于蚀刻液(B)为易溶性。另一方面，遮光层(33)由金属铬(Cr)形成，该金属铬(Cr)与半透射层(20)相比，相对于蚀刻液(A)为易溶性，并且相对于蚀刻液(B)为不溶性或难溶性。由于各层相对于蚀刻液的蚀刻耐性不同，故可不对其它层造成损伤地选择性地蚀刻半透射层(20)和遮光层(33)。
光掩模用基板以及光掩模制造方法

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