专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种多隔区垂直温度梯度可调的铸锭单晶硅生长设备-CN202122008473.4有效
  • 陈建明;胡君梅 - 胡君梅
  • 2021-08-24 - 2023-06-16 - C30B11/00
  • 本实用新型属于晶体生长设备领域,本实用新型提供一种多隔区垂直温度梯度可调的铸锭单晶硅生长设备,该生长设备包括在坩埚中间用外隔板围成生长区,并在生长区内部用内隔板分割成若干个生长隔区,在每个生长隔区的底部可选择固定有籽晶,籽晶上方覆盖有多晶硅原料,每个生长隔区为一个独立的晶体生长区间,所有晶体同步生长。该生长设备中的外隔板用来阻挡从坩埚内壁析出的多晶向坩埚中心延伸,内隔板的设置避免了相邻晶体之间因为相互交叉生长而产生的晶界,大幅提高了硅晶体的单晶比例,晶体的生长区和保温层之间设有多个独立功率控制的加热器件,共同调节坩埚周围的温度梯度,控制晶体生长界面和生长速度,确保晶体生长顺利进行。
  • 一种多隔区垂直温度梯度可调铸锭单晶硅生长设备
  • [发明专利]一种多隔区垂直温度梯度可调的铸锭单晶硅生长设备及方法-CN202110974261.3在审
  • 陈建明;胡君梅 - 胡君梅
  • 2021-08-24 - 2021-10-15 - C30B11/00
  • 本发明属于晶体生长设备领域,本发明提供一种多隔区垂直温度梯度可调的铸锭单晶硅生长设备及方法,该生长设备包括在坩埚中间用外隔板围成生长区,并在生长区内部用内隔板分割成若干个生长隔区,在每个生长隔区的底部可选择固定有籽晶,籽晶上方覆盖有多晶硅原料,每个生长隔区为一个独立的晶体生长区间,所有晶体同步生长。该生长设备中的外隔板用来阻挡从坩埚内壁析出的多晶向坩埚中心延伸,内隔板的设置避免了相邻晶体之间因为相互交叉生长而产生的晶界,大幅提高了硅晶体的单晶比例,晶体的生长区和保温层之间设有多个独立功率控制的加热器件,共同调节坩埚周围的温度梯度,控制晶体生长界面和生长速度,确保晶体生长顺利进行。
  • 一种多隔区垂直温度梯度可调铸锭单晶硅生长设备方法

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