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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]发光复合物和发光结构体与光学片材及电子装置-CN201811541087.8在审
发明人： 李恩庆;郑知永;朴正一 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： C09K11/02 文献下载
摘要：本发明涉及发光复合物和发光结构体与光学片材及电子装置。发光复合物包括发光元件和结合至所述发光元件并且围绕所述发光元件的三维保护结构。所述三维保护结构包括SiO_3/2部分和能聚合的官能团。
发光复合物发光元件发光结构体保护结构电子装置光学片材三维聚合

[发明专利]用于编结鞋类的鞋楦系统-CN201580067707.7有效
发明人：罗伯特·M·布鲁斯;李恩庆;C·K·希尔斯 -专利权人：耐克创新有限合伙公司
申请日： 2015-10-15 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： A43B1/04 文献下载
摘要：鞋类物品可以包括编结鞋面。可以使用物品形成构件和编结装置来制造编结鞋面的结构。物品形成构件包括主体部分以及凸缘部分，主体部分实质上类似于用于制鞋的鞋楦，凸缘部分从主体部分向外延伸。物品形成构件以不同的定向移动经过编结装置，这可以提高编结效率、增强编结图案、以及增强编结鞋面的结构支撑。
用于编结鞋类系统

[发明专利]稠合多环杂芳族化合物、包括所述化合物的有机薄膜和包括有机薄膜的电子器件-CN201610064600.3有效
发明人：朴正一;宫碕荣吾;李恩庆;崔雅净 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2016-01-29 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： C07D495/22 文献下载
摘要：提供稠合多环杂芳族化合物、包括所述化合物的有机薄膜和包括有机薄膜的电子器件。所述稠合多环杂芳族化合物由化学式1A或1B表示，且具有其中八个或更多个环高度地稠合在一起的紧凑的平面结构，并且因此呈现出高的在分子之间的电荷迁移率。所述有机薄膜包括所述稠合多环杂芳族化合物且所述电子器件包括所述薄膜作为载流子传输层。
稠合多环杂芳族化合物包括有机薄膜电子器件

[发明专利]具有多圈线轴的编织机-CN201610643650.7有效
发明人： 李恩庆 -专利权人：耐克创新有限合伙公司
申请日： 2016-08-08 - 公布日： 2019-08-09 - 主分类号： D04C3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有多圈线轴的编织机。公开了一种编织机。编织机包括用于传递线轴的数个圈。内圈和外圈可以包括转子金属件。中间圈可以包括移锤轮。线轴可以沿着内圈和外圈传递，并且中间圈中的移锤轮允许线轴在内圈和外圈之间来回传递。
具有线轴织机

[发明专利]铜及钼含有膜的蚀刻液组合物-CN201410487573.1有效
发明人： 李恩庆;殷熙天;金世训;申孝燮 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2014-09-22 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种蚀刻铜及钼含有膜时，控制钼或钼合金膜的侧蚀，实现稳定的蚀刻工程，并可改善蚀刻锥角、蚀刻偏差和蚀刻直线度等蚀刻特性的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物中，相对于总重量，过氧化氢的含量为10至30重量％，蚀刻抑制剂的含量为0.1至5重量％，螯合剂的含量为0.1至5重量％，蚀刻添加剂的含量为0.1至5重量％，氟化物的含量为0.01至2重量％，侧蚀抑制剂的含量为0.01至2重量％，及使总重量达到100重量％的水。
含有蚀刻组合

[发明专利]铜及钼含有膜的蚀刻液组合物-CN201810996546.5在审
发明人： 李恩庆;殷熙天;金世训;申孝燮 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2014-09-22 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种蚀刻铜及钼含有膜时，控制钼或钼合金膜的侧蚀，实现稳定的蚀刻工程，并可改善蚀刻锥角、蚀刻偏差和蚀刻直线度等蚀刻特性的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物中，相对于总重量，过氧化氢的含量为10至30重量％，蚀刻抑制剂的含量为0.1至5重量％，螯合剂的含量为0.1至5重量％，蚀刻添加剂的含量为0.1至5重量％，氟化物的含量为0.01至2重量％，侧蚀抑制剂的含量为0.01至2重量％，及使总重量达到100重量％的水。
蚀刻蚀刻液组合物侧蚀过氧化氢的蚀刻添加剂蚀刻抑制剂蚀刻特性氟化物抑制剂直线度钼合金螯合剂锥角

[发明专利]铜及钼含有膜的蚀刻液组合物-CN201410489479.X有效
发明人：金世训;李宝妍;李恩庆;金涩琪;殷熙天;申孝燮 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2014-09-22 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种蚀刻液组合物，在蚀刻含有铜及钼的膜时，即使铜膜的厚度较厚，也可加快铜膜蚀刻的速度，维持钼含有膜较高的蚀刻速度，防止配线段不良。所述蚀刻液组合物是含有作为氧化剂的过氧化氢和过硫酸盐的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于所述过氧化氢100重量份，含有0.5～10重量份的所述过硫酸盐。
含有蚀刻组合

[实用新型]鞋面组件和鞋类物品-CN201620854644.1有效
发明人：罗伯特·M·布鲁斯;李恩庆 -专利权人：耐克创新有限合伙公司
申请日： 2016-08-08 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： A43B23/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及鞋面组件和鞋类物品。物品包括具有外部编织结构和内部编织结构的两层编织鞋面组件。编织结构可以具有不同的编织图案。双层鞋面组件可使用具有多圈线轴的编织机器来制造。
鞋面组件鞋类物品

[发明专利]一种治疗暑湿型流感的中药及其制备方法和应用-CN201510011340.9在审
发明人：陈孝银;李恩庆 -专利权人：暨南大学
申请日： 2015-01-09 - 公布日： 2015-04-08 - 主分类号： A61K36/704 文献下载
摘要：本发明公开了一种治疗暑湿型流感的中药及其制备方法和应用。该中药由下述按重量份数计的中药原料制备而成：金银花5～40份、藿香10～30份、香薷5～30份、紫苏叶10～30份、岗梅根5～40份、崩大碗5～35份、土牛膝根10～40份、叶下珠5～30份、火炭母5～40份和三桠苦5～40份。本发明的药物经过临床上的使用，治疗暑湿型流感，药效好，抗病毒强，无毒副作用，服用方便。本发明中药，采用传统中药配制方法，保留了药物的药性，具有清热解毒，祛湿清瘟的功效，达到防治流感的目的，是预防和治疗暑湿型流感的良好中药。
一种治疗暑湿型流感中药及其制备方法应用

[发明专利]铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物-CN201410012683.2在审
发明人：金世训;李恩庆;李宝妍;申孝燮 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2014-01-10 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种铜/钼或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的铜/钼或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，包括同时具有醇基和胺基的化合物的蚀刻稳定剂。本发明的蚀刻液组合物在反复进行蚀刻工程，蚀刻液内金属离子的含量较高时，可维持蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等蚀刻特性，应用在TFT-LCD显示器，OLED电极制造等上。
合金蚀刻组合

[发明专利]铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物-CN201410012600.X有效
发明人：申孝燮;李恩庆;金世训 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2014-01-10 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： C23F1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的蚀刻液组合物，对于组合物的总重量，包含：5至40%重量的过氧化氢，0.1至5%重量的蚀刻抑制剂，0.1至5%重量的螯合剂，0.1至5%重量的蚀刻添加剂，0.01至2%重量的氟化物，0.01至2%重量的双氧水稳定剂，0.1至5%重量的无机溴化合物及余量的水且使全部组合物的总重量为100%重量。所述无机溴化合物为溴无机酸盐、氮化溴、硫化溴、氟化溴、氯化溴或其混合物。本发明的蚀刻液组合物在反复进行蚀刻工程，蚀刻液内金属离子的含量较高时，不仅可维持蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等蚀刻特性，也可作为下部膜，应用在TFT-LCD显示器电极制造等上。
合金蚀刻组合

[发明专利]钼合金膜及铟氧化膜的蚀刻液组合物-CN201280051864.5有效
发明人：申孝燮;金世训;李恩庆;柳炫圭 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2012-11-07 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： C23F1/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种钼合金膜及铟氧化膜的蚀刻液组合物，尤其是一种用于钼合金膜、铟氧化膜或钼合金膜和铟氧化膜的多重膜的蚀刻液组合物，基于整体组合物总重量，其包含：5%至25%重量百分比的过氧化氢，0.1%至2重量百分比%的腐蚀抑制剂，0.1%至2%重量百分比的全氟化合物，0.1%至2%重量百分比的全氯化合物，0.1%至5%重量百分比的双氧水稳定剂及使整体组合物的重量百分比达到100%的水。本发明的目的在于，对用于TFT-LCD像素电极上的钼合金膜、铟氧化膜或钼合金膜与铟氧化膜的多重膜进行蚀刻时，控制析出物的生成，提高蚀刻设备的耐久性，可最大程度地减小对用于TFT源极和漏极的铜的腐蚀。
合金氧化蚀刻组合

[发明专利]铜钼合金膜的蚀刻液组合物-CN201280051862.6有效
发明人：申孝燮;金世训;李恩庆;丁镇培;李相大;韩斗锡 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2012-11-12 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种铜钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的蚀刻液组合物，相对于整体组合物的总重量，包含：5%至40%重量百分比的过氧化氢，0.01%至5%重量百分比的同时含有氮原子和硫原子的化合物，0.1%至5%重量百分比的有机酸，0.1%至5%重量百分比的杂环化合物，0.1%至5%中重量百分比的螯合剂，0.01至1重量百分比%的氟化物及使整体组合物的总重量达到100%的水。本发明的蚀刻液组合物在反复进行蚀刻工程、蚀刻液内的金属离子的含量较高时，也可以维持蚀刻锥角、蚀刻精度及蚀刻直线度等蚀刻特性，可有效地应用在TFT-LCD显示器电极制造上。
合金蚀刻组合

[发明专利]增大蚀刻液蚀刻用量的铜/钼合金膜的蚀刻方法-CN201280040139.8有效
发明人：申孝燮;丁镇培;金世训;李恩庆 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2012-08-09 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： H01L21/3063 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于TFT-LCD制造的铜/钼合金膜用蚀刻液的蚀刻用量的增加方法，依据本发明的方法，在使用铜/钼合金膜用蚀刻液进行反复蚀刻时，可使其所发生的蚀刻速度、锥度曲线、蚀刻直线度等低下的蚀刻特性得以恢复，并可增加蚀刻液的蚀刻用量，从而可显著地降低TFT-LCD等的制造费用。
增大蚀刻用量合金方法

[发明专利]铜钼合金膜的蚀刻液组合物-CN201310398710.X有效
发明人： 李恩庆;金世训;申孝燮;李宝妍 -专利权人：易安爱富科技有限公司
申请日： 2013-09-04 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种铜钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的蚀刻液组合物，对于组合物的总重量，包含：5至40重量%的过氧化氢，0.1至5重量%的蚀刻抑制剂，0.1至5重量%的螯合剂，0.1至5重量%的蚀刻添加剂，0.01至2重量%的氟化物，0.01至2重量%的双氧水稳定剂，0.01至2重量%的玻璃蚀刻抑制剂及全部组合物总重量的100重量%的水。本发明的蚀刻液组合物在同时蚀刻铜/钼合金膜时，可最大程度地减慢作为栅极及源漏极的下部膜玻璃基板和SiNx的蚀刻速度，并最大程度地减少后处理工程及返工工程和薄化工程中的不合格，从而降低制造费用。
合金蚀刻组合

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