专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]在衬底上生长GaN平面纳米线的方法-CN201710969739.7在审
  • 伊晓燕;伍绍腾;刘志强;黄洋;程成;王蕴玉;綦成林 - 中国科学院半导体研究所
  • 2017-10-18 - 2018-04-06 - C30B25/02
  • 本发明提供一种在衬底上生长GaN平面纳米线的方法,包括如下步骤步骤1将衬底放入有机溶液中超声清洗;步骤2在清洗的衬底上蒸镀一层金属薄膜;步骤3把蒸镀有金属薄膜的衬底倒立放在反应炉的托盘上,在衬底与托盘之间形成狭缝;步骤4提升反应炉温度,通入反应气源,在衬底上生长平面的GaN纳米线;步骤5关闭气源,将温度降至室温,完成GaN平面纳米线的制备。本发明不需要在衬底上制造图形,处理工艺简单,大大的降低了生长成本;本纳米线是水平外延生长在衬底上,与现代电子技术中传统的平面法兼容(晶体管的制备过程),有利于后续器件制备;晶体质量优良,有利于提升器件性能。
  • 衬底生长gan平面纳米方法

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