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[发明专利]衬底处理系统、衬底处理装置及半导体器件的制造方法-CN201910694895.6有效
发明人：米田秋彦;浅井一秀;前田哲之;宫下直也;宫川信之;冈崎正;柳濑英雄 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2019-07-30 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供衬底处理系统、衬底处理装置及半导体器件的制造方法，能够分别使用搬送衬底时的图像数据和发生搬送错误时的图像数据来进行异常解析。具备：第1控制单元，其获取搬送衬底时产生的事件数据及发生搬送错误时产生的警报数据；记录单元，其将衬底的搬送动作记录为第1图像数据，且将该衬底的搬送动作记录为比该第1图像数据高精细的第2图像数据；第2控制单元，其基于事件数据使由记录单元记录的第1图像数据存储到第1存储部中，并且基于警报数据使由记录单元记录的第2图像数据存储到第2存储部中；和操作部，其至少显示第1图像数据和第2图像数据，第2控制单元将第1图像数据和发生搬送错误时记录的第2图像数据双方显示到同一画面。
衬底处理系统装置半导体器件制造方法

[发明专利]基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质-CN201811545130.8有效
发明人：奥野正则;堀田英树;山本一良;浅井一秀;米岛利彦 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质，能够在适当的定时除去附着在排气装置的副产物，提高装置的运转率。基板处理装置具备：主控制部，其进行控制使得执行包含多个步骤的工艺方案，对基板实施预定的处理，取得执行工艺方案的过程中的装置数据；存储部，其存储所取得的装置数据，其中，主控制部取得构成工艺方案的各步骤中的预先确定的特定步骤中的装置数据，计算所取得的装置数据的平均值，将所计算出的平均值与在上次执行工艺方案时计算出的特定步骤中的装置数据的平均值进行比较，在计算出的平均值连续预先设定的次数地显示出预先定义的倾向的情况下，产生警报。
处理装置半导体制造方法以及记录介质

[发明专利]半导体设备的制造方法、基板处理系统以及记录介质-CN202210908288.7在审
发明人：筱泽宗人;上田修;京极贵规;浅井一秀 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体设备的制造方法、基板处理系统以及记录介质，通过使制程应对特别是在需要长时间的成膜工序中产生的大气压的变动，来得到所期待的成膜结果。半导体设备的制造方法包括按照基板的处理条件对基板进行处理的工序；与对所述基板进行处理的工序并行地收集大气压数据的工序；使用收集到的所述大气压数据对所述基板的处理条件进行调整的工序；以及按照所述处理条件进行所述基板处理的控制的工序。
半导体设备制造方法处理系统以及记录介质

[发明专利]基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质-CN202111092954.6在审
发明人：山本一良;林原秀元;屋敷佳代子;浅井一秀 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够检测基板是否已被正常处理的基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质。本发明的基板处理装置(1)包括：处理室(136～139)，其进行基板(200)的处理；存储部(322)，其存储配方信息、工艺数据、偏差品质数据及比较数据；监视部(330)，其监视工艺数据；解析部(329)，其对偏差品质数据和比较数据进行比较，求出表示相对于比较数据的再现性的再现指数，在再现指数低于预先确定的值的情况下，计算出配方信息所包含的设定信息的修正值；和控制部(320)，其能够利用修正值对配方信息所包含的设定信息进行修正。
处理装置半导体器件制造方法记录介质

[发明专利]管理装置、数据处理方法、记录介质、半导体器件的制造方法及处理系统-CN202210014527.4在审
发明人：坂元优介;浅井一秀;屋敷佳代子;上田修;袁帅 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2022-01-06 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G06F9/48 文献下载
摘要：提供一种能够远程监视在多个工厂运行的半导体制造装置群的管理装置、数据处理方法、记录介质、半导体器件的制造方法及处理系统。具备：第1存储部，其存储来自终端装置的请求数据；第2存储部，其存储来自处理装置的信息；和控制部，其构成为能够基于所接收到的请求数据对第1存储部及第2存储部中的某一方进行检索，使用第1存储部及第2存储部中的至少某一方获取与请求数据的内容对应的处理装置的信息。
管理装置数据处理方法记录介质半导体器件制造处理系统

[发明专利]半导体器件的制造方法、记录介质及衬底处理装置-CN201810162831.7有效
发明人：镰仓司;浅井一秀 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：半导体器件的制造方法、记录介质及衬底处理装置。可提高每个衬底的处理均匀性。半导体器件的制造方法具有如下工序：向处理室供给非活性气体；将处理室内的气氛从排气部排气；获取第一数据的第一数据获取工序；和对设置于排气部的排气调节部的阀开度进行调节的排气特性调节工序；排气特性调节工序具有：在将排气调节部的阀开度设定为规定值的状态下，一边改变非活性气体的流量一边测定处理室内或排气部的任一者的压力，获取与该压力与非活性气体流量之间的关系有关的实测数据即第二数据的第二数据获取工序，对第二数据与第一数据之间的差异数据是否处于规定范围内进行判定的工序，和当差异数据不处于规定范围内时变更排气调节部的阀开度的工序。
半导体器件制造方法记录介质衬底处理装置

[发明专利]基板处理系统、基板处理装置的文件管理方法及存储介质-CN201580082353.3有效
发明人：山本一良;上田修;浅井一秀 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2015-09-30 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种至少包含处理基板的基板处理装置以及管理所述基板处理装置的管理装置的结构，基板处理装置当受理了确定成为基准的基板处理装置的装置确定信息以及指定规定的装置文件的文件信息的输入时，向管理装置发送请求电文，该请求电文包含第一识别符、表示成为基准的基板处理装置的第一装置信息以及与规定的装置文件关联的第一数据信息；管理装置将请求电文传送至成为基准的基板处理装置，成为基准的基板处理装置处理接收到的请求电文，向管理装置发送响应电文，该响应电文包含第二识别符和响应第一数据信息的第二数据信息；管理装置将响应电文传送至基板处理装置；基板处理装置处理响应电文，取得并保存第二数据信息。
处理系统装置文件管理方法存储介质

[发明专利]基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质-CN202010927808.X在审
发明人：山田博之;浅井一秀 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供能够谋求提高基板处理的处理能力的涉及基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质的技术。所提供的技术具备：处理部，其对基板进行处理；存储部，其存储用于对基板进行处理的处理程序和用于使处理程序的执行中断的中断程序；以及控制部，其通过读出并执行处理程序而控制处理部，控制部构成为，针对处理程序检查有无感染计算机病毒，在判定成感染了计算机病毒的情况下，读出并执行中断程序。
处理装置半导体器件制造方法记录介质

[发明专利]基板处理装置和系统、半导体器件的制造方法及记录介质-CN202011486514.4在审
发明人： 浅井一秀 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： H04L29/06 文献下载
摘要：本发明提供一种提高基板处理的吞吐量的技术。提供一种基板处理装置，该基板处理装置具备：处理基板的处理部；收发部，其以可通信的方式与群管理装置连接，在与群管理装置之间仅收发电文数据；以及控制部，其基于由收发部接收到的电文数据控制由处理部进行的处理。
处理装置系统半导体器件制造方法记录介质

[发明专利]衬底处理装置、装置管理控制器及装置管理方法-CN201710121687.8有效
发明人： 浅井一秀;山本一良;川岸隆之;林原秀元;屋敷佳代子;岩仓裕幸 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-03-02 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够谋求缩短对异常的解析调查的时间的构成。该构成包含将在执行对衬底进行处理的配方的过程中所生成的装置数据向存储部传送的操作部、和分别对存储在存储部中的多个装置数据进行核对的数据匹配控制部，操作部将表示装置中发生了异常的主旨的数据向上述数据匹配控制部通知，数据匹配控制部具有：选定部，其从存储部选定以与发生了异常的配方相同的条件被执行了的配方；获取部，其分别从发生了异常的配方和由选定部选定出的配方获取装置数据；和运算部，其对获取到的装置数据的差异进行运算，基于表示发生了异常的主旨的数据来对从异常发生前后的配方获取到的装置数据进行核对。
衬底处理装置管理控制器方法

[发明专利]基板处理装置、半导体装置的制造方法以及程序-CN201880097796.3在审
发明人：加我友纪直;山本一良;林原秀元;浅井一秀 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2018-09-18 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种结构，包含使基板处理系统执行由多个步骤构成的工艺制程的控制部，在工艺制程的执行中，针对满足预先决定的收集条件的步骤，收集针对基板处理系统中的监视对象的部件的部件数据，生成表示收集到的部件数据的相关关系的相关曲线，将生成的相关曲线与预先存储的成为基准的初始相关曲线进行比较，判定相关曲线与初始相关曲线的差量是否超过预先决定的阈值，在超过了阈值的情况下，产生警报。
处理装置半导体制造方法以及程序

[发明专利]处理装置、装置管理控制器、处理系统、记录介质、半导体器件的制造方法以及显示方法-CN202011525706.1在审
发明人： 浅井一秀;山本一良;林原秀元;川岸隆之;屋敷佳代子;宫田幸男;岩仓裕幸;奥野正则;藤元贤一;锻治隆一 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-03-06 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置、装置管理控制器、处理系统、记录介质、半导体器件的制造方法以及显示方法。其技术课题为，容易地掌握处理装置可否稳定地运转。解决手段为：提供了如下结构，至少具有：对构成装置的结构部件的状态进行监视的部件管理控制部、对从构成装置的结构部件的动作状态得到的装置数据的健全性进行监视的装置状态监视控制部、对从工厂设备提供给装置的设备数据进行监视的数据匹配控制部，基于从由部件管理控制部所获取的保养时期监视结果数据、装置状态监视控制部所获取的装置状态监视结果数据和数据匹配控制部所获取的用力监视结果数据构成的组中选择的多个监视结果数据，来导出对装置的运用状态进行评价的信息。
处理装置管理控制器系统记录介质半导体器件制造方法以及显示

[发明专利]处理装置、装置管理控制器、计算机可读的记录介质、半导体器件的制造方法以及显示方法-CN202011525801.1在审
发明人： 浅井一秀;山本一良;林原秀元;川岸隆之;屋敷佳代子;宫田幸男;岩仓裕幸;奥野正则;藤元贤一;锻治隆一 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-03-06 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置、装置管理控制器、计算机可读的记录介质、半导体器件的制造方法、以及显示方法。其技术课题为，容易地掌握处理装置可否稳定地运转。解决手段为：提供了如下结构，至少具有：对构成装置的结构部件的状态进行监视的部件管理控制部、对从构成装置的结构部件的动作状态得到的装置数据的健全性进行监视的装置状态监视控制部、对从工厂设备提供给装置的设备数据进行监视的数据匹配控制部，基于从由部件管理控制部所获取的保养时期监视结果数据、装置状态监视控制部所获取的装置状态监视结果数据和数据匹配控制部所获取的用力监视结果数据构成的组中选择的多个监视结果数据，来导出对装置的运用状态进行评价的信息。
处理装置管理控制器计算机可读记录介质半导体器件制造方法以及显示

[发明专利]处理装置、装置管理控制器、程序、半导体器件的制造方法以及显示方法-CN202011528707.1在审
发明人： 浅井一秀;山本一良;林原秀元;川岸隆之;屋敷佳代子;宫田幸男;岩仓裕幸;奥野正则;藤元贤一;锻治隆一 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-03-06 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置、装置管理控制器、程序、半导体器件的制造方法、以及显示方法。其技术课题为，容易地掌握处理装置可否稳定地运转。解决手段为：提供了如下结构，至少具有：对构成装置的结构部件的状态进行监视的部件管理控制部、对从构成装置的结构部件的动作状态得到的装置数据的健全性进行监视的装置状态监视控制部、对从工厂设备提供给装置的设备数据进行监视的数据匹配控制部，基于从由部件管理控制部所获取的保养时期监视结果数据、装置状态监视控制部所获取的装置状态监视结果数据和数据匹配控制部所获取的用力监视结果数据构成的组中选择的多个监视结果数据，来导出对装置的运用状态进行评价的信息。
处理装置管理控制器程序半导体器件制造方法以及显示

[发明专利]处理装置、装置管理控制器、以及装置管理方法-CN201710128701.7有效
发明人： 浅井一秀;山本一良;林原秀元;川岸隆之;屋敷佳代子;宫田幸男;岩仓裕幸;奥野正则;藤元贤一;锻治隆一 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-03-06 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置、装置管理控制器、以及装置管理方法。其技术课题为，容易地掌握处理装置可否稳定地运转。解决手段为：提供了如下结构，至少具有：对构成装置的结构部件的状态进行监视的部件管理控制部、对从构成装置的结构部件的动作状态得到的装置数据的健全性进行监视的装置状态监视控制部、对从工厂设备提供给装置的设备数据进行监视的数据匹配控制部，基于从由部件管理控制部所获取的保养时期监视结果数据、装置状态监视控制部所获取的装置状态监视结果数据和数据匹配控制部所获取的用力监视结果数据构成的组中选择的多个监视结果数据，来导出对装置的运用状态进行评价的信息。
处理装置管理控制器以及方法

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