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[发明专利]一种金属屏蔽片掩膜板和蒸镀辅助设备-CN202310282645.8在审
发明人：罗小龙;池昶恂;安廷猎;郭登俊;伍青峰;李育晖;石应东;韩帅;杜志林;李烁辉;李定伟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2023-03-21 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开实施例提供了一种金属屏蔽片掩膜板和蒸镀辅助设备，金属屏蔽片掩膜板，包括：支撑框架、金属屏蔽片、辅助屏蔽片，其中，支撑框架和辅助屏蔽片均为中空的框架结构；金属屏蔽片包括蒸镀区域和四周区域，蒸镀区域包括多个显示面板的蒸镀结构和分隔各个蒸镀结构的间隔结构，四周区域仅包括多个第一固定支脚，第一固定支脚承载在辅助屏蔽片上，第一固定支脚的端部与支撑框架连接；辅助屏蔽片承载在支撑框架上，辅助屏蔽片由四周区域和蒸镀区域的分界线延伸至支撑框架，与支撑框架连接。在采用本公开实施例金属屏蔽片掩膜板进行蒸镀时，原有四周区域附着的蒸镀材料会附着在辅助屏蔽片上，不会造成金属屏蔽片的形变，保证所有蒸镀结构的蒸镀效果。
一种金属屏蔽片掩膜板辅助设备

[发明专利]显示基板、显示装置-CN202111014705.5在审
发明人：刘肖楠;李军;池昶恂;尚庭华;徐倩 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： H10K59/12 文献下载
摘要：本公开提供一种显示基板、显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的技术问题之一。本公开的显示基板包括包括衬底基板，以及在所述衬底基板上呈阵列间隔排布的多个子像素；相邻的所述子像素之间具有间隔区；所述间隔区包括具有功能位的第一间隔区，以及无功能位的第二间隔区；至少部分所述功能位处设置功能件；沿第一方向或第二方向排布的相邻两个所述子像素之间的所述第一间隔区的宽度，大于沿与其同方向排布的相邻两个所述子像素之间的所述第二间隔区的宽度；其中，所述间隔区的宽度，等于该间隔区对应的两个所述子像素的边界之间的最短距离。
显示显示装置

[实用新型]一种测试基板、蒸镀系统-CN202120707566.3有效
发明人：刘肖楠;靳福江;李军;张磊;张钊;高翔;池昶恂 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-04-07 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种测试基板、蒸镀系统，包括：基底；金属平衡层，位于基底的一侧表面上，金属平衡层的周向边缘与基底的周向边缘之间设置有预留间隙。本公开实施例的测试基板，可以应用于蒸镀工艺调试过程中，金属平衡层可以平衡金属掩膜版的电量，从而有效减少金属掩膜版上积累的静电，有效预防金属掩膜版被静电损伤。
一种测试系统

[实用新型]蒸发源的加热装置及蒸发源-CN202121165477.7有效
发明人：徐天宇;池昶恂;肖昂;刘洋;刘金彪;黄秦霏;刘祥;付佳佳;李哲;晋亚杰;陈颖冰;张伟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本公开涉及一种蒸发源的加热装置及蒸发源，包括：套筒，具有内壁、外壁、顶板和底板；支撑环，设于内壁和外壁之间，且环绕于内壁外，将套筒分割成第一加热腔和第二加热腔；电热丝，包括依次沿套筒的周向串联的多个第一电热单元和第二电热单元，相邻的第一电热单元之间设置有一个第二电热单元；第一电热单元和第二电热单元均包括两个沿套筒的轴向延伸的延伸段和连接两个延伸段的连接段，第一电热单元的延伸段延伸至第二加热腔，连接段位于第一加热腔，第二电热单元的延伸段延伸至第一加热腔，连接段位于第二加热腔；导电体，设置于支撑环上，连接第一电热单元的延伸段和第二电热单元的延伸段；驱动装置，与支撑环连接并驱动支撑环沿套筒轴向运动。
蒸发加热装置

[实用新型]显示基板、显示装置-CN202122078591.2有效
发明人：刘肖楠;李军;池昶恂;尚庭华;徐倩 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本公开提供一种显示基板、显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的技术问题之一。本公开的显示基板包括包括衬底基板，以及在所述衬底基板上呈阵列间隔排布的多个子像素；相邻的所述子像素之间具有间隔区；所述间隔区包括具有功能位的第一间隔区，以及无功能位的第二间隔区；至少部分所述功能位处设置功能件；沿第一方向或第二方向排布的相邻两个所述子像素之间的所述第一间隔区的宽度，大于沿与其同方向排布的相邻两个所述子像素之间的所述第二间隔区的宽度；其中，所述间隔区的宽度，等于该间隔区对应的两个所述子像素的边界之间的最短距离。
显示显示装置

[发明专利]一种基板防污罩及基板磨边设备-CN201710662883.6有效
发明人：徐天宇;张燕斌;刘锋;李海博;宋海波;唐伟鑫;高娜;崔昌燮;池昶恂;李京洙;张溶源 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： B24B9/10 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种基板防污罩及基板磨边设备。基板防污罩，包括：罩体，罩体具有防护侧，防护侧在基板磨边设备的工作过程中与待研磨的基板相对设置；水幕装置，在基板磨边设备的工作过程中，水幕装置用于在罩体的防护侧上形成流向基板的第一水幕，第一水幕所在的平面与基板之间在远离待研磨边的一侧的夹角小于90°，且在基板的待研磨边方向上，第一水幕的长度大于或等于基板的长度；冲洗装置，在基板磨边设备的工作过程中，冲洗装置用于在罩体的防护侧向基板排放清洗液体。可解决现有技术中的防污罩在磨边工艺后玻璃基板上残留的粉尘数量较多，进而降低OLED显示面板良率的问题。
基板磨边设备罩体研磨防污罩防护水幕冲洗装置水幕装置基板相对设置后玻璃基板侧向基板良率磨边粉尘清洗残留排放

[发明专利]一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备-CN201310491720.8有效
发明人： 池昶恂 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2006-01-21 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种支撑加热坩埚的装置，包括支撑台和防污盘，支撑台的上表面形成有许多孔洞，防污盘分布于支撑台的各个孔洞入口处，并且具有相对于孔洞的开放部分以及沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分。
一种支撑加热坩埚装置以及包括沉积设备

[发明专利]薄膜沉积装置及制造有机发光显示设备的方法-CN201010599753.0有效
发明人： 池昶恂;金兑承;李钟禹;安成国 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2010-12-14 - 公布日： 2011-08-10 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本公开提供一种薄膜沉积装置及制造有机发光显示设备的方法。所述薄膜沉积装置可以去除基板与掩膜之间产生的静电，并且所述方法用于利用该薄膜沉积装置制造有机发光显示设备。
薄膜沉积装置制造有机发光显示设备方法

[发明专利]内板和具有该内板的用于沉积的坩埚组件-CN200910009757.6有效
发明人：闵庚秀;池昶恂 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2009-02-02 - 公布日： 2010-02-24 - 主分类号： F27B14/10 文献下载
摘要：一种内板和具有该内板的用于沉积的坩埚组件。该坩埚组件包括：主体，具有容纳沉积材料的内部空间和布置在所述内部空间的上部的开口；盖子，具有布置在所述盖子的顶部的孔，所述盖子与所述主体结合；内板，布置在所述主体和所述盖子之间，所述内板遮盖所述主体的开口，坩埚组件包括内部通道，所述内部通道被布置成允许沉积材料的蒸汽经设置在内板的外侧表面和所述盖子的内侧表面之间的空间从主体的内部空间排出到所述盖子中的孔的外部。
具有用于沉积坩埚组件

[发明专利]一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备-CN200610008964.6有效
发明人： 池昶恂 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2006-01-21 - 公布日： 2006-08-16 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：一种支撑加热坩埚的装置，包括支撑台和防污盘，支撑台的上表面形成有许多孔洞，防污盘分布于支撑台的各个孔洞入口处，并且具有相对于孔洞的开放部分以及沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分。
一种支撑加热坩埚装置以及包括沉积设备

[发明专利]加热坩埚和采用此加热坩埚的沉积装置-CN03133181.5有效
发明人：琴智焕;池昶恂;金炯民;南宫晟泰 -专利权人：三星日本电气移动显示株式会社
申请日： 2003-07-23 - 公布日： 2004-03-03 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：一种沉积装置，包括真空腔和加热坩埚。其上将形成沉积膜的衬底安装在真空腔内。加热坩埚安装成与衬底相对以使有机化合物汽化。加热坩埚包括主体和内板。主体包括可容纳有机化合物的空间和通过其可排放汽化的有机化合物的喷嘴。内板安装在主体内，包括形成于朝向喷嘴的区域边缘周围的一个或多个开口，以便传送此汽化的有机化合物。
加热坩埚采用沉积装置

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