专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种加热盘及薄膜沉积设备-CN202320800931.4有效
  • 李镐赞 - 无锡金源半导体科技有限公司
  • 2023-04-11 - 2023-10-20 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种加热盘及薄膜沉积设备,加热盘包括载台、连接轴以及加热件,载台的任一端面成型为外沿高于中心的凹面结构,连接轴垂直连接于载台另一端面,凹面结构沿连接轴的轴线方向截面为弓形,凹面结构适于承载待加热的晶圆,且与晶圆围合成为工作腔。载台产生的热量传递至工作腔中,热量在工作腔中均匀化,在晶圆的下表面呈现均匀的热量,从而使得晶圆边缘处的受热与中心处的受热更加接近,更容易满足工艺要求的同时提高了良品率。同时,由于载台外沿高度高于中心区域,因此该加热盘的载台的边沿部分形变至与晶圆边缘脱离接触需要更长周期,从而缓解了由于载台形变带来的晶圆受热不均的问题,进一步提高了晶圆的良品率。
  • 一种加热薄膜沉积设备
  • [实用新型]一种喷淋组件及薄膜沉积装置-CN202321170850.7有效
  • 李镐赞 - 无锡金源半导体科技有限公司
  • 2023-05-16 - 2023-09-15 - C23C16/455
  • 本实用新型的喷淋组件和薄膜沉积装置,包括上盖板、引流部、喷淋部以及加热器;所述上盖板的中央具有第一进气通道;所述引流部与所述上盖板共同限定形成预热气流路径,所述引流部底部的中央设有第二进气通道,所述加热器位于所述引流部内,且围绕所述第二进气通道设置;所述预热气流路径位于所述加热器与上盖板之间,且连通所述第一进气通道和所述第二进气通道,适于预热从所述第一进气通道至第二进气通道的反应气体。在第二进气通道上方设置预热气流路径,可以在反应气体从第二进气通道排出之前,提前进行预热,使反应气体后续喷淋至薄膜沉积装置的反应腔体时,减少反应气体温度不均匀的情况,提高了薄膜的沉积均匀性。
  • 一种喷淋组件薄膜沉积装置
  • [发明专利]一种喷淋组件及薄膜沉积装置-CN202310547454.X在审
  • 李镐赞 - 无锡金源半导体科技有限公司
  • 2023-05-16 - 2023-08-01 - C23C16/455
  • 本公开的喷淋组件和薄膜沉积装置,包括上盖板、引流部、喷淋部以及加热器;所述上盖板的中央具有第一进气通道;所述引流部与所述上盖板共同限定形成预热气流路径,所述引流部底部的中央设有第二进气通道,所述加热器位于所述引流部内,且围绕所述第二进气通道设置;所述预热气流路径位于所述加热器与上盖板之间,且连通所述第一进气通道和所述第二进气通道,适于预热从所述第一进气通道至第二进气通道的反应气体。在第二进气通道上方设置预热气流路径,可以在反应气体从第二进气通道排出之前,提前进行预热,使反应气体后续喷淋至薄膜沉积装置的反应腔体时,减少反应气体温度不均匀的情况,提高了薄膜的沉积均匀性。
  • 一种喷淋组件薄膜沉积装置

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