专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]处理装置及处理方法-CN202080081664.9在审
  • 田岛诚司;茂木文雄;渡边年宏 - 富士胶片株式会社
  • 2020-11-18 - 2022-07-15 - G03F7/30
  • 本发明提供一种能够容易地再利用使用后的冲洗液,并且能够减少废液量的处理装置及处理方法。处理装置具有:显影部,具备使用含有清洗液的显影液去除图像状曝光后的柔版印刷版原版的未曝光部而进行显影的显影单元;冲洗部,具备向去除了柔版印刷版原版的未曝光部的显影后的柔版印刷版原版的至少表面供给实质上仅将水作为成分的冲洗液的冲洗液供给部;显影液贮存部,具有贮存用于显影部中的显影的显影液的显影液贮存槽;第1送液路,将显影后的显影液输送到显影液贮存部的显影液贮存槽;及第2送液路,将在冲洗部中供给后的冲洗液输送到显影液贮存部的显影液贮存槽且与第1送液路不同,显影部中,将贮存于显影液贮存部的显影液贮存槽的显影液反复用于显影。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]印相处理机中的处理液状态的判断方法及印相处理机-CN97115492.9有效
  • 茂木文雄 - 富士胶片公司
  • 1997-07-30 - 2003-03-05 - G03B27/80
  • 一种利用从光源(72)照射的光将图象曝光到感光材料(P1,P2)上,用处理液处理曝过光的上述感光材料(P1,P2),同时具有根据作为调整修正曝光条件用的多个修正参数值的光源光量、感光材料特性、处理液状态中的至少一个,通过调整上述修正曝光条件用的多个修正参数值,来修正曝光条件的功能的印相处理机的处理液状态的判断方法及印相处理机,其特征在于包括以下步骤(a)存储上述多个修正参数值中的至少1个修正参数值的变化历史,(b)根据上述存储的至少1个修正参数值的变化历史,判断上述处理液状态是否良好。因此,曝光条件修正用的修正参数值的变化历史反映出上述处理液状态的变化特征。
  • 相处中的处理液状判断方法

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