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[发明专利]立体显示用玻璃基板及具备其的非接触操作装置-CN202180053123.X在审
发明人：山本裕绍;陶山史朗;佐事郁弥;林笃嗣;柏原康宏;谷口信吾;福成良介;鸨田百荣 -专利权人： 株式会社NSC;国立大学法人宇都宫大学
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种廉价且无需增加部件数量而能够使观察者目视确认立体视觉图像的立体显示用玻璃基板以及非接触操作装置。立体显示用玻璃基板(10)构成为通过所照射的光来显现使用两眼视差的立体视觉图像。该立体显示用玻璃基板(10)具备设置有基于要立体显示的像的形状而配置而多个立体显示用微细槽(圆弧状微细槽(102))的立体显示用区域(100)。该立体显示用区域(100)构成为通过使照射到多个立体显示用微细槽的光进行散射、折射以及反射中的至少一种，从而在远离基板面的位置使观察者目视确认立体视觉图像。
立体显示玻璃具备接触操作装置

[发明专利]蚀刻废液处理方法-CN201880027139.1有效
发明人：石川直辉;甲斐康司;中世古隆生;中岛孝仁;樱井健一;藤原武史;山崎优 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2018-03-22 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C02F1/58 文献下载
摘要：本发明提供一种废弃物处理系统和废弃物处理方法，该废弃物处理系统不管玻璃基板的蚀刻处理中产生的蚀刻废液的状态如何，都可以简易且抑制成本地实施蚀刻废液的处理。蚀刻废液处理系统(10)以对在进行玻璃基板的蚀刻处理的蚀刻装置中产生的蚀刻废液进行处理的方式构成。该蚀刻废液处理系统(10)至少具备反应槽(15)和作为无害化单元的酸性洗涤器(30)。在反应槽(15)中，一边缓和蚀刻废液的酸性度一边增稠至能够输送的程度，进而进行增稠蚀刻废液的中性污泥化。
蚀刻废液处理方法

[发明专利]有机EL面板-CN202080061416.8在审
发明人：富家夏树;谷口信吾;田村达彦 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：提供在抑制成本的同时能制造的以超薄玻璃为基材的有机EL面板。有机EL面板(10)至少具备：有机EL基板(12)，其由玻璃构成，且具有有机EL层叠部(122)；以及对置基板(14)，其由玻璃或树脂构成，且构成为与有机EL基板(12)相贴合。该有机EL基板(10)与有机EL基板(12)及密封基板(14)相贴合的状态下的玻璃部分的厚度的合计值为0.2mm以下，且有机EL基板以及密封基板的玻璃部分中的贴合处以外的面由蚀刻加工面构成。
有机 el 面板

[发明专利]平面玻璃天线及其制造方法-CN202080040767.0在审
发明人：西山荣 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： H01Q1/38 文献下载
摘要：提供具备多个天线元件的平面玻璃天线及其制造方法。平面玻璃天线(10)使用玻璃基板(12)作为电介质基板且构成为接收电波。该平面玻璃天线(10)至少具备玻璃基板(12)、接地导电部(14)以及多个天线元件(16)。玻璃基板(12)具有配置为矩阵状的多个供电用贯通孔(20)。接地导电部(14)设置于玻璃基板(12)的第一主面。多个天线元件(16)设置于玻璃基板(12)的第二主面中的与多个供电用贯通孔(20)分别对应的位置。
平面玻璃天线及其制造方法

[发明专利]玻璃用蚀刻液及玻璃基板制造方法-CN202080032093.X在审
发明人：西川晴香;岛田和哉;永井忠;三好雄三;富家夏树;大小田健太;柏原康宏;齐藤俊介;大山阳照;林笃嗣;福成良介;石垣畅规;元持健;久米贵大 -专利权人： 株式会社NSC;松下电器产业株式会社
申请日： 2020-02-03 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C03B33/02 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将伴随于蚀刻处理的侧蚀刻的影响抑制在最小限度的液晶面板制造方法。本申请发明所涉及的玻璃用蚀刻液是用于对玻璃进行蚀刻的玻璃用蚀刻液，至少含有蚀刻阻碍物质，该蚀刻阻碍物质使对玻璃的蚀刻速度降低，且至少含有碱和氟络合剂中的任一种。蚀刻阻碍物质优选通过附着于玻璃中的改性成容易被蚀刻的改性部来产生阻碍蚀刻反应的反应生成物。
玻璃蚀刻制造方法

[发明专利]喷淋蚀刻装置-CN201680038962.3有效
发明人：竹内一马;水谷龙也;林田哲夫 -专利权人： 株式会社NSC;株式会社京机械
申请日： 2016-05-20 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供使维护变得容易且容易实现装置的紧凑化、且可执行高品质的喷淋蚀刻处理的喷淋蚀刻装置。喷淋蚀刻装置至少包括蚀刻腔室(16)、送液单元(40)以及驱动单元(50)，这些送液单元(40)、蚀刻腔室(16)以及驱动单元(50)在与玻璃基板(100)的搬运方向正交的宽度方向上排列。蚀刻腔室(16)至少包括构成为对玻璃基板(100)喷淋蚀刻液的可移动的上侧喷淋配管单元(162)以及下侧喷淋配管单元(164)。
喷淋蚀刻装置

[发明专利]悬浮输送装置-CN201980075803.4在审
发明人：竹内一马;天之濑聪;入江央 -专利权人： 株式会社NSC;株式会社京机械
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在稳定的状态下输送蚀刻处理后等湿润状态的薄型基板的悬浮输送装置。悬浮搬送单元(60)具备：水悬浮搬送部(62)、气刀(64)、第一空气悬浮搬送部(66)、第二空气悬浮搬送部(68)、辅助辊(70)以及搬送带(72)，在使玻璃基板(24)悬浮的状态下搬送。水悬浮输送部(62)具有构成为在表面上形成水膜的水膜形成板(621)。气刀(64)构成为向被处理基板喷射空气。第一空气悬浮输送部(66)具有形成有向玻璃基板(24)从下方喷射空气的喷射孔(82)的悬浮输送板(67)。第二空气悬浮输送部(68)具有多孔板(681)。辅助辊(70)和输送带(72)沿输送方向输送玻璃基板(24)。
悬浮输送装置

[发明专利]液晶面板制造方法-CN201980031999.7在审
发明人：茅野真吾;柏原康宏;山内宽之;堂园哲孝;家原惠太;向原聪;镰苅守 -专利权人： 株式会社NSC;夏普株式会社
申请日： 2019-05-29 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明所涉及的液晶面板制造方法至少包括：激光照射步骤，通过沿着多块获取用玻璃母材(50)中的与液晶面板的形状对应的形状切割预定线照射激光，从而形成容易被蚀刻的性质的改性线(20)；以及划线槽形成步骤，针对彩色滤光片基板(14)，沿着端子部区域切割预定线形成划线槽。激光照射步骤包括：向不与电极端子部相邻的位置照射激光时的通常动作模式；以及向与电极端子部相邻的位置照射激光时的聚光区域调整模式。在聚光区域调整模式中，调整聚光区域以使聚光区域不到达中间层。
液晶面板制造方法

[发明专利]带透明薄膜的玻璃面板的制造方法、带透明薄膜的液晶面板的制造方法、玻璃面板制造方法以及液晶面板制造方法-CN201880039445.7在审
发明人：茅野真吾;柏原康宏;山内宽之;堂园哲孝;家原惠太 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：提供带透明薄膜的玻璃面板的制造方法以及带透明薄膜的液晶面板的制造方法，能将伴随蚀刻处理的侧面蚀刻的影响抑制到最小限度。带透明薄膜的玻璃面板的制造方法至少包含激光扫描步骤以及蚀刻步骤。在激光扫描步骤中，沿与要取出的玻璃面板的形状对应的形状切断预定线隔着透明薄膜来扫描激光，从而沿形状切断预定线而在带透明薄膜的切取多块用玻璃母材形成具有易被蚀刻的性质的改性线。在蚀刻步骤中，在激光扫描步骤后，在保护透明薄膜的同时使带透明薄膜的切取多块用玻璃母材与蚀刻液接触，从而蚀刻改性线。
透明薄膜蚀刻玻璃面板激光扫描切断预定线玻璃母材多块改性切取制造扫描激光蚀刻处理形状对应液晶面板最小限度蚀刻液易被取出侧面

[发明专利]液晶面板制造方法-CN201880019033.7在审
发明人：茅野真吾;堂园哲孝;山内宽之;柏原康宏 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2018-01-18 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明提供一种不需要伴随于蚀刻处理的掩蔽处理、并且能够将侧蚀的影响抑制到最小限度的液晶面板制造方法。液晶面板制造方法至少包括改性线形成步骤、槽形成步骤、蚀刻步骤和切割步骤。在改性线形成步骤中，针对阵列基板及彩色滤光片基板形成具有比其它部位更容易被蚀刻的性质的改性线，该改性线沿着与液晶面板的形状相对应的形状切割预定线而形成。在槽形成步骤中，针对彩色滤光片基板，沿着用于去除该彩色滤光片基板中的与阵列基板的电极端子部对置的区域的端子部切割预定线而形成槽。
改性彩色滤光片基板液晶面板制造蚀刻线形成步骤阵列基板槽形成电极端子部切割预定线蚀刻处理形状切割掩蔽处理液晶面板最小限度端子部预定线侧蚀对置去除切割

[发明专利]显示装置制造方法-CN201780036286.0在审
发明人：田村达彦 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2017-05-16 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： G09F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种不进行有机树脂膜与玻璃基板的剥离而用简单的方法可进行弯曲的显示装置，根据本发明的显示装置制造方法，包括：在玻璃基板(12)的第一主面上形成有机树脂膜(14)的步骤；在有机树脂膜上形成包括显示元件的层(16、18、20)的步骤；以及通过由耐蚀刻性部件(22)覆盖包括有机树脂膜的玻璃基板的第一主面侧，并且对第二主面侧进行蚀刻，从而使玻璃基板薄型化的步骤。
有机树脂膜玻璃基板显示装置主面蚀刻耐蚀刻性显示元件薄型化制造剥离覆盖

[发明专利]显示装置制造方法-CN201780037628.0在审
发明人：田村达彦;柏原康宏 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2017-05-30 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：本发明提供一种不进行有机树脂膜与玻璃基板的剥离而用简单的方法可进行弯曲的显示装置，显示装置制造方法包括：在支承玻璃(20)的第一主面上形成聚酰亚胺膜(12)的步骤；在聚酰亚胺膜(12)上形成包括透明电极层(14)和发光层(16)的显示元件的步骤；以及通过由保护膜(22)覆盖包括聚酰亚胺膜(12)的支承玻璃(20)的第一主面侧，并且对第二主面侧进行蚀刻，从而去除支承玻璃(20)的步骤。
聚酰亚胺膜显示装置支承玻璃主面蚀刻透明电极层有机树脂膜玻璃基板显示元件保护膜发光层去除制造剥离覆盖

[发明专利]化学研磨装置-CN201380021332.1有效
发明人：西山荣 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2013-05-29 - 公布日： 2016-12-28 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备多个搬送辊(50)以及处理室(16、18、20、22)，多个搬送辊(50)构成为在水平方向搬送玻璃基板，处理室(16、18、20、22)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板进行化学研磨处理。处理室(16、18、20、22)至少具有处理槽(161)与回收槽(162)。处理槽(161)构成为在与由搬送辊(50)搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。回收槽(162)构成为回收从处理槽(161)溢出的化学研磨液。
化学研磨装置

[发明专利]化学研磨装置-CN201380021338.9在审
发明人：西山荣 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2013-05-29 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备第1研磨处理部(4)、第2研磨处理部(2)与洗涤部(70)。第1研磨处理部(4)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用第1处理液进行化学研磨处理。所述第2研磨处理部(2)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用与所述第1处理液不同的第2处理液进行化学研磨处理。洗涤部(70)构成为配置于搬送通路的第1研磨处理部(4)的下游侧且第2研磨处理部(2)的上游侧，洗涤附着于所述玻璃基板(100)的处理液。
化学研磨装置

[发明专利]化学研磨装置-CN201380007542.5有效
发明人：西山荣 -专利权人： 株式会社NSC
申请日： 2013-01-28 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备有多个搬送辊(50)以及多个喷射管(322)。多个搬送辊(50)构成为分别从下面支承玻璃基板(100)的同时向水平方向搬送玻璃基板(100)。喷射管(322)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板(100)至少从下侧喷射研磨液。此外，喷射管(322)以利用研磨液至少使化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。
化学研磨装置

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