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[实用新型]一种纵向检测载板变形量的设备及系统-CN202220592823.8有效
发明人：李王俊;王凤鸣;朱乾成;王朝;李五杨 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司;苏州迈正科技有限公司
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及了一种纵向检测载板变形量的设备及系统。该纵向检测载板变形量的设备包括真空镀膜腔室，真空镀膜腔室的上部盖板上设置有穿透孔，盖板上部对应穿透孔的位置设置有观察窗模组；观察窗模组的上方设置有激光测距模组，激光测距模组包括激光测距传感器，激光测距模组的发射光线竖直指向位于真空镀膜腔室中的载板；激光测距传感器发出的激光穿过观察窗模组后检测激光测距模组与载板之间的距离，从而检测载板的变形量。该设备能够及时准确地检测载板在真空镀膜腔室中的变形量，当变形量达到预设的警报值时，在载板传出真空镀膜腔室后，替换该变形量大的载板，可防止卡板，确保设备稳定运转。
一种纵向检测变形设备系统

[实用新型]一种横向检测载板变形量的设备及系统-CN202220592824.2有效
发明人：李王俊;孙健;朱乾成;王朝;李五杨 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司;苏州迈正科技有限公司
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G01B11/16 文献下载
摘要：本实用新型属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种横向检测载板变形量的设备及系统。该设备包括真空镀膜腔室和激光对射机构，激光对射机构包括分别设置于真空镀膜腔室的两个相对的侧板上的激光发射端模组和激光接收端模组；侧板对应激光发射端模组和激光接收端模组的位置均设置有一穿透孔，其中，激光发射端模组和激光接收端模组在竖直方向上高度一致，以便激光发射端模组发出的检测光线通过穿透孔和真空镀膜腔室后被激光接收端模组接收；当位于真空镀膜腔室中的载板的鼓起量超过阈值时，检测光线被阻断时，从而触发警报。该设备能够及时准确地检测载板在真空镀膜腔室中的变形量，及时替换变形量大的载板以防止卡板，确保设备稳定地运转。
一种横向检测变形设备系统

[实用新型]一种镀膜治具和镀膜装置-CN202021388589.4有效
发明人：马奔希;陈晨;朱乾成;周剑;沈章大 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镀膜治具和镀膜装置，镀膜治具包括框体，所述框体具有四个侧边，所述侧边包括：侧边本体、由所述侧边本体向所框体内延伸的凸起，各所述侧边本体在所述凸起的一侧围成膜片空间，各所述凸起用于承接所述膜片空间内的膜片；所述侧边本体朝向所述膜片空间的一侧上形成第一斜面，所述膜片搭设在各所述凸起上时，所述膜片的边缘与所述侧边本体的第一斜面与之间形成间隙。膜片搭设在四个凸起上时，膜片的边缘与第一斜面之间形成间隙，在进行镀膜时，膜片边缘与第一斜面之间具有间隙便于真空镀膜的进行，提升膜片边缘的镀膜速率，进而提升膜片整体的镀膜质量。
一种镀膜装置

[发明专利]一种镀膜治具和镀膜装置-CN202010679166.6在审
发明人：马奔希;陈晨;朱乾成;周剑;沈章大 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明涉及一种镀膜治具和镀膜装置，镀膜治具包括框体，所述框体具有四个侧边，所述侧边包括：侧边本体、由所述侧边本体向所框体内延伸的凸起，各所述侧边本体在所述凸起的一侧围成膜片空间，各所述凸起用于承接所述膜片空间内的膜片；所述侧边本体朝向所述膜片空间的一侧上形成第一斜面，所述膜片搭设在各所述凸起上时，所述膜片的边缘与所述侧边本体的第一斜面与之间形成间隙。膜片搭设在四个凸起上时，膜片的边缘与第一斜面之间形成间隙，在进行镀膜时，膜片边缘与第一斜面之间具有间隙便于真空镀膜的进行，提升膜片边缘的镀膜速率，进而提升膜片整体的镀膜质量。
一种镀膜装置

[发明专利]用于化学气相沉积系统的基板加热基座-CN201110166633.6有效
发明人：许国青;李一成;傅作伟;朱乾成 -专利权人：理想能源设备（上海）有限公司
申请日： 2011-06-20 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于化学气相沉积系统的基板加热基座，其包括上表面，待处理基板设置在所述上表面上，所述上表面包括中心部分和围绕所述中心部分的边缘部分，所述上表面的边缘部分的表面粗糙度大于或等于Rz30μm且小于或等于Rz50μm。本发明可有效增加薄膜在边缘部分的粘附力，防止边缘部分上的薄膜脱落后影响沉积工艺。
用于化学沉积系统加热基座