专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种空气桥的制备方法及一种超导量子器件-CN202110823371.X在审
  • 杨晖;李坤锋;王念慈;张亮;王晨 - 合肥本源量子计算科技有限责任公司
  • 2021-07-21 - 2023-02-07 - B81C1/00
  • 本申请公开了一种空气桥的制备方法,属于量子信息领域,尤其是量子计算技术领域。所述方法包括:提供形成有外延层的衬底,所述外延层包括分隔的第一子层和第二子层;形成桥支撑层于所述第一子层和所述第二子层之间;形成金属层于所述衬底在所述桥支撑层一侧的表面,所述金属层包括覆盖所述桥支撑层且连接所述第一子层和所述第二子层的空气桥;形成抗蚀层覆盖所述空气桥;依次利用第一刻蚀液和第二刻蚀液刻蚀去除裸露的所述金属层,且所述第二刻蚀液的浓度小于所述第一刻蚀液的浓度;去除所述抗蚀层和所述桥支撑层获得所述空气桥。本方案能够制备出将分隔的第一子层和第二子层连接的空气桥,且不易对外延层造成损伤。
  • 一种空气制备方法超导量子器件
  • [实用新型]一种用于制备铟柱的掩模、量子芯片-CN202221839400.8有效
  • 张辉;尤兵;马亮亮;张亮;王念慈;李坤锋 - 合肥本源量子计算科技有限责任公司
  • 2022-07-15 - 2022-12-06 - G03F1/00
  • 本申请公开了一种用于制备铟柱的掩模,所述掩模用于限定沉积在衬底上的金属铟以获得铟柱,所述掩模包括用于覆盖所述衬底的阻挡层,所述阻挡层能够溶于有机溶剂,所述阻挡层具有第一沉积窗,所述第一沉积窗暴露出所述衬底上用于形成铟柱的区域;以及与所述阻挡层层叠的牺牲层,所述牺牲层具有与所述第一沉积窗对应的第二沉积窗。本申请中,所述掩模具有阻挡层,能够将牺牲层与衬底隔离开,避免牺牲层直接与衬底相接处,因此,采用本申请提出的掩模制备铟柱,可以在制备过程中避免牺牲层残留在衬底上,并且,所述阻挡层能够溶于有机溶剂,从而避免阻挡层残留在衬底上,有效保证了量子芯片的性能。
  • 一种用于制备量子芯片

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