专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]紫外线照射装置-CN201210270200.X有效
  • 小林伸次;阿部法光;城田昭彦;竹内贤冶;相马孝浩 - 株式会社东芝
  • 2012-07-31 - 2013-03-27 - C02F1/32
  • 本发明提供能够防止收纳紫外线灯的保护管破损的紫外线照射装置。实施方式的紫外线照射装置具备:处理槽、紫外线照射构件、支撑构件。处理槽具有:给水口,供给作为处理对象的处理水;和排水口,将处理水排出,处理水沿从给水口朝向排水口的第一方向经过。紫外线照射构件在处理槽的内部设置于与第一方向交叉的第二方向,对朝向第一方向经过的处理水照射紫外线。支撑构件设置在沿着紫外线照射构件所设置的第二方向的方向上,两端部固定于处理槽的壁面,抑制该处理槽的变形。
  • 紫外线照射装置
  • [发明专利]紫外线照射系统-CN201210070972.9有效
  • 阿部法光;小林伸次;出健志;吉泽直人;城田昭彦;相马孝浩 - 株式会社东芝
  • 2012-03-16 - 2012-09-19 - C02F1/32
  • 一种紫外线照射系统,包括:紫外线照射装置,具有多个紫外线灯,向所流入的处理水照射紫外线,排出照射了紫外线的处理水;流量计,测量通过紫外线照射装置的处理水的流量;以及紫外线照射量监视控制装置,进行紫外线照射装置的紫外线照射量的监视和紫外线灯的输出控制。多个紫外线灯包括第1紫外线灯和多个第2紫外线灯。紫外线照射装置包括:第1测量头,测量从第1紫外线灯发出的紫外线的强度;和多个第2测量头,分别测量从多个紫外线灯发出的紫外线的强度。并且,第1紫外线灯与第1测量头之间的距离被设定为,由第1测量头测量的紫外线强度与第1紫外线灯的输出控制值为100%时由第1测量头测量的紫外线强度之比和换算等效紫外线照射量的关系成为一个一次函数直线。
  • 紫外线照射系统
  • [发明专利]紫外线照射装置-CN201210070721.0有效
  • 小林伸次;阿部法光;城田昭彦;吉泽直人;相马孝浩 - 株式会社东芝
  • 2012-03-16 - 2012-09-19 - C02F1/32
  • 紫外线照射装置具有:紫外线照射水槽,具有处理水的给水口和处理水的排水口;保护管,被配置于紫外线照射水槽内,贯通紫外线照射水槽的两端;紫外线灯,被配置于保护管内,通过大于等于10kHz且小于等于10MHz的高频放电点亮来向上述处理水照射紫外线;保护罩,被分别设于紫外线照射水槽的两端,遮挡紫外线和电磁波;电子镇流器(10),被配置于上述保护罩;以及供电线,将上述紫外线灯与上述电子镇流器(10)电连接。紫外线照射水槽以及保护罩分别由比电导率与相对磁导率之积为1以上的导电性材料构成,且紫外线照射水槽以及保护罩的厚度分别为流过紫外线灯的高频电流的频率下的表皮深度的3倍以上。
  • 紫外线照射装置
  • [发明专利]紫外线水处理装置-CN201110272017.9有效
  • 出健志;阿部法光;村山清一;小林伸次;竹内贤治;相马孝浩 - 株式会社东芝
  • 2011-09-14 - 2012-04-04 - C02F1/32
  • 本发明提供紫外线水处理装置。具备紫外线照射单元、将被处理水导入到紫外线照射单元的水入口管和使照射了紫外线的被处理水从紫外线照射单元流出的水出口管。紫外线照射单元具备具有相互对置设置的第1及第2开口的周围壁的中空护罩。在护罩内设有紫外线照射设备,分别具备紫外线灯和保护套筒且相互平行地设置1个或1个以上,对通过中空护罩而流动的被处理水照射紫外线。在中空护罩内设有保护套筒清扫设备,具备清扫各保护套筒表面的清扫工具和驱动机构。水入口管与第1开口直接流体连通,使被处理水流入中空护罩。水出口管与第2开口直接流体连通,使照射了紫外线的被处理水从中空护罩流出。入口管及出口管的中心轴分别与中空护罩的中心轴交叉。
  • 紫外线水处理装置
  • [发明专利]紫外线照射装置-CN201010625050.0无效
  • 小林伸次;阿部法光;相马孝浩;城田昭彦 - 株式会社东芝
  • 2010-12-22 - 2011-07-27 - C02F1/32
  • 按照一个实施例,一种对原水例如市政水或者地下水进行杀菌、消毒或者灭活的紫外线照射装置,其包括水处理容器(6)、紫外线传感器(3)和控制器(4)。该水处理容器(6)包括供原水流入的供水端口(1a)、至少一对构造成用紫外线射流入水处理容器(6)的原水的紫外灯(8a,8b,8c,8d,8e,8f)和将经紫外线照射处理过的原水排出的出水端口(1b)。该紫外线传感器(3)构造成用来测量紫外灯(8a,8b,8c,8d,8e,8f)发出的紫外线照射量。该控制器(4)构造成用来控制紫外灯(8a,8b,8c,8d,8e,8f)的开和关。
  • 紫外线照射装置
  • [发明专利]紫外辐照系统-CN201010625004.0有效
  • 小林伸次;阿部法光;相马孝浩;城田昭彦 - 株式会社东芝
  • 2010-12-22 - 2011-07-20 - C02F9/08
  • 一种对诸如自来水或地下水的原水进行杀菌、消毒和去活的紫外辐照系统,包括多个串联连接的紫外辐照设备(11a、11b、11c),和配置为控制所述紫外辐照设备(11a、11b、11c)的输出和非输出的控制器(4)。所述紫外辐照设备(11a、11b、11c)包括:水处理容器(6),所述原水流过所述水处理容器(6);紫外灯(8a、8b、8c、8d),配置为用紫外线辐照所述水处理容器(6)中的所述原水;以及紫外传感器(3),配置为测量从所述紫外灯(8a、8b、8c、8d)发射的紫外线的量。
  • 紫外辐照系统
  • [发明专利]薄膜过滤系统-CN201010271673.2无效
  • 松代武士;足利伸行;毛受卓;黑川太;赤井芳惠;松井公一;山形英显;辻秀之;深川臣则;相马孝浩 - 株式会社东芝
  • 2010-08-31 - 2011-04-20 - C02F9/02
  • 根据一个实施例,薄膜过滤系统包括:未净化水罐(2);设置成容纳初级已处理水的第一罐(5);设置成容纳第二级已处理水的第二罐(8);包括纳米过滤薄膜、并且以1%或更多以及30%或更少的溶解物去除率将溶解物从未净化水中去除的纳米过滤薄膜模块(4,41-4n);被设置成将未净化水从未净化水罐供给到模块以使未净化水渗透穿过薄膜并且将已经渗透穿过薄膜的水作为初级已处理水输送到第一罐的第一泵(3);包括进一步将溶解物从初级已处理水中去除的反渗透薄膜的反渗透薄膜模块(7);以及被设置成将初级已处理水从第一罐供给到反渗透薄膜模块以使初级已处理水渗透穿过薄膜并且将已经渗透穿过薄膜的水作为第二级已处理水输送到第二罐的第二泵(6)。
  • 薄膜过滤系统

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