专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]图形化石墨烯的制备方法-CN202110645459.7在审
  • 朱虹延;吴天如;顾杰斌;张超;高渤翔 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2021-06-10 - 2022-12-13 - C01B32/184
  • 本发明提供一种图形化石墨烯的制备方法,采用碳化硅基体作为固态碳源,在高温和催化剂的作用下,分解碳化硅,以在绝缘衬底上直接生长石墨烯,且通过容纳通道中第一图形化沟槽及第二图形化沟槽,可直接控制形成的石墨烯的形貌,从而本发明可在绝缘衬底上精确定位图形化石墨烯的位置,无需再次转移石墨烯,避免了对石墨烯的污染以及其结构的破坏,无需通过光刻、离子刻蚀等工艺对石墨烯进行加工,即可获得图形化石墨烯,避免了对石墨烯的损伤和破坏,可以制备图形复杂、大尺寸、高质量的石墨烯,解决了以往石墨烯图形化过程中成本高、易受污染,质量差等问题。
  • 图形化石制备方法
  • [发明专利]一种石墨烯薄膜的制备方法-CN201911030351.6有效
  • 朱虹延;吴天如;陈吉;张超;时志远;于广辉 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2019-10-28 - 2022-09-02 - C01B32/188
  • 本发明涉及二维材料制备技术领域,特别涉及一种石墨烯薄膜的制备方法,包括:在碳化硅基底上设置催化剂得到反应样品;将所述反应样品加热至第一预设温度;将所述反应样品保温第一预设时长;其中,所述催化剂的熔点低于第一预设温度,所述催化剂的沸点高于第一预设温度;所述碳化硅基底包含的硅原子能够溶解在液态的所述催化剂中。本发明采用液态催化剂,以碳化硅为基底及固态碳源,通过高温催化碳化硅热分解,并在液态催化剂中溶解硅原子,剩余碳原子在液态催化剂与碳化硅的界面处重排,生成石墨烯。无需额外气态碳源,降低了制备过程中的工艺难度,且所得石墨烯无需转移,在电子器件等方面具有巨大的应用潜力。
  • 一种石墨薄膜制备方法

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