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[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头、抛光系统和抛光方法-CN202211325513.0有效
发明人：孟松林;温世乾;赵德文;路新春 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头，其包括承载盘、弹性膜和保持环，所述弹性膜设置于承载盘的下方，所述保持环设置于所述弹性膜的外周侧并位于承载盘的底部；所述弹性膜包括底板部、直立部和水平部，所述底板部为盘状结构，直立部沿所述底板部的外缘竖直向上延伸，所述水平部自所述直立部的顶端水平向内延伸；还包括应变检测件和位置调节件，应变检测件沿周向设置于承载盘的底部，并且，所述弹性膜加压后，所述水平部抵接于应变检测件，以测量水平部的应力信息；位置调节件与应变检测件水平相邻设置于承载盘，位置调节件能够抵接于水平部，其基于应变检测件的测量值调节水平部的应力，使得水平部构成的腔室沿圆周方向的变形均匀。
一种用于化学机械抛光承载抛光系统方法

[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头及其使用方法-CN202310739537.9在审
发明人：孟松林;温世乾;马逸麟;孙张璞 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头及其使用方法，所述承载头包括：主基体；弹性膜，其通过承载盘连接于所述主基体的下方；检测组件，其设置于所述承载盘的安装孔并与弹性膜的一个腔室相对应，检测组件的对应腔室为检测腔室；所述检测组件包括销轴、密封件、弹性件和固定件，所述销轴间隙设置于承载盘的通气孔，所述密封件和弹性件套设于销轴的外周侧，密封件设置于安装孔的底部，弹性件设置于销轴的上部，所述固定件密封连接于安装孔上方并抵接于弹性件的上端；压缩的弹性件能够推动销轴抵压密封件，使得固定件与安装孔形成密封的辅助腔室；所述销轴的至少部分位于检测腔室，其能够沿竖向移动，以改变辅助腔室与检测腔室的通断。
一种用于化学机械抛光承载及其使用方法

[发明专利]一种8英寸或更小尺寸的承载头和化学机械抛光设备-CN202211685607.9在审
发明人：王宇;温世乾;马逸麟 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种8英寸或更小尺寸的承载头和化学机械抛光设备，该承载头包括基座、保持环、气膜、压环、第一卡环和第二卡环；所述气膜包括形成为圆形的底板、沿所述底板的外周沿竖直向上延伸的侧壁，所述侧壁的顶部向内延伸后再向外弯折延伸至被所述压环和所述保持环压紧固定并形成弯折部；所述气膜还包括从所述侧壁向内水平延伸后再向上延伸形成的内隔壁；所述第一卡环沿所述侧壁的弯折部的外侧表面并且所述第二卡环沿所述侧壁的弯折部的内侧表面一起卡合定位所述弯折部。
一种英寸尺寸承载化学机械抛光设备

[发明专利]一种承载头和化学机械抛光设备-CN202211685610.0在审
发明人：王宇;温世乾;马逸麟 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种承载头和化学机械抛光设备，承载头包括连接在枢轴下方的基座组件，在基座组件下方夹持有弹性膜以形成加压腔室，在加压腔室内定位有内卡环，在加压腔室外设有外卡环；所述基座组件下方还连接有围绕加压腔室和外卡环设置的保持环；所述外卡环和保持环之间设有相互配合的限位结构，用于限制外卡环的活动进而限制弹性膜的移动范围。
一种承载化学机械抛光设备

[发明专利]一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头-CN202211728619.5在审
发明人：赵德文;温世乾;孟松林;王宇 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头，所述弹性膜包括：圆形的底板部；外周壁，其包括直立部、褶皱部和第一水平延伸部，所述直立部沿所述底板部的周缘向上竖直延伸而成，所述褶皱部位于所述直立部之上，所述第一水平延伸部自所述褶皱部顶端朝向内侧水平延伸而成；以及至少一个内周壁，其同心设置于所述外周壁的内侧；其中，所述褶皱部为开口向内的梯形折边。
一种用于化学机械抛光弹性承载

[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统-CN202211722047.X在审
发明人：马逸麟;温世乾;孟松林;孙张璞;赵德文 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统，所述承载头包括：基座；承载盘，设置于所述基座的下方；弹性膜，设置于所述承载盘下方；保持环，设置于承载盘的下方并位于弹性膜的外周侧；压盖，设置于所述承载盘的上方；防护罩，连接于所述基座并罩设于所述压盖的外周侧；所述压盖的外周侧配置有阻液结构，以防止液体经由防护罩与压盖之间的间隙向上传输。
一种用于化学机械抛光承载抛光系统

[实用新型]一种承载头和化学机械抛光设备-CN202223494109.4有效
发明人：王宇;温世乾;马逸麟 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种承载头和化学机械抛光设备，承载头包括连接在枢轴下方的基座组件，在基座组件下方夹持有弹性膜以形成加压腔室，在加压腔室内定位有内卡环，在加压腔室外设有外卡环；所述基座组件下方还连接有围绕加压腔室和外卡环设置的保持环；所述外卡环和保持环之间设有相互配合的限位结构，用于限制外卡环的活动进而限制弹性膜的移动范围。
一种承载化学机械抛光设备

[实用新型]一种8英寸或更小尺寸的承载头和化学机械抛光设备-CN202223494186.X有效
发明人：王宇;温世乾;马逸麟 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种8英寸或更小尺寸的承载头和化学机械抛光设备，该承载头包括基座、保持环、气膜、压环、第一卡环和第二卡环；所述气膜包括形成为圆形的底板、沿所述底板的外周沿竖直向上延伸的侧壁，所述侧壁的顶部向内延伸后再向外弯折延伸至被所述压环和所述保持环压紧固定并形成弯折部；所述气膜还包括从所述侧壁向内水平延伸后再向上延伸形成的内隔壁；所述第一卡环沿所述侧壁的弯折部的外侧表面并且所述第二卡环沿所述侧壁的弯折部的内侧表面一起卡合定位所述弯折部。
一种英寸尺寸承载化学机械抛光设备

[实用新型]一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头-CN202223573470.6有效
发明人：赵德文;温世乾;孟松林;王宇 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头，所述弹性膜包括：圆形的底板部；外周壁，其包括直立部、褶皱部和第一水平延伸部，所述直立部沿所述底板部的周缘向上竖直延伸而成，所述褶皱部位于所述直立部之上，所述第一水平延伸部自所述褶皱部顶端朝向内侧水平延伸而成；以及至少一个内周壁，其同心设置于所述外周壁的内侧；其中，所述褶皱部为开口向内的梯形折边。
一种用于化学机械抛光弹性承载

[实用新型]一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统-CN202223607075.5有效
发明人：马逸麟;温世乾;孟松林;孙张璞;赵德文 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统，所述承载头包括：基座；承载盘，设置于所述基座的下方；弹性膜，设置于所述承载盘下方；保持环，设置于承载盘的下方并位于弹性膜的外周侧；压盖，设置于所述承载盘的上方；防护罩，连接于所述基座并罩设于所述压盖的外周侧；所述压盖的外周侧配置有阻液结构，以防止液体经由防护罩与压盖之间的间隙向上传输。
一种用于化学机械抛光承载抛光系统

[发明专利]一种晶圆滑片风险的评估方法及化学机械抛光装置-CN202211570496.7在审
发明人：杨朝霞;温世乾;倪孟骐;赵德文;路新春 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆滑片风险的评估方法及化学机械抛光装置，包括：S100、采集气膜和保持环的摩擦力矩，分别记为torqueA和torqueB；对保持环的平均摩擦力fRR赋值，使总合摩擦力矩等于torqueB，根据fRR计算保持环所受的侧向力FRR和摩擦系数μs；对气膜的平均摩擦力fw赋值，使总合摩擦力矩等于torqueA，根据fw计算晶圆所受的侧向摩擦力FW和摩擦系数μk；定义边界条件a和b，令a＝μs‑μk，b＝FRR‑FW，若a‑0.5和/或b‑1500，则晶圆存在滑片风险。本发明提供的滑片评估方法根据侧向摩擦力和摩擦系数的大小可判断当前工况和其他工况的差异，可复现现场工况。
一种圆滑风险评估方法化学机械抛光装置

[实用新型]一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统-CN202223196432.3有效
发明人：孟松林;王宇;温世乾;赵德文 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统，所述承载头包括承载盘、弹性膜和保持环，所述弹性膜设置于承载盘的下方，所述保持环设置于弹性膜的外周侧并位于承载盘的底部；所述弹性膜包括底板部、直立部、水平部和褶皱部，所述底板部为盘状结构，直立部沿所述底板部的外缘竖直向上延伸，所述水平部自所述直立部的顶端水平向内延伸，所述褶皱部设置于直立部的上方，且其边缘设置于承载盘与保持环之间；还包括检测件和调节件，所述检测件和调节件相邻设置并位于所述褶皱部的下方；所述检测件测量所述褶皱部的应力信息，所述调节件基于检测件的测量值调节褶皱部的应力，使得褶皱部构成的腔室沿圆周方向的变形均匀。
一种用于化学机械抛光承载抛光系统

[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头、抛光系统和抛光方法-CN202211530232.9在审
发明人：孟松林;王宇;温世乾;赵德文 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头、抛光系统和方法方法，所述承载头包括承载盘、弹性膜和保持环，所述弹性膜设置于承载盘的下方，所述保持环设置于弹性膜的外周侧并位于承载盘的底部；所述弹性膜包括底板部、直立部、水平部和褶皱部，所述底板部为盘状结构，直立部沿所述底板部的外缘竖直向上延伸，所述水平部自所述直立部的顶端水平向内延伸，所述褶皱部设置于直立部的上方，且其边缘设置于承载盘与保持环之间；还包括检测件和调节件，所述检测件和调节件相邻设置并位于所述褶皱部的下方；所述检测件测量所述褶皱部的应力信息，所述调节件基于检测件的测量值调节褶皱部的应力，使得褶皱部构成的腔室沿圆周方向的变形均匀。
一种用于化学机械抛光承载抛光系统方法

[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备-CN202211325516.4在审
发明人： 温世乾;路新春;赵德文;孟松林;李润豪 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备，该承载头包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜和保持环；所述平衡架可滑动地设置于连轴盘的中心通孔内并通过平衡架的底部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，柔性膜的一部分被夹紧至承载盘下部以形成密封腔室；所述承载盘的靠近边缘与保持环邻接的对应位置设有磁吸部，用于吸合保持环。
一种用于化学机械抛光承载设备

[发明专利]一种化学机械抛光头和抛光设备-CN202111325470.1在审
发明人：赵德文;孟松林;温世乾;王宇 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光头和抛光设备，所述化学机械抛光头包括主体部及保持环，所述主体部的底部配置有基座，所述保持环通过连接结构固定于所述基座；所述连接结构包括固定螺钉及调节圈，保持环通过固定螺钉连接于承载头的基座，所述调节圈设置于所述保持环与所述基座之间并位于所述固定螺钉的内侧或外侧；所述调节圈对保持环的作用力产生相对于所述固定螺钉的偏转力矩，使得保持环的底面形成沿半径方向的高度差。
一种化学机械抛光抛光设备

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