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[发明专利]一种异侧电弧放电激励控制凹腔流动的方法-CN202110051611.9有效
发明人：郭善广;罗彦浩;吴云;梁华;宋慧敏 -专利权人：中国人民解放军空军工程大学
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： F23R3/16 文献下载
摘要：一种异侧电弧放电激励控制凹腔流动的装置，包括上侧平板、下侧平板、激励块和高压直流电源。上侧平板右侧有面向下的凹腔，上侧平板前缘具有第一斜角；下侧平板前缘具有第二斜角，下侧平板打有多个两级圆柱形通孔，用于固定等离子体激励器，上级通孔用于固定放电电极，下级通孔用于固定连接放电电极的导线；采用N个放电电源分别为N排展向激励器供电；同步控制器输出端分别控制N个放电电源的工作。还提供一种异侧电弧放电激励控制凹腔流动的方法。本发明的装置及其方法，通过改变电弧等离子体激励器的结构、布局、激励频率和激励能量，能够调控超声速凹腔剪切的流动状态。
一种电弧放电激励控制流动方法

[发明专利]一种电弧放电激励调控超声速凹腔剪切层的装置及方法-CN202011610183.0在审
发明人：郭善广;梁华;罗彦浩;吴云;金迪 -专利权人：中国人民解放军空军工程大学
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：公开一种电弧放电激励调控超声速凹腔剪切层的装置，包括带有凹腔的平板，激励块，放电电极和高压脉冲电源。平板后缘挖有凹腔，前缘设置斜角，在凹腔和平板前缘之间、平板的上表面安装激励块，激励块采用嵌入的方式，其上表面与平板上表面齐平。激励块上加工垂直于激励块上表面的用于固定放电电极的圆柱形两级通孔，两级通孔在激励块上阵列式排布，靠近平板表面的是上级通孔，远离平板表面的是下级通孔，同一个两级通孔内的导线和电极电连接。放电电源采用高压高频纳秒脉冲电源。一种电弧放电激励调控超声速凹腔剪切层的方法。本发明通过改变电弧等离子体激励器的结构、布局、激励频率和激励能量，能够调控超声速凹腔剪切的流动状态。
一种电弧放电激励调控超声速剪切装置方法