专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种Ge-Sb-Te三元相变材料薄膜的制备方法-CN201210058804.8有效
  • 孙志梅;潘元春;周健;萨百晟 - 厦门大学
  • 2012-03-08 - 2012-07-11 - C25D9/04
  • 一种Ge-Sb-Te三元相变材料薄膜的制备方法,涉及一种相变材料薄膜。将导电基片预处理;配制Ge4+离子电解质溶液;配制Sb3+和Te4+离子电解质溶液;恒电位沉积;恒电流沉积。在室温水溶液中通过简单的电化学沉积方法,制备结构稳定、平整致密、杂质含量低、膜层附着力强的Ge-Sb-Te三元相变材料薄膜。能够有效避免采用磁控溅射法、化学气相沉积法或现有的电化学沉积法存在的工艺设备复杂、成本高昂、难以大规模生产等不足;具有成本低廉、生产周期短、制备工艺简单、产物质量稳定等优点,在半导体领域尤其是相变存储材料的制备中有潜在的应用前景。
  • 一种gesbte三元相变材料薄膜制备方法
  • [发明专利]一种锗单质薄膜的制备方法-CN201210059186.9无效
  • 孙志梅;萨百晟;王振兴;周健;潘元春 - 厦门大学
  • 2012-03-08 - 2012-07-11 - C25D3/54
  • 一种锗单质薄膜的制备方法,涉及一种薄膜。导电基片预处理;配制Ge4+离子电解质溶液:将二氧化锗和碱溶液在容量瓶中用超纯水配制锗4价离子(Ge4+)的电解质溶液,调节pH值,加入支持电解质;使用三电极体系,控制反应电位为-900~-1500mV,沉积时间为100~10800s,进行电化学沉积反应,在导电基片上得到锗单质薄膜,结构稳定、平整致密、杂质含量低、膜层附着力强。能够有效避免采用磁控溅射法、化学气相沉积法或现有的电化学沉积法存在的工艺设备复杂。成本高昂、难以大规模生产等不足;具有成本低廉、生产周期短、制备工艺简单、产物质量稳定等优点。
  • 一种单质薄膜制备方法

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