专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种有机硅修饰量子点的制备方法-CN201911273321.8有效
  • 孙小卫;王恺;杨鸿成;刘乙樽;徐冰;李祥;吴耿锋;陈家宝 - 深圳扑浪创新科技有限公司
  • 2019-12-12 - 2023-10-27 - C08L83/04
  • 本发明提供一种有机硅修饰量子点的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:(1)将阳离子源与聚硅氧烷溶剂混合分散,得到阳离子前驱体溶液;(2)向阳离子前驱体溶液中注入阴离子源溶液,反应,得到所述有机硅修饰量子点。所述制备方法通过聚硅氧烷溶液的引入直接合成了表面含有硅氧烷配体的量子点,无需后续通过硅烷偶联剂做进一步修饰,避免了修饰过程对量子点光学性能的影响。本发明提供的制备方法得到的有机硅修饰量子点荧光量子产率高、粒径均一,通过所述有机硅修饰量子点制备的薄膜的量子效率高、发光性能好。因此,本发明提供的制备方法简便、高效,可以得到光学性能好的有机硅修饰量子点,具有广阔的工业化推广前景。
  • 一种有机硅修饰量子制备方法
  • [发明专利]一种光刻胶,含有其的像素化光致发光彩膜及其用途-CN201910137512.5有效
  • 孙小卫;王恺;白雪;杨鸿成 - 深圳扑浪创新科技有限公司;南方科技大学
  • 2019-02-25 - 2022-05-24 - G03F7/004
  • 本发明提供了一种光刻胶,含有其的像素化光致发光彩膜及其用途,所述光刻胶包括光刻胶本体以及分散在光刻胶本体中的表面修饰有羧基的光致发光材料,所述光致发光材料包括量子点、量子棒、纳米片层或钙钛矿晶体中的任意一种或至少两种的混合物;本发明通过将表面修饰羧基的光致发光材料与光刻胶本体复配使用,能够提高光致发光材料在光刻胶本体中的分散性,在不影响光致发光材料量子产率的前提下尽可能的减少光致发光材料在光刻胶固化过程中出现的团聚、空洞等缺陷,该复配光刻胶固化后可以作为像素化光致发光彩膜等背光或显示材料使用,相较其他现有产品具有更高的背光吸收度、发光柔和度、色彩纯度和显示色域,能够获得更高品质的显示效果。
  • 一种光刻含有像素光致发光及其用途

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