专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]业务处理方法及装置-CN201910442090.2有效
  • 关塞;李家昌 - 深圳市腾讯计算机系统有限公司
  • 2019-05-24 - 2023-09-05 - G06Q10/04
  • 本申请实施例公开了一种业务处理方法及装置,该方法包括:目标终端从目标业务的第一业务参与方所使用的第一终端获取第一业务参与方的第一历史业务处理次数,并从目标业务的第二业务参与方所使用的第二终端获取第二业务参与方的第二历史业务处理次数;确定业务处理次数集合;根据第一历史业务处理次数、第二历史业务处理次数以及业务处理次数集合中任一业务处理次数组合所包括的第一预设业务处理次数、第二预设业务处理次数,确定出任一业务处理次数组合的发生概率;根据各业务处理次数组合的发生概率从第一业务参与方和第二业务参与方中确定出目标业务的业务主导方。采用本申请实施例,可提高对业务主导方的预测准确性,适用性高。
  • 业务处理方法装置
  • [发明专利]风险评估方法、装置及终端-CN201910135801.1有效
  • 王伟;曾凡;关塞;李家昌;聂利权;陈洁远;万志颖;阮华;于洋 - 腾讯科技(深圳)有限公司
  • 2019-02-20 - 2023-04-18 - G06F21/57
  • 本发明实施例公开了一种风险评估方法、装置及终端,其中方法包括:在检测到针对目标机器的风险评估触发事件时,获取目标机器相关的知识图谱,该目标机器的各个机器数据作为实体数据或者作为实体数据的属性值记录在知识图谱上,知识图谱还记录了各个机器数据之间的关系;确定用于对目标机器进行风险评估的风险评估算法,并确定风险评估算法所需的风险评估指标;根据知识图谱记录的各个机器数据之间的关系从知识图谱记录的机器数据中查找出与风险评估指标相关的关联机器数据,并根据关联机器数据确定风险评估指标的指标值;根据风险评估算法和风险评估指标的指标值对目标机器进行风险评估;可以更好地对目标机器进行风险评估。
  • 风险评估方法装置终端
  • [发明专利]一种LED芯粒刻蚀方法-CN202211533079.5在审
  • 鲁日彬;林武;钟伟华;李慧敏;李景浩;蔡武;李家昌 - 福建兆元光电有限公司
  • 2022-12-01 - 2023-04-04 - H01L21/306
  • 本发明公开一种LED芯粒刻蚀方法,按照预设腔体制程温度对芯粒进行刻蚀,得到最终刻蚀后的芯粒,所述预设腔体制程温度小于0℃;使用氮气对所述最终刻蚀后的芯粒进行吹扫,得到芯粒成品,通过降低腔体制程温度以及将刻蚀后的吹扫气体改为氮气,能够降低刻蚀速率,提高刻蚀稳定性,从而提高刻蚀均匀性,使得片源的金属刻蚀深度处于所设定的区间内,不会出现区域过蚀刻,避免底层金属裸露与后续制程过程中的液体接触而造成金属氧化,防止了刻蚀后裸露的金属氧化。
  • 一种led刻蚀方法
  • [实用新型]一种试验用高压套管-CN202222888516.7有效
  • 郭漂龙;卓海涛;禤树权;陈金龙;李家昌;卢永峰 - 广州正航电力工程有限公司
  • 2022-10-28 - 2023-03-14 - G01R31/16
  • 本实用新型公开了一种试验用高压套管,包括防护套筒,所述防护套筒的内部滑动连接有导电杆;通过在防护套筒的一端转动连接的调节环,导电杆螺纹连接于调节环的内侧,在调节环的外侧固定连接有绝缘套环,转动绝缘套环,调节环就能随之转动,从而可以使导电杆移动,若是防护套筒和设备套管之间的距离加长,则弹簧的长度边长,反之则变短,弹簧的两端分别固定连接有第一压垫和第二压垫,调节环转动连接于第一压垫的一侧,第二压垫固定连接于设备套管的一端,便于稳定导电杆调节后的长度,使弹簧的弹力顶住设备套管和防护套筒,在使用时可以降低安装所需的时间,只需要调节合适的长度即可使用,提高试验的工作效率。
  • 一种试验高压套管
  • [发明专利]一种干法刻蚀方法-CN202211272272.8在审
  • 钟伟华;林武;鲁日彬;李景浩;李慧敏;蔡武;黄友鑫;李家昌 - 福建兆元光电有限公司
  • 2022-10-18 - 2023-03-07 - B08B5/00
  • 本发明公开一种干法刻蚀方法,在腔体内使用氧气产生自由原子;吹扫去除所述自由原子,得到清洁后的腔体;在所述清洁后的腔体内对片源进行干法刻蚀;干法刻蚀完成后,在所述腔体内使用氮气吹扫,利用氧气自由原子以化学方法蚀除有机物的同时,不会刻蚀基片,再通过吹扫清除刻蚀残留物,在刻蚀完成后进行氮气吹扫,有效去除吸附在片源表面的刻蚀残留气体及刻蚀生成物,并去除刻蚀盘及传递腔内刻蚀残留气体及刻蚀生成物,避免吸附在片源上,从而有效去除片源表面的刻蚀麻点。
  • 一种刻蚀方法

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