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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]层叠膜结构及层叠膜结构的制造方法-CN202080033079.1有效
发明人：岛田和哉;速水雅仁;坂田俊彦;着能真 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C23C18/18 文献下载
摘要：对于像以往那样进行的在被处理物上形成氧化物层、并通过镀覆在其上形成金属膜的方法而言，金属膜的密合性低，且可以得到平坦的被处理面，但不易于在通孔的内壁面形成金属膜。用金属膜的形成方法制作的金属膜的密合性高，且也能形成于通孔的内壁上，所述金属膜的形成方法的特征在于，具有如下工序：第一成膜工序，使被处理物的被处理面与包含氟和氧化物前体的反应溶液接触，从而在前述被处理面上形成氧化物层；氟去除工序，将前述氧化物层的氟去除；催化剂负载工序，使催化剂溶液与前述氧化物层接触，从而使前述氧化物层负载催化剂；及，第二成膜工序，使化学镀液与前述氧化物层接触，从而在前述氧化物层上使金属膜析出。
层叠膜结构制造方法

[发明专利]多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法-CN201780094862.7有效
发明人：白滨祐二;着能真 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种蚀刻液，用于蚀刻膜厚较厚的铜层和基底钛层的多层膜，该蚀刻液即使在金属离子浓度达到8000ppm以上时也能够使用。该蚀刻液含有(a)过氧化氢、(b)氟离子供给源、(c)唑类、(d)过氧化氢稳定剂、(e)有机酸、(f)胺类和(g)水，所述有机酸使用甲磺酸与选自乳酸、琥珀酸、戊二酸、丙二酸中的一种有机酸，或者单独使用乳酸。
多层蚀刻浓缩以及方法

[发明专利]蚀刻液-CN202080005184.4在审
发明人： 着能真;白滨祐二;妹尾骏作 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：通过干蚀刻对源极漏极间的非晶硅进行挖掘时，存在形成构成电极端子的铜/钼膜的钼膜的下侧被挖开的遮檐形状。一种蚀刻液，其特征在于，其由过氧化氢、有机酸、胺类、唑类、过氧化氢分解抑制剂和水构成，前述有机酸为选自乙醇酸、乳酸、草酸、丙二酸、马来酸、琥珀酸、苹果酸、柠檬酸、天冬氨酸、谷氨酸中的3种以上的混合物，所述蚀刻液能够将遮檐形状蚀刻成规定的形状。
蚀刻

[发明专利]铜厚膜用蚀刻液-CN201880002496.2在审
发明人：白滨祐二;着能真 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2018-03-23 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： C23G1/10 文献下载
摘要：提供：蚀刻速率高、在高铜离子浓度下也能进行蚀刻使得铜的膜厚变厚以可以维持以往那样的制造速度的铜厚膜用蚀刻液。包含过氧化氢、强酸性物质、胺化合物、过氧化氢分解抑制剂、唑类和水、且pH低于2的铜厚膜用蚀刻液在铜离子浓度为20000ppm的高铜离子浓度下也可以以380nm/分钟以上的蚀刻速率对铜膜进行蚀刻，进一步锥角也可以调整为30°～80°。
蚀刻蚀刻液铜厚膜高铜离子过氧化氢分解强酸性物质胺化合物过氧化氢铜离子抑制剂膜厚铜膜锥角唑类制造

[发明专利]多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法-CN201680028059.9有效
发明人： 着能真;渊上真一郎 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2016-09-09 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：提供将铜和钼的多层膜蚀刻、可以降低用量的蚀刻液。使用过氧化氢的蚀刻液中，由于过氧化氢被铜离子分解，因此补充大量的蚀刻液。一种多层膜用蚀刻液，其特征在于，其包含过氧化氢、酸性有机酸、胺化合物、过氧化氢分解抑制剂、唑类、和含有铝盐的析出防止剂，作为前述过氧化氢分解抑制剂，以0.4质量％以上且5质量％以下的比率含有乙二醇单丁基醚，前述胺化合物为N,N‑二乙基‑1,3‑丙烷二胺，对于该多层膜用蚀刻液，即使铜离子增加也可以抑制过氧化氢分解速度，可以降低蚀刻液的总用量。
多层蚀刻浓缩方法

[发明专利]多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法-CN201680001594.5有效
发明人： 着能真;鬼头佑典;渊上真一郎;小佐野善秀 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2016-03-15 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：对于用一组分将铜层和钼层的多层膜蚀刻的蚀刻液而言，与蚀刻后的边缘的截面形状没有底切而形成正锥形的形状上的要求同样地，蚀刻液中不会产生析出物在批量生产时使用时是重要的。含有过氧化氢、无机酸、酸性有机酸、中性有机酸、胺化合物和过氧化氢分解抑制剂的包含铜层和钼层的多层膜用蚀刻液由于不含有唑化合物，因此在与过氧化氢之间不会生成反应物，蚀刻液中不会产生析出物。并且，蚀刻后的边缘的截面形状可以形成优选的正锥形形状。进而，由于也不含有磷化合物、氟化合物，因此废弃时环境负荷也轻。
多层蚀刻浓缩方法

[发明专利]包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法-CN201580021009.3有效
发明人： 着能真;渊上真一郎;鬼头佑典;小佐野善秀 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2015-04-24 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：在利用1种液体对钼和铜的多层膜进行蚀刻的蚀刻液中，期望在过水中混合有机酸来使用。然而，过水使有机酸氧化分解而生成草酸，因此存在蚀刻液中产生大量草酸铜的析出物的课题。包含钼和铜的多层膜用蚀刻液通过铝离子与草酸结合从而抑制草酸铜的生成，因此，蚀刻液中不会产生析出物，所述包含钼和铜的多层膜用蚀刻液的特征在于，含有过氧化氢、酸性有机酸、胺化合物、过氧化氢分解抑制剂、唑类和包含铝盐的防析出剂。而且，蚀刻后的边缘的截面形状可以形成理想的正锥形状。
包含多层蚀刻浓缩以及方法

[发明专利]多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法-CN201380081154.1有效
发明人： 着能真;小佐野善秀;渊上真一郎 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2013-11-25 - 公布日： 2017-12-19 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：对于将以1种液体对铜层和钼层的多层膜进行蚀刻的蚀刻液用于量产时而言重要的是形状方面要求蚀刻后的边缘的截面形状是正锥而不是凹槽，并且蚀刻液中不产生析出物。由于含有过氧化氢、无机酸、酸性有机酸、中性有机酸、胺化合物和过氧化氢分解抑制剂的包含铜层和钼层的多层膜用蚀刻液不含有唑化合物，因此在与过氧化氢之间不生成反应物，蚀刻液中不产生析出物。而且，蚀刻后的边缘的截面形状能够制成优选的正锥形状。进而，由于也不含有磷化合物、氟化合物，因此在废弃时环境负担也轻。
多层蚀刻浓缩方法

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